JPH0530663U - 電磁弁 - Google Patents

電磁弁

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Publication number
JPH0530663U
JPH0530663U JP087373U JP8737391U JPH0530663U JP H0530663 U JPH0530663 U JP H0530663U JP 087373 U JP087373 U JP 087373U JP 8737391 U JP8737391 U JP 8737391U JP H0530663 U JPH0530663 U JP H0530663U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
port
spring chamber
valve
spool valve
line
Prior art date
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Pending
Application number
JP087373U
Other languages
English (en)
Inventor
幹夫 鈴木
聰 数藤
孝一 高西
Original Assignee
豊田工機株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 豊田工機株式会社 filed Critical 豊田工機株式会社
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Publication of JPH0530663U publication Critical patent/JPH0530663U/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 電磁弁のリターンポートと連通する通路の形
成を容易にする。 【構成】 スプール弁2の下端はバネ室15に臨み、コ
イルバネ3により上方へ付勢されている。プランジャ5
2は電磁コイル4への通電により下方へ吸引され、シャ
フト51を介してスプール弁を下方へ移動せしめる。バ
ネ室15にはリターンポート12が開口しており、バネ
室15とラインポート11を連通する流路16が弁ハウ
ジング2の外周に凹設形成されている。スプール弁2の
上方移動で流路16が開き、ラインポート11の流体が
バネ室15を経てリターンポート12よりタンクへ戻
る。リターンポート12はバネ室15をタンク圧とする
ドレンポートの役割も兼ね、従来別々であったリターン
ポートとドレンポートを結ぶ通路を容易に形成すること
ができる。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は電磁弁に関し、特に電磁コイルにより駆動されるスプール弁を設けた リニア型電磁弁の構造改良に関する。
【0002】
【従来の技術】
自動変速機(A/T)のライン圧制御等の用途にリニア型電磁弁が使用されて おり、その一例を図3に示す。図において、非磁性体よりなる小径の下半部弁ハ ウジング1A内には上下に摺動自在にスプール弁2が配設してあり、弁ハウジン グ壁には長手方向の異なる位置にそれぞれラインポート11、リターンポート1 2、サプライポート13、ドレンポート14,19が設けてある。スプール弁2 の下端部が臨む弁ハウジング内空間はバネ室15となり、該バネ室15内に配設 したコイルバネ3によりスプール弁2は上方へ付勢されている。
【0003】 磁性体よりなる大径の上半部弁ハウジング1B内には中心に非磁性体のシャフ ト51が配設され、該シャフト51はベアリング54により上下動自在に支持さ れている。シャフト51の上端には磁性体のプランジャ52が固定され、また、 シャフト51の周囲にはボビンに巻回された電磁コイル53が設けてある。
【0004】 上記ドレンポート14,19はそれぞれ、ベアリング配設部に連通するベアリ ング室55とバネ室15とに開口し、電磁弁外の図略のタンクへ至る管路が接続 されてこれら各室15,55をタンク圧に維持している。ラインポート11はス プール弁2の上下位置に設けたランド21,22により、圧力流体を供給する管 路に通じるサプライポート13と上記タンクへ至る管路に通じるリターンポート 12とに選択的に連通せしめられる。
【0005】 電磁コイル4に通電すると、通電量に応じてプランジャ52とシャフト51が 下方へ移動し、バネ付勢力に抗してスプール弁2が下方へ移動せしめられる。ス プール弁2の下方移動に伴い、ランド22によりラインポート11とリターンポ ート12の連通面積が次第に減少せしめられ、完全に遮断されると、続いてラン ド21によりラインポート11とサプライポート13が連通せしめられて次第に その連通面積が大きくなる。かくして、スプール弁2を適当位置に移動せしめる ことにより、ラインポート11に圧力流体が供給され(図の破線)あるいはライ ンポート11より流体がタンクへ戻されて(図の実線)、ラインポート11の流 体圧が所定の制御圧に維持される。
【0006】 なお、ランド22はランド21よりも大径としてあって、制御圧を受ける両ラ ンド21,22の端面の面積差によりフィードバック力が発生するようにして、 フィードバック室を兼ねることにより、全長を短くして小型化を図っている。
【0007】
【考案が解決しようとする課題】
上記電磁弁は、ポートの数が多く、特にタンクと接続されるポートが3か所に 開口していて、これらポートをつなぐ通路を電磁弁が取付けられた機器に設ける 必要があり、その通路の形成に手間を要していた。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本考案の構成を説明すると、制御圧流体を出力するラインポート11と、ライ ンポート11の流体をタンクに戻すリターンポート12と、圧力流体を上記ライ ンポート11へ供給するサプライポート13とを弁ハウジング1壁に形成し、バ ネ室15内に配したバネ部材3により一端が押圧付勢されるとともに電磁コイル 4の電磁力を受けて上記バネ部材3の付勢力に抗して直線駆動されるスプール弁 2を上記弁ハウジング1内に設け、上記リターンポート12をバネ室15に開口 せしめるとともに、該バネ室15と上記ラインポート11を結ぶ流路16を上記 弁ハウジング1の外周部に凹設したものである。
【0009】
【作用】
上記構成において、電磁コイル4への通電量に応じてスプール弁2が移動し、 そのランド21により流路16が開放されている時はラインポート11は上記流 路16によりバネ室15を経てリターンポート12に連通せしめられる。また、 ランド21により流路16が閉じられている時はラインポート11がサプライポ ート13に連通せしめられる。このようにして、ラインポート11の圧力が所定 の制御圧に設定される。
【0010】 そして、本考案においては、ラインポート11と連通するリターンポート12 を、弁ハウジング1の外周部に凹設した流路16を経てバネ室15に設け、バネ 室15をタンク圧に維持するための従来のドレンポートの役割を兼ねるようにし た。
【0011】
【実施例】
図1において、電磁弁の弁ハウジング1は小径の下半部1Aと大径の上半部1 Bとよりなり、下半部の弁ハウジング1Aは取付機器側のハウジング6の取付穴 に嵌入され、その内部には上下動自在にスプール弁2が配設されて、その下端は バネ室15内に設けたコイルバネ3により上方へ付勢されている。上半部の弁ハ ウジング1B内には、基本構造を従来と同じくするシャフト51、プランジャ5 2、電磁コイル53が設けてあり、電磁コイル53非通電時には図の右半部の如 くスプール弁2はバネ付勢力により上端位置にある。電磁コイル53に通電する とプランジャ52は下方へ吸引され、シャフト51に押圧されてバネ付勢力に抗 しスプール弁2が下方へ移動する(図の左半部)。
【0012】 スプール弁2は上下の二か所を大径のランド21,22としてあり、上側のラ ンド22は下半部の弁ハウジング1Aの側壁に設けたドレンポート14とライン ポート11とを区画し、下側のランド21はその上端面にてサプライポート13 と上記ラインポート11の間を開閉する。
【0013】 スプール弁2の環状溝17を経て上記ラインポート11に通じ、これと反対側 の弁ハウジング1A側壁に凹設されてハウジングの嵌合面を側面の一部とする下 方へ延びる流路16(図2)が形成してあり、該流路16は下方の環状溝18に 至っている。そして、上記ランド21はその下端面によって環状溝18とバネ室 15の間を開閉する。このバネ室15の側壁には電磁弁外のタンクへ連通するリ ターンポート12が貫通開口している。なお、ランド22はランド21よりも大 径としてあって、制御圧を受ける両ランド21,22の端面の面積差によりスプ ール弁2を上方へ付勢するフィードバック力が発生せしめられる。またハウジン グ6には、それぞれのポートと対応して通路11a、12a、13a、14aが 形成されている。
【0014】 電磁コイル53に通電しない状態では、スプール弁2はバネ付勢力により図の 右半部に示すように上端位置にあり、ランド21の上端面によりラインポート1 1とサプライポート13とは遮断され、一方その下端面により環状溝18とバネ 室15の間は開放される。これにより、図の実線で示す如く、ラインポート11 の流体は流路16を経てバネ室15へ至り、リターンポート12、通路12aを 経てタンクへ戻される。
【0015】 電磁コイル53に通電すると、電磁力によりプランジャ52は下方へ吸引され 、バネ付勢力に抗してスプール弁2は下方へ移動する(図の左半部)。電磁コイ ル53への通電量に応じてスプール弁2は下方へ移動し、この移動に伴い流路1 6とバネ室15との連通面積は次第に小さくなり、その連通が遮断されると、次 に図の破線で示す如く、サプライポート13がラインポートに連通せしめられて その連通面積がスプール弁2の下方移動に伴い大きくなる。かくして、電磁コイ ル53への通電量を調整することにより、上記ラインポート11の流体圧が所望 の値に制御される。
【0016】 かくして、バネ室15に開口するリターンポート12は、ラインポート11の 流体をタンクへ戻す流路となるとともに、タンクに連通する上記バネ室15の内 圧を常にタンク圧に維持する作用をする。
【0017】
【考案の効果】
以上の如く、本考案の電磁弁によれば、ラインポートとバネ室のリターンポー トと結ぶ流路を弁ハウジング外周に凹設した構成からなり、ラインポートの流体 をタンクに戻すポートと、バネ室の内圧をタンク圧に維持するためのポートを結 ぶ流路を容易に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例を示す電磁弁の全体断面図で
ある。
【図2】図1のII−II線断面図である。
【図3】従来例を示す電磁弁の全体断面図である。
【符号の説明】
1 弁ハウジング 11 ラインポート 12 リターンポート 13 サプライポート 15 バネ室 16 流路 2 スプール弁 21 ランド 3 コイルバネ(バネ部材) 4 電磁コイル

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 制御圧流体を出力するラインポートと、
    ラインポートの流体をタンクに戻すリターンポートと、
    圧力流体を上記ラインポートへ供給するサプライポート
    とを弁ハウジング壁に形成し、バネ室内に配したバネ部
    材により一端が押圧付勢されるとともに電磁コイルの電
    磁力を受けて上記バネ部材の付勢力に抗して直線駆動さ
    れるスプール弁を上記弁ハウジング内に設け、上記リタ
    ーンポートをバネ室に開口せしめるとともに、該バネ室
    と上記ラインポートを結ぶ流路を上記弁ハウジングの外
    周部に凹設したことを特徴とする電磁弁。
JP087373U 1991-09-30 1991-09-30 電磁弁 Pending JPH0530663U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP087373U JPH0530663U (ja) 1991-09-30 1991-09-30 電磁弁

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP087373U JPH0530663U (ja) 1991-09-30 1991-09-30 電磁弁

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0530663U true JPH0530663U (ja) 1993-04-23

Family

ID=13913096

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP087373U Pending JPH0530663U (ja) 1991-09-30 1991-09-30 電磁弁

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0530663U (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01199079A (ja) * 1988-02-02 1989-08-10 Nissan Motor Co Ltd 電磁比例型制御弁の制御装置
JPH0341179U (ja) * 1989-08-28 1991-04-19

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01199079A (ja) * 1988-02-02 1989-08-10 Nissan Motor Co Ltd 電磁比例型制御弁の制御装置
JPH0341179U (ja) * 1989-08-28 1991-04-19

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