JPH05134400A - フオトマスクの現像エツチング装置洗浄用治具 - Google Patents
フオトマスクの現像エツチング装置洗浄用治具Info
- Publication number
- JPH05134400A JPH05134400A JP30045291A JP30045291A JPH05134400A JP H05134400 A JPH05134400 A JP H05134400A JP 30045291 A JP30045291 A JP 30045291A JP 30045291 A JP30045291 A JP 30045291A JP H05134400 A JPH05134400 A JP H05134400A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- chamber
- photomask
- pure water
- development
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Weting (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】半導体装置などの製造に利用されるフォトマス
クの現像エッチング装置のチャンバー内全体に純水等の
洗浄用の液体を飛散させる。 【構成】三次元曲面を持った洗浄用治具１をフォトマス
クホルダー２にセットし、モーター３によって回転さ
せ、同時に現像エッチング装置のスプレーノズルから純
水等の洗浄用の液体をスプレーする。 【効果】チャンバー内の隅々まで純水または洗浄のため
の薬液を飛散させることができ、チャンバー内に付着し
ている現像液やエッチング液を洗い流すことができ、チ
ャンバー内をクリーンな状態に保つことができる。ま
た、チャンバー内をクリーンな状態に保てるので、フォ
トマスクの製造に於てパターン欠陥等の不良が殆どなく
なり、作業者によって装置の洗浄を行う必要もなくなる
ため作業効率が上がる。
クの現像エッチング装置のチャンバー内全体に純水等の
洗浄用の液体を飛散させる。 【構成】三次元曲面を持った洗浄用治具１をフォトマス
クホルダー２にセットし、モーター３によって回転さ
せ、同時に現像エッチング装置のスプレーノズルから純
水等の洗浄用の液体をスプレーする。 【効果】チャンバー内の隅々まで純水または洗浄のため
の薬液を飛散させることができ、チャンバー内に付着し
ている現像液やエッチング液を洗い流すことができ、チ
ャンバー内をクリーンな状態に保つことができる。ま
た、チャンバー内をクリーンな状態に保てるので、フォ
トマスクの製造に於てパターン欠陥等の不良が殆どなく
なり、作業者によって装置の洗浄を行う必要もなくなる
ため作業効率が上がる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置などの製造に
利用されるフォトマスクの現像エッチング装置に関す
る。
利用されるフォトマスクの現像エッチング装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来のフォトマスクのスプレー式現像エ
ッチング装置は、現像液やエッチング液をフォトマスク
基板にスプレーした際に、チャンバー内をそれらの薬液
によって汚してしまった場合、チャンバー内に付着した
薬液を除去する方法としては、図４の様に６のダミーの
フォトマスクを現像エッチングチャンバー内の２のホル
ダーにセットし、それを３のモーターによって回転させ
ながら、図５の様に７のスプレーノズルから純水等の洗
浄用の液体を噴出させ、６のダミーのフォトマスクに当
てることによってそれらの液体をチャンバー内に飛散さ
せる方法が取られていた。
ッチング装置は、現像液やエッチング液をフォトマスク
基板にスプレーした際に、チャンバー内をそれらの薬液
によって汚してしまった場合、チャンバー内に付着した
薬液を除去する方法としては、図４の様に６のダミーの
フォトマスクを現像エッチングチャンバー内の２のホル
ダーにセットし、それを３のモーターによって回転させ
ながら、図５の様に７のスプレーノズルから純水等の洗
浄用の液体を噴出させ、６のダミーのフォトマスクに当
てることによってそれらの液体をチャンバー内に飛散さ
せる方法が取られていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、チャンバー内
にダミーのフォトマスクをセットし、それを回転させな
がらスプレーノズルから純水等の洗浄用の液体を噴出さ
せ、それらの液体をチャンバー内に飛散させる方法は、
純水等の洗浄用の液体をチャンバー内全域に飛散させる
ことができず、洗浄の効果が十分ではなかった。
にダミーのフォトマスクをセットし、それを回転させな
がらスプレーノズルから純水等の洗浄用の液体を噴出さ
せ、それらの液体をチャンバー内に飛散させる方法は、
純水等の洗浄用の液体をチャンバー内全域に飛散させる
ことができず、洗浄の効果が十分ではなかった。
【０００４】そこで本発明は、純水等の洗浄用の液体を
現像エッチング装置のチャンバー内全域に飛散させるこ
とを目的とする。
現像エッチング装置のチャンバー内全域に飛散させるこ
とを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】そこで本発明のフォトマ
スクの現像エッチング装置の洗浄用治具は、フォトマス
クの現像エッチング装置洗浄用治具に於て、純水をチャ
ンバー内全域に飛散させるための三次元曲面を持つこと
を特徴とする。
スクの現像エッチング装置の洗浄用治具は、フォトマス
クの現像エッチング装置洗浄用治具に於て、純水をチャ
ンバー内全域に飛散させるための三次元曲面を持つこと
を特徴とする。
【０００６】
【実施例】図１、図２、及び図３に本発明の実施例を載
せる。
せる。
【０００７】図１の１は本発明のフォトマスクの現像エ
ッチング装置の洗浄用治具、２は現像エッチング装置の
フォトマスクのホルダー、３は２のホルダーを回転させ
るためのモーターである。１の洗浄用治具を２のフォト
マスクホルダーにセットし、３のモーターによって回転
させ、同時に現像エッチング装置のスプレーノズルから
純水等の洗浄用の液体をスプレーする。これによりスプ
レーノズルから洗浄用治具にスプレーされた純水等の液
体は１の洗浄用治具の側面に当り、その治具自体が回転
しているためにその側面からはじき飛ばされ、現像エッ
チング装置のチャンバー内の隅々に飛散しチャンバー内
全体に広がり、その結果チャンバー内に付着した現像液
やエッチング液を洗い流すことができる。
ッチング装置の洗浄用治具、２は現像エッチング装置の
フォトマスクのホルダー、３は２のホルダーを回転させ
るためのモーターである。１の洗浄用治具を２のフォト
マスクホルダーにセットし、３のモーターによって回転
させ、同時に現像エッチング装置のスプレーノズルから
純水等の洗浄用の液体をスプレーする。これによりスプ
レーノズルから洗浄用治具にスプレーされた純水等の液
体は１の洗浄用治具の側面に当り、その治具自体が回転
しているためにその側面からはじき飛ばされ、現像エッ
チング装置のチャンバー内の隅々に飛散しチャンバー内
全体に広がり、その結果チャンバー内に付着した現像液
やエッチング液を洗い流すことができる。
【０００８】図２の４も本発明の現像エッチング装置の
洗浄用治具である。これは図１の１の洗浄用治具と形状
が異なり、この治具の場合図１の１の洗浄用治具のよう
に治具の側面に純水等の洗浄用の液体をスプレーし、そ
の回転する側面によって純水等の液体をはじき飛ばすの
ではなく、一旦４の洗浄用治具中央部の凹んだ部分にそ
の洗浄用の液体を貯め、その治具を回転させたときの遠
心力によってその液体をチャンバー内に飛散させるもの
である。この時４の洗浄用治具の周辺部が中央部より滑
らかにカーブして持ち上がっているために、遠心力によ
って飛ばされる純水または洗浄用の薬液はチャンバー内
の上部にまで飛散する。
洗浄用治具である。これは図１の１の洗浄用治具と形状
が異なり、この治具の場合図１の１の洗浄用治具のよう
に治具の側面に純水等の洗浄用の液体をスプレーし、そ
の回転する側面によって純水等の液体をはじき飛ばすの
ではなく、一旦４の洗浄用治具中央部の凹んだ部分にそ
の洗浄用の液体を貯め、その治具を回転させたときの遠
心力によってその液体をチャンバー内に飛散させるもの
である。この時４の洗浄用治具の周辺部が中央部より滑
らかにカーブして持ち上がっているために、遠心力によ
って飛ばされる純水または洗浄用の薬液はチャンバー内
の上部にまで飛散する。
【０００９】図３の５も本発明の現像エッチング装置の
洗浄用治具である。この５の洗浄用治具については、図
１の １の洗浄用治具と図２の４の洗浄用治具の洗浄効
果を両方とも合わせもっている。５の洗浄用治具を２の
ホルダーにセットして３のモーターを回転させ、同時に
現像エッチング装置のスプレーノズルから純水等の洗浄
用の液体をスプレーする。これによりスプレーノズルか
ら洗浄用治具にスプレーされた純水等の薬液は５の洗浄
用治具の側面に当り、その治具自体が回転しているため
にその側面からはじき飛ばされ、現像エッチング装置の
チャンバー内の隅々に飛散しチャンバー内全体に広が
り、その結果チャンバー内に付着した現像液やエッチン
グ液を洗い流すことができる。そしてそれと同時に、５
の洗浄用治具の外周部にある凹みにスプレーされた純水
等の洗浄用の液体を貯め、その治具を回転させたときの
遠心力によってそれらの液体をチャンバー内に飛散させ
ることも行う。この時４の洗浄用治具の周辺部が中央部
より滑らかにカーブして持ち上がっているために、遠心
力によって飛ばされる純水または洗浄用の薬液はチャン
バー内の上部にまで飛散する。これによってもチャンバ
ー内に付着した現像液やエッチング液を洗い流すことが
できる。
洗浄用治具である。この５の洗浄用治具については、図
１の １の洗浄用治具と図２の４の洗浄用治具の洗浄効
果を両方とも合わせもっている。５の洗浄用治具を２の
ホルダーにセットして３のモーターを回転させ、同時に
現像エッチング装置のスプレーノズルから純水等の洗浄
用の液体をスプレーする。これによりスプレーノズルか
ら洗浄用治具にスプレーされた純水等の薬液は５の洗浄
用治具の側面に当り、その治具自体が回転しているため
にその側面からはじき飛ばされ、現像エッチング装置の
チャンバー内の隅々に飛散しチャンバー内全体に広が
り、その結果チャンバー内に付着した現像液やエッチン
グ液を洗い流すことができる。そしてそれと同時に、５
の洗浄用治具の外周部にある凹みにスプレーされた純水
等の洗浄用の液体を貯め、その治具を回転させたときの
遠心力によってそれらの液体をチャンバー内に飛散させ
ることも行う。この時４の洗浄用治具の周辺部が中央部
より滑らかにカーブして持ち上がっているために、遠心
力によって飛ばされる純水または洗浄用の薬液はチャン
バー内の上部にまで飛散する。これによってもチャンバ
ー内に付着した現像液やエッチング液を洗い流すことが
できる。
【００１０】本発明の現像エッチング装置の洗浄用治具
としては、以上のような３パターンの形状を実施例とし
て挙げたが、この他にも現像エッチング装置のホルダー
にセットすることが可能な形状の３次元曲面を持った治
具全てについても本発明の実施例として適用する。
としては、以上のような３パターンの形状を実施例とし
て挙げたが、この他にも現像エッチング装置のホルダー
にセットすることが可能な形状の３次元曲面を持った治
具全てについても本発明の実施例として適用する。
【００１１】また、洗浄用治具の材質としては弗素化合
物樹脂が最適であると考えられるが、使用する液体によ
ってはその他の化合物樹脂や石英ガラスなどを用いても
よい。
物樹脂が最適であると考えられるが、使用する液体によ
ってはその他の化合物樹脂や石英ガラスなどを用いても
よい。
【００１２】
【発明の効果】このように、本発明のフォトマスクの現
像エッチング装置の洗浄用治具を用いて現像エッチング
装置のチャンバー内の洗浄を行うと、チャンバー内の隅
々まで純水または洗浄のための薬液を飛散させることが
でき、チャンバー内に付着している現像液やエッチング
液を洗い流すことができ、チャンバー内をクリーンな状
態に保つことができる。
像エッチング装置の洗浄用治具を用いて現像エッチング
装置のチャンバー内の洗浄を行うと、チャンバー内の隅
々まで純水または洗浄のための薬液を飛散させることが
でき、チャンバー内に付着している現像液やエッチング
液を洗い流すことができ、チャンバー内をクリーンな状
態に保つことができる。
【００１３】また、チャンバー内をクリーンな状態に保
てるので、フォトマスクの製造に於てパターン欠陥等の
不良が殆どなくなり、作業者によって装置の洗浄を行う
必要もなくなるため作業効率が上がるという効果もあ
る。
てるので、フォトマスクの製造に於てパターン欠陥等の
不良が殆どなくなり、作業者によって装置の洗浄を行う
必要もなくなるため作業効率が上がるという効果もあ
る。
【図１】本発明のフォトマスクの現像エッチング装置の
洗浄用治具外観図。
洗浄用治具外観図。
【図２】本発明のフォトマスクの現像エッチング装置の
洗浄用治具外観図。
洗浄用治具外観図。
【図３】本発明のフォトマスクの現像エッチング装置の
洗浄用治具外観図。
洗浄用治具外観図。
【図４】従来の洗浄方法説明図。
【図５】従来の洗浄方法説明図。
１‥‥洗浄用治具 ２‥‥フォトマスクホルダー ３‥‥ホルダー回転用モーター ４‥‥洗浄用治具 ５‥‥洗浄用治具 ６‥‥ダミーフォトマスク ７‥‥スプレーノズル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１ Ｎ 8831−4Ｍ 21/306 Ｋ 7342−4Ｍ
Claims (1)
- 【請求項１】 フォトマスクの現像エッチング装置洗浄
用治具に於て、純水をチャンバー内全域に飛散させるた
めの三次元曲面を持つことを特徴とするフォトマスクの
現像エッチング装置洗浄用治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30045291A JPH05134400A (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | フオトマスクの現像エツチング装置洗浄用治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30045291A JPH05134400A (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | フオトマスクの現像エツチング装置洗浄用治具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05134400A true JPH05134400A (ja) | 1993-05-28 |
Family
ID=17884974
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30045291A Pending JPH05134400A (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | フオトマスクの現像エツチング装置洗浄用治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05134400A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009187996A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-08-20 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
| WO2015029563A1 (ja) * | 2013-08-28 | 2015-03-05 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 洗浄用治具、洗浄用治具セット、洗浄用基板、洗浄方法および基板処理装置 |
| JP2015046461A (ja) * | 2013-08-28 | 2015-03-12 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置、洗浄用治具、洗浄用治具セット、および洗浄方法 |
| JP2015046457A (ja) * | 2013-08-28 | 2015-03-12 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および洗浄用治具 |
| JP2015050326A (ja) * | 2013-09-02 | 2015-03-16 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置 |
| JP2015050408A (ja) * | 2013-09-04 | 2015-03-16 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および洗浄用基板 |
-
1991
- 1991-11-15 JP JP30045291A patent/JPH05134400A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009187996A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-08-20 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
| KR101223354B1 (ko) * | 2008-02-04 | 2013-01-16 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 |
| WO2015029563A1 (ja) * | 2013-08-28 | 2015-03-05 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 洗浄用治具、洗浄用治具セット、洗浄用基板、洗浄方法および基板処理装置 |
| JP2015046461A (ja) * | 2013-08-28 | 2015-03-12 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置、洗浄用治具、洗浄用治具セット、および洗浄方法 |
| JP2015046457A (ja) * | 2013-08-28 | 2015-03-12 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および洗浄用治具 |
| TWI600476B (zh) * | 2013-08-28 | 2017-10-01 | 斯克林集團公司 | 洗淨用治具、洗淨用治具組、洗淨用基板、洗淨方法及基板處理裝置 |
| JP2015050326A (ja) * | 2013-09-02 | 2015-03-16 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置 |
| JP2015050408A (ja) * | 2013-09-04 | 2015-03-16 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および洗浄用基板 |
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