JPH0546375B2 - - Google Patents

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JPH0546375B2
JPH0546375B2 JP50163683A JP50163683A JPH0546375B2 JP H0546375 B2 JPH0546375 B2 JP H0546375B2 JP 50163683 A JP50163683 A JP 50163683A JP 50163683 A JP50163683 A JP 50163683A JP H0546375 B2 JPH0546375 B2 JP H0546375B2
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JP
Japan
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formula
silicone
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organic
norbornane
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Honnson Ryan
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General Electric Co
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General Electric Co
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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)

Description

請求の範囲 1 次式(): のノルボルナン終端ポリジオルガノシロキサンと
次式(): のポリイミドとが化学結合してなるシリコーン−
イミド共重合体。 式()中のRは一価C(1-13)炭化水素基及び一
価置換C(1-13)炭化水素基から選択され、R1〜R6
水素、ハロゲン及び同じまたは異なる一価C(1-13)
炭化水素基及び一価置換C(1-13)炭化水素基から選
択され、R7は(a)6〜20個の炭素原子を有する芳
香族炭化水素基及びそのハロゲン化誘導体、(b)2
〜20個の炭素原子を有するアルキレン基及びシク
ロアルキレン基、C(2-8)アルキレン終端ポリジオ
ルガノシロキサン、及び(c)次式: に包含される二価の基よりなる群から選択される
二価C(2-20)有機基であり、Q′は −O−、
【式】
【式】−S−及び −CXH2X− よりなる群から選択される基であり、xは1〜5
の整数であり、Zは−O−及び−C(R12−から
選択される二価の基であり、nは1〜2000に等し
い整数であり; 式()中のQは
【式】および
【式】 よりなる群から選択される四価有機基であり、D
は −O−、−S−、
【式】
【式】−OR9O−及び から選択される基であり、R8は水素及びRから
選択され、R9
【式】
【式】
【式】
及び一般式; の二価有機基よりなる群から選択される基であ
り、Xは次式: −CYH2Y−、
【式】
【式】及び −S−、 の二価の基よりなる群から選択される基であり、
mは0または1であり、yは1〜5の整数であ
り、R7は(a)6〜20個の炭素原子を有する芳香族
炭化水素基及びそのハロゲン化誘導体、(b)2〜20
個の炭素原子を有するアルキレン基及びシクロア
ルキレン基、C(2-8)アルキレン終端ポリジオルガ
ノシロキサン、及び(c)次式: に包含される二価の基よりなる群から選択される
二価C(2-20)有機基であり、Q′は −O−、
【式】
【式】−S−及び −CXH2X− よりなる群から選択される基であり、xは1〜5
の整数であり、aは1〜1000に等しい整数であ
り、bは0〜200に等しい整数であり、a+bの
和は10〜1000に等しい。 2 Rがメチルである特許請求の範囲第1項記載
のシリコーン−イミド共重合体。 3 Qが である特許請求の範囲第1項記載のシリコーン−
イミド共重合体。 4 Qが である特許請求の範囲第1項記載のシリコーン−
イミド共重合体。 5 R7である特許請求の範囲第1項記載のシリコーン−
イミド共重合体。 6 R7である特許請求の範囲第1項記載のシリコーン−
イミド共重合体。 7 R1〜R6が水素で、Zが−CH2−である特許
請求の範囲第1項記載のシリコーン−イミド共重
合体。 8 次式のノルボルナン終端ポリジオルガノシロ
キサンが化学結合してなる特許請求の範囲第1項
記載のシリコーン−イミド共重合体。 式中R7は二価のC(2-20)有機基である。 9 R7である特許請求の範囲第8項記載のシリコーン−
イミド共重合体。 10 R7である特許請求の範囲第8項記載のシリコーン−
イミド共重合体。 関連出願の提示 本出願は、同日付で出願され本発明と同一譲受
人に譲渡された本発明者の特表昭59−501208「シ
リルノルボルナン無水物および製造方法」に関連
した出願である。 発明の背景 本発明は、ノルボルナン無水物終端オルガノポ
リシロキサンおよび有機ジアミンの使用に基づく
オルガノポリシロキサン−ポリイミド共重合体に
関する。 本発明以前には、Holubの米国特許第3325450
号およびHeathらの米国特許第3847867号に示さ
れているように、芳香族ビス(無水物)とアミン
オルガノ終端ポリジオルガノシロキサンとの反応
によつてシリコーン−ポリイミド共重合体を製造
した。例えばHolubは他のジアミン、例えばm−
フエニレンジアミンの使用と共にアミノプロピル
ポリジメチルシロキサンおよびアミンブチルテト
ラメチルジシロキサンを使用することを示してい
る。このようなシリコーン−ポリイミドブロツク
重合体の製造により、例えば耐熱性電気絶縁体と
して有用な価値の高い組成物が得られる。 関連出願特表昭59−501208号公報に示されてい
るように、次式: 〔式中のRは一価C(1-13)炭化水素基および一価置
換C(1-13)炭化水素基から選択され、R1〜R6は水
素、ハロゲンおよび同じまたは異なる一価C(1-13)
炭化水素基および一価置換C(1-13)炭化水素基から
選択され、Zは−O−および−C(R12−から選
択される二価の基であり、YはRおよび から選択される基であり、nは0〜2000に等しい
整数、mは0〜500に等しい整数であり、n+m
の和は0〜2000に等しい〕のノルボルナン終端ポ
リジオルガノシロキサンは、次の反応式で示され
るように、白金触媒の存在下でノルボンネン無水
物およびその誘導体と水素化珪素とのヒドロシラ
ン化反応(hydrosilation)によつて形成できる。 ここでR1〜R6、Zおよびnは前記定義の通り。 R内に包含される基の例には、アリール基およ
びハロゲン化アリール基、例えばフエニル、クロ
ロフエニル、トリル、キシリル、ビフエニル、ナ
フチルなど;アルケニル基、例えばビニル、アリ
ル、シクロヘキセニルなど;C(1-8)アルキル基お
よびハロゲン化アルキル、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、オクチルなどがある。 R1〜R6内に包含される基は、例えば水素、ク
ロロおよび上で定義した通りのR基である。 関連出願特表昭59−501208号公報に示された別
の方法は、nが2000より小さい式(1)の範囲内に二
無水物を環状オルガノポリシロキサン、例えばオ
クタメチルシクロテトラシロキサンと酸触媒、例
えば硫酸の存在下で平衡化反応させる方法であ
る。 本発明は、熱酸化安定性に優れ熱変形温度が非
常に高いシリコーン−ポリイミド共重合体が、式
(1)のノルボルナン無水物終端ポリジオルガノシロ
キサンおよび次式: NH2R7NH2 (2) の有機ジアミンおよび所望に応じて次式: の有機二無水物間の反応を行うことによつて形成
できるとの知見に基づく。ここでQは
【式】および
【式】 よりなる群から選択される四価有機基であり、D
は −O−、−S−、
【式】−C−、− OR9O− および
【式】 から選択される基であり、R8は水素およびRか
ら選択され、R9
【式】
【式】
【式】
および一般式: の二価有機基よりなる群から選択される基であ
り、Xは次式: −CyH2y−、
【式】
【式】および−S− の二価の基よりなる群から選択される基であり、
mは0または1で、yは1〜5の整数で、R7
(a)6〜20個の炭素原子を有する芳香族炭化水素基
およびそのハロゲン化誘導体、(b)2〜20個の炭素
原子を有するアルキレン基およびシクロアルキレ
ン基、C(2-8)アルキレン終端ポリジオルガノシロ
キサン、および(c)次式: に包含される二価の基よりなる群から選択される
二価C(2-20)有機基であり、Q′は −O−、
【式】
【式】−S−および−CX H2X− よりなる群から選択される基であり、xは1〜5
の整数である。 発明の開示 式(1)のノルボルナン終端ポリジオルガノシロキ
サンから、次式のノルボルナン終端ポリジオルガ
ノシロキサンを含むシリコーン−ポリイミド共重
合体が予想された。 ここでR〜R7、Z、mおよびnは前記定義の
通り、Y′はRおよび次式: を有する基から選択される。 本発明に包含されるシリコーン−イミド共重合
体は、次式: のノルボルナン終端ポリジオルガノシロキサンと
次式: のポリイミドとが化学結合してなる。ここでR〜
R7、QおよびZは前記定義の通りnは1〜2000
に等しい整数、aは1〜1000に等しい整数、bは
0〜200に等しい整数であり、a+bの和は10〜
1000に等しい。 本発明の実施にあたつて式(1)のノルボルナン無
水物終端シロキサンと組合せて使用できる式(3)の
有機二無水物は、例えばピロメリツト酸二無水
物、ベンゾフエノン二無水物、本発明と同じ譲受
人に譲渡されたHeathらの米国特許第3879428号
の芳香族ビス(エーテル無水物)、次式: の二無水物、およびこれらの混合物である。ここ
でR7およびR8は前記定義の通り。 式(2)の有機ジアミンに含まれる化合物は、例え
ば次の通り。 m−フエニレンジアミン、 p−フエニレンジアミン、 4,4′−ジアミノジフエニルプロパン、 4,4′−ジアミノジフエニルメタン、 ベンジジン、 4,4′−ジアミノジフエニルスルフイド 4,4′−ジアミノジフエニルスルホン、 4,4′−ジアミノジフエニルエーテル、 1,5−ジアミノナフタレン、 3,3′−ジメチルベンジジン、 3.3′−ジメトキシベンジジン、 2,4−ジアミノトルエン、 2,6−ジアミノトルエン、 2,4−ビス(アミノ−t−ブチル)トルエン、 1,3−ジアミノ−4−イソプロピルベンゼン、 1,2−ビス(3−アミノプロポキシ)エタン、 m−キシリレンジアミン、 p−キシリレンジアミン、 ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、 デカメチレンジアミン、 3−メチルヘプタメチレンジアミン、 4,4−ジメチルヘプタメチレンジアミン、 2,11−ドデカンジアミン、 2,2−ジメチルプロピレンジアミン、 オクタメチレンジアミン、 3−メトキシヘキサメチレンジアミン、 2,5−ジメチルヘキサメチレンジアミン、 2,5−ジメチルヘプタメチレンジアミン、 3−メチルヘプタメチレンジアミン、 5−メチルノナチレンジアミン、 1,4−シクロヘキサンジアミン、 1,15−オクタデカンジアミン、 ビス(3−アミノプロピル)スルフイド、 N−メチル−ビス(3−アミノプロピル)アミ
ン、 ヘキサメチレンジアミン、 ヘプタメチレンジアミン、 2,4−ジアミノトルエン、 ノナメチレンジアミン、 2,6−ジアミノトルエン、 ビス−(3−アミノプロピル)テトラメチルジシ
ロキサン など。 シリコーン−ポリイミド共重合体は2工程の手
順で合成でき、ほゞ等モル量の式(2)の有機ジアミ
ンおよび式(1)のノルボルナン終端ポリジオルガノ
シロキサンの反応を、または所望に応じて式(3)の
有機二無水物と共に、有機ジアミンと二無水物の
合計モル数をほゞ同じにし、周囲温度で不活性有
機溶剤の存在下で行う。室温で最初に形成された
中間体ポリアミド酸を次に高温、例えば150℃〜
220℃で環化脱水する。 シリコーン−イミド共重合体を形成するのに使
用できる別の方法では、ほゞ等モル量の式(2)の有
機ジアミンおよびノルボルナン二無水物および所
望に応じて他の有機二無水物を不活性有機溶剤、
例えばo−ジクロロベンゼン、m−クレゾールな
どの中で還流させる。 双極性中性溶剤、例えばジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリド
ンをプレポリマーの製造に使用することができ
る。ノルボルナン無水物終端ポリジオルガノシオ
ロサンと少くとも1種の他の有機二無水物とを
種々のモル割合で配合したものを、ぼゞ等モル量
の有機ジアミンと反応させて広範なシリコーン−
ポリイミドブロツク重合体を生成することができ
る。 本発明のシリコーン−ポリイミド共重合体は、
電気導体用の絶縁体、接着剤、成形用コンパウン
ド、コーテイングとして、また積層品および強靭
なエラストマーを製造するために使用することが
できる。 当業者が本発明をよく実施できるように、以下
に実施例を限定としてでなく、例示として示す。
部はすべて重量部である。 実施例 69.4g(0.42モル)の5−ノルボルネン−2,
3−ジカルボン酸無水物、26.8g(0.2モル)の
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンおよ
び100mlの乾燥クロロベンゼンの混合物に、かき
まぜながら、本発明と同じ譲受人に譲渡された
Karstedtの米国特許第3775442号に従つて調製し
た5%白金触媒10滴を加えた。得られた混合物を
かきまぜながら70〜80℃に4時間、次いで100〜
110℃に1夜加熱した。冷却後、カーボンブラツ
クを加え、溶液を室温で30分間かきまぜた。過
し、溶剤を真空ポンプで100℃で除去し、乾燥ジ
エチルエーテルを加えたところ、白色の結晶質固
体が沈澱した。製造法に基づいて、この生成物は
次式を有する5,5′−(1,1,3,3−テトラ
メチル−1,3−ジシロキサンジイル)−ビス−
ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物であ
つた。 ブロツク共重合体を含めて一連のシリコーン−
イミド共重合体を、上記5,5′−(1,1,3,
3−テトラメチル−1,3−ジシロキサンジイ
ル)−ビス−ノルボルナン−2,3−ジカルボン
酸二無水物(以下NSDAと称す)およびベンゾ
フエソンテトラカルボン酸二無水物(BPDA)
の種々の混合物から製造した。 0.991g(5×10-3モル)のメチレンジアニリ
ンおよび5mlのジメチルホルムアミドの溶液に、
窒素中でかきまぜながら、0.457g(10-3モル)
のNSDA、1.289g(4×10-3モル)のBPDAお
よび5mlのジメチルホルムアミドの混合物を加え
た。得られた溶液を室温で2時間かきまぜた。シ
リコーン−アミド酸共重合体が得られた。次に溶
液をガラス皿に注ぎ、窒素流中に保つた炉内で80
℃で1時間、次いで150℃で2時間乾燥した。製
造法、IRおよびNMR分析に基づいて、実質的に
次式: のノルボルナン終端ジメチルシロキサン単位と次
式: のイミド単位とが化学結合してなるシリコーン−
ポリイミド共重合体が得られた。 同じ手順を繰返して、次式で示されるような、
別のシリコーン−イミドブロツク共重合体を製造
した。 これら共重合体のガラス転移温度(Tg)を差
動走査熱量法(DSC)で測定し、下記の表に示
す。下表には上式中のb、cおよびdの値も示
す。これら共重合体の熱酸化安定性を熱重量分析
(TGA)で測定した。これら共重合体のN2およ
び空気中での10%減量温度も示す。
【表】 上記の結果から、本発明のシリコーン−イミド
共重合体を、優れた酸化安定性を有する金属導体
用高温絶縁体として使用できることがわかる。例
えば、銅線をシリコーン−アミド酸共重合体のジ
メチルホルムアミド溶液に浸漬し、溶液から引抜
き、空気乾燥する。被覆銅線を次に200℃に加熱
して銅線上のアミド酸被膜をイミド状態に転化す
る。得られたシリコーン−イミド共重合体被膜は
優れた酸化安定性を有する優れた高温絶縁体であ
る。 上記実施例は本発明のシリコーン−イミド共重
合体の非常に多数の例の数例に言及しているにす
ぎないが、本発明は、これらの実施例に先立つ説
明で既に教示した通りに、式(1)のノルボルナン無
水物終端ポリジオルガノシロキサンを式(2)の有機
ジアミンと、また所望に応じて式(1)のノボルナン
無水物終端ポリジオルガノシロキサンを式(3)の他
の有機二無水物と混合して使用することに基づ
く、ブロツク共重合体を含む極めて広範な種々の
シリコーン−イミド共重合体に関することを理解
すべきである。
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