JPS6319604Y2 - - Google Patents

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JPS6319604Y2
JPS6319604Y2 JP8600382U JP8600382U JPS6319604Y2 JP S6319604 Y2 JPS6319604 Y2 JP S6319604Y2 JP 8600382 U JP8600382 U JP 8600382U JP 8600382 U JP8600382 U JP 8600382U JP S6319604 Y2 JPS6319604 Y2 JP S6319604Y2
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valve
flow control
electromagnetic flow
supply
discharge passage
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JP8600382U
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【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案は、ソレノイドの吸引力によつてスプー
ルを摺動させて作動流体の給排流量を制御する電
磁流量制御装置に関するものである。
〈従来の技術〉 一般にこの種の電磁流量制御装置Vを例えば第
1図に示すような流体圧回路に組込み、この電磁
流量制御装置Vを切換制御することによりポンプ
Pから流体圧シリンダCへ流入する作動流体なら
びに流体圧シリンダCからタンクTへ流出する作
動流体の流量を制御し、前記ピストンPの位置制
御を行うものがある。
このようなピストンPの位置制御等に用いられ
る電磁流量制御装置Vは、第2図に示すようにピ
ストンPの右進を制御する第1電磁流量制御バル
ブVaと、ピストンPの左進を制御する第2電磁
流量制御バルブVbより構成され、例えばピスト
ンPを右進させる場合には第1電磁流量制御バル
ブVaのソレノイド1aを励磁してスプール2a
を摺動させ、これによつてポンプPに通じる側部
弁室3aと流体圧シリンダCに通じる中央弁室4
間をスリツト5aを介して連通させ、そのスリツ
ト開度に応じた流量を流体圧シリンダCに供給
し、またピストンPを左進させる場合には第2電
磁流量制御バルブVbのソレノイド1bを励磁し
てスプール2bを摺動させ、これによつてタンク
Tに通じる側部弁室3bと流体圧シリンダCに通
じる中央弁室4b間をスリツト5bを介して連通
させ、そのスリツト開度に応じた流量を流体圧シ
リンダCよりタンクTに排出させたりしている。
〈考案が解決しようとする問題点〉 しかしながら、かかる従来装置は、ピストンP
の右進時には第1電磁流量制御バルブVaの側部
弁室3aからスリツト5aを介して中央弁室4へ
作動流体が通過し、またピストンPの左進時には
中央弁室4からスリツト5bを介して第2電磁流
量制御バルブVbの側部弁室3bへと作動流体が
通過するため、その作動流体の流れ方向が反対と
なつてスリツト5a,5bに作用するフローフオ
ースに差異が生じ、第5図Bに示すようにピスト
ンPの右進時と左進時とで制御特性がアンバラン
スとなる欠点があつた。
〈問題点を解決するための手段〉 本考案は、従来のこのような欠点を解消するた
めに考案された電磁流量制御装置であつて、その
電磁流量制御装置は、ソレノイドの吸引力にてス
プールを摺動させて第1弁室ならびに第2弁室間
を開閉制御するとともにこの第1,第2弁室間に
おける作動流体の流れ方向によつて制御特性の異
る互いに同一構成の第1,第2電磁流量制御バル
ブを有し、この第1電磁流量制御バルブの第1弁
室ならびに第2電磁流量制御バルブの第2弁室を
前記給排通路に接続し、第1電磁流量制御バルブ
の第2弁室を前記供給通路に接続し、第2電磁流
量制御バルブの第1弁室を前記排出通路に接続し
たことを特徴とするものである。
〈作用〉 本考案は上記構成を有しているため、上記第
1,第2電磁流量制御バルブの各ソレノイドに電
流を流すことで、各バルブのスプールが変位し、
供給通路と給排通路間あるいは給排通路と排出通
路間が選択的に連通制御され、両通路間を作動流
体が流れる。
このとき、その作動流体は前記通路の連通構成
により、各弁室に対し同じ方向に流れ込むため、
同じ制御特性となり、アンバランスは発生しなく
なる。
〈実施例〉 以下本考案の実施例を図面に基づいて説明す
る。第3図は本考案の電磁流量制御装置Vを示す
もので、ピストンPの右進を制御する第1電磁流
量制御バルブVaと、ピストンPの左進を制御す
る第2電磁流量制御バルブVbより構成されてい
る。これら第1,第2電磁流量制御バルブVa,
Vbは同一構成をなし、共通のバルブハウジング
11に対して互いに対向するように組付られてい
る。
すなわちこのバルブハウジング11には仕切壁
12を残して互いに逆方向に開口する一対の支持
孔13a,13bと、一端をそれぞれポンプP、
流体圧シリンダCならびにタンクTに通じる供給
通路14、給排通路15、排出通路16が形成さ
れている。前記支持孔13a,13bには磁性体
よりなるバルブ本体17a,17bが嵌合され、
このバルブ本体17a,17bと前記仕切壁12
との間にそれぞれ前記給排通路15ならびに排出
通路16と連通する第1弁室18a,18bを形
成している。
一方前記バルブ本体17a,17bには前記供
給通路14ならびに給排通路15にそれぞれ連通
する第2弁室19a,19bと弁孔22a,22
bが形成され、この弁孔22a,22bには磁性
体からなるスプール20a,20bがそれぞれ摺
動可能に嵌合される。このスプール20a,20
bの先端には第4図に示すように直径方向に切欠
かれたバイパス用スリツト21a,21bがそれ
ぞれ軸線方向に所定の長さに亘つて形成され、ス
プール20a,20bの軸方向移動によつてこの
スリツト21a,21bを前記第2弁室19a,
19bに対応させ、第1,第2弁室18a,18
b,19a,19b間を連通制御するようになつ
ている。
また前記バルブ本体17a,17bには非磁性
体よりなるスリーブ25,25が嵌着され、この
スリツト25a,25bの外周にはそれぞれ非磁
性体からなるボビン26a,26bに巻かれたソ
レノイド27a,27bが取付られ、またスリー
ブ25a,25bの内周端部には磁性体よりなる
ヨーク28a,28bが嵌着されている。このヨ
ーク28a,28bは前記スプール20a,20
bに対向配置され、ソレノイド27a,27bへ
の印加電流に応じた吸引力を前記スプール20
a,20bに付与するようになつている。
なお、30aおよび30bはスプール20a,
20bとヨーク28a,28bとの間に介挿され
た非磁性体よりなるスプリング、31aおよび3
1bはスプール20a,20bと仕切壁12との
間に介挿されたスプリングで、このスプリング3
0a,30b,31a,31bの撥力によつて前
記スプール20a,20bを所定位置に位置決め
するようになつている。33aおよび33bは前
記ソレノイド27a,27bを包囲するカバー
で、ボルト34a,34bによつて前記ヨーク2
8a,28bに固定されている。
上記構成の電磁流量制御装置Vにおいて、所定
の電流がソレノイド27aに印加されると、この
ソレノイド27aよりカバー33a、バルブ本体
17a、スプール20a、ヨーク28a、カバー
33aを通る磁束が形成され、これによつてスプ
ール20aにはソレノイド27aに印加された電
流に比例した吸引力が作用する。これによりバイ
パス用スリツト21aが第2弁室19aに開口
し、第1弁室18aならびに第2弁室19aが互
いに連通される。このバイパス用スリツト21a
の開口面積はソレノイド27aに印加される電流
に比例した大きさに設定され、流体圧シリンダC
には第5図に示すようにソレノイド27aに印加
される電流に比例した量の作動流体が供給され、
ピストンPを所定位置まで右進させる。
またソレノイド27bに所定の電流を印加した
場合には前記と同様、ソレノイド27bよりカバ
ー33b、バルブ本体17b、スプール20b、
ヨーク28b、カバー33bを通る磁束が形成さ
れ、これによつてスプール20bにはソレノイド
27bに印加された電流に比例した吸引力が発生
する。これによりスリツト21bが第2弁室19
bに開口し、第1弁室18bならびに第2弁室1
9bが互いに連通される。その結果このスリツト
21bの開口面積に応じた量の作動流体が流体圧
シリンダCよりタンクTへ排出され、ピストンP
は左進される。
このようにピストンPを所定の位置へ左進させ
る場合、あるいは右進させる場合のいずれの場合
でも、作動流体が前記スリツト21a,21bを
通過する際、スプール20a,20bに対してフ
ローフオースが作用する。しかるに本考案では、
上記いずれの場合でも作動流体を第2弁室19
a,19b側よりスリツト21a,21bを介し
て第1弁室18a,18bへと通過させているた
め、同じ条件でもつてスプール20a,21bに
フローフオースを作用させることができ、第5図
Aに示すようにピストンPの左進あるいは右進時
とでアンバランスのない制御特性を得ることがで
きる。
〈考案の効果〉 以上述べたように本考案は、同一構成の第1,
第2電磁流量制御バルブの各弁室に対して、この
作動流体の流れ方向を一致させることで同じ条件
でもつてフローフオースが発生するように供給通
路、排出通路ならびに供給通路を連通した構成で
あるため、第1,第2電磁流量制御バルブのいず
れを作動させた場合でも同じ制御特性となり、例
えばピストンの位置制御等に利用した場合、ピス
トン左進位置と右進位置にアンバランスがなくな
り、高精度な位置制御が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、電磁流量制御装置を流体圧シリンダ
の位置制御に利用した使用例を示す油圧回路図、
第2図は従来の電磁流量制御装置を示す断面図、
第3図は本考案の電磁流量制御装置の実施例を示
す断面図、第4図は第3図の−線断面矢視
図、第5図はソレノイドに印加される電流と流量
との関係を示す制御特性図である。 Va……第1電磁流量制御バルブ、Vb……第2
電磁流量制御バルブ、14……供給通路、15…
…給排通路、16……排出通路、18a,18b
……第1弁室、19a,19b……第2弁室、2
7a,27b……ソレノイド。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 供給通路、排出通路ならびに給排通路を有し、
    この給排通路を前記供給通路あるいは排出通路に
    選択的に連通させるとともにこの供給通路から給
    排通路へ流入する作動流体ならびに給排通路から
    排出通路へ流出する作動流体の流量を制御する電
    磁流量制御装置において、この電磁流量制御装置
    は、ソレノイドの吸引力にてスプールを摺動させ
    て第1弁室ならびに第2弁室間を開閉制御すると
    ともにこの第1,第2弁室間における作動流体の
    流れ方向によつて制御特性の異る互いに同一構成
    の第1,第2電磁流量制御バルブを有し、この第
    1電磁流量制御バルブの第1弁室ならびに第2電
    磁流量制御バルブの第2弁室を前記給排通路に接
    続し、第1電磁流量制御バルブの第2弁室を前記
    供給通路に接続し、第2電磁流量制御バルブの第
    1弁室を前記排出通路に接続したことを特徴とす
    る電磁流量制御装置。
JP8600382U 1982-06-08 1982-06-08 電磁流量制御装置 Granted JPS58187603U (ja)

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JP8600382U JPS58187603U (ja) 1982-06-08 1982-06-08 電磁流量制御装置

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JP8600382U JPS58187603U (ja) 1982-06-08 1982-06-08 電磁流量制御装置

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JPS58187603U JPS58187603U (ja) 1983-12-13
JPS6319604Y2 true JPS6319604Y2 (ja) 1988-06-01

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