JPH05217837A - Ｘｙ移動テーブル - Google Patents
Ｘｙ移動テーブルInfo
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- JPH05217837A JPH05217837A JP1917292A JP1917292A JPH05217837A JP H05217837 A JPH05217837 A JP H05217837A JP 1917292 A JP1917292 A JP 1917292A JP 1917292 A JP1917292 A JP 1917292A JP H05217837 A JPH05217837 A JP H05217837A
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- laser
- interferometer
- light
- wafer
- moving
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｘテーブル及びＹテーブル、ひいてはＸＹ移
動テーブル全体の小型軽量化を図ったものを提供する。 【構成】 Ｙ方向に移動するＹテーブル３と該Ｙテーブ
ル３上をこの移動方向と直交するＸ方向に移動するＸテ
ーブル５とを有し、レーザ干渉計１２を使用して前記各
テーブル３，５の位置を計測するようにしたＸＹ移動テ
ーブル１において、前記各テーブル３，５の側方にこの
各移動方向に沿って前記レーザ干渉計１２のレーザミラ
ー１１ａ，１１ｂを配置するとともに、前記Ｘテーブル
５の前記各レーザミラー１１ａ，１１ｂに対向する側縁
上に該対向する各レーザミラー１１ａ，１１ｂに向けて
前記レーザ干渉計１２のインターフェロメータ９ａ，９
ｂ，９ｃを配置したことを特徴とする。
動テーブル全体の小型軽量化を図ったものを提供する。 【構成】 Ｙ方向に移動するＹテーブル３と該Ｙテーブ
ル３上をこの移動方向と直交するＸ方向に移動するＸテ
ーブル５とを有し、レーザ干渉計１２を使用して前記各
テーブル３，５の位置を計測するようにしたＸＹ移動テ
ーブル１において、前記各テーブル３，５の側方にこの
各移動方向に沿って前記レーザ干渉計１２のレーザミラ
ー１１ａ，１１ｂを配置するとともに、前記Ｘテーブル
５の前記各レーザミラー１１ａ，１１ｂに対向する側縁
上に該対向する各レーザミラー１１ａ，１１ｂに向けて
前記レーザ干渉計１２のインターフェロメータ９ａ，９
ｂ，９ｃを配置したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、平面上を互いに直交す
る方向に移動するＸテーブルとＹテーブルとを有し、レ
ーザ干渉計を使用して前記各テーブルの位置を計測する
ようにした、例えばＸ線露光装置のウェハテーブル系と
して使用して最適なＸＹ移動テーブルに関する。
る方向に移動するＸテーブルとＹテーブルとを有し、レ
ーザ干渉計を使用して前記各テーブルの位置を計測する
ようにした、例えばＸ線露光装置のウェハテーブル系と
して使用して最適なＸＹ移動テーブルに関する。
【０００２】
【従来の技術】超ＬＳＩを製造する際に使用される装置
として、Ｘ線露光装置の開発が進められている。このＸ
線露光装置には、パターンの描かれたマスクを保持して
該マスクの位置及び姿勢を定めるマスクテーブル系と、
前記マスク上のパターンを転写するウェハを保持して該
ウェハの位置及び姿勢を定めるウェハテーブル系と、前
記マスク及びウェハの位置合わせ及び間隔設定に利用す
るアライメント光学系と、前記マスク及びウェハを交換
するローダと、露光雰囲気を確保するチャンバ等が一般
に備えられている。
として、Ｘ線露光装置の開発が進められている。このＸ
線露光装置には、パターンの描かれたマスクを保持して
該マスクの位置及び姿勢を定めるマスクテーブル系と、
前記マスク上のパターンを転写するウェハを保持して該
ウェハの位置及び姿勢を定めるウェハテーブル系と、前
記マスク及びウェハの位置合わせ及び間隔設定に利用す
るアライメント光学系と、前記マスク及びウェハを交換
するローダと、露光雰囲気を確保するチャンバ等が一般
に備えられている。
【０００３】ここに、マスクに描かれたパターンは、露
光光であるＸ線によってウェハ上に転写されるのである
が、マスク上のパターンは、通常１チップ分しか描かれ
ていない。このため、ウェハの全面に露光が行えるよ
う、ウェハテーブル系によってウェハを互いに直交する
平面上をＸ，Ｙ方向に平行移動させる必要がある。
光光であるＸ線によってウェハ上に転写されるのである
が、マスク上のパターンは、通常１チップ分しか描かれ
ていない。このため、ウェハの全面に露光が行えるよ
う、ウェハテーブル系によってウェハを互いに直交する
平面上をＸ，Ｙ方向に平行移動させる必要がある。
【０００４】ウェハは、大型のものになると直径が８イ
ンチもあり、この場合、ウェハの全面に転写を行うため
には、ウェハテーブル系のＸ，Ｙストロークを２００ｍ
ｍ程度とする必要がある。このため、この範囲での位置
をミクロンオーダ以下で計測するため、レーザ干渉計が
用いられている。
ンチもあり、この場合、ウェハの全面に転写を行うため
には、ウェハテーブル系のＸ，Ｙストロークを２００ｍ
ｍ程度とする必要がある。このため、この範囲での位置
をミクロンオーダ以下で計測するため、レーザ干渉計が
用いられている。
【０００５】また、ウェハテーブル系は、組み立て精度
等の問題で、一般にＸ，Ｙ面内（θ方向）で微小回転す
る（ヨーイング誤差）。ウェハテーブル系にこのヨーイ
ング誤差が生じると、ウェハもθ方向に微小回転し、そ
の周辺部での誤差が無視できなくなる。このため、この
ヨーイング誤差を補正する必要が生じ、例えばウェハテ
ーブル系上のＸ方向の２点での距離を求めて、この距離
の差からθ方向の変位を計測している。
等の問題で、一般にＸ，Ｙ面内（θ方向）で微小回転す
る（ヨーイング誤差）。ウェハテーブル系にこのヨーイ
ング誤差が生じると、ウェハもθ方向に微小回転し、そ
の周辺部での誤差が無視できなくなる。このため、この
ヨーイング誤差を補正する必要が生じ、例えばウェハテ
ーブル系上のＸ方向の２点での距離を求めて、この距離
の差からθ方向の変位を計測している。
【０００６】即ち、この種のウェハテーブル系において
は、ＸＹ方向の位置とθ方向の位置とを計るために、ウ
ェハテーブル系上のＹ方向の位置の１点と、Ｘ方向の２
点の位置とをレーザ干渉計を使って計測することが一般
に行われていた。
は、ＸＹ方向の位置とθ方向の位置とを計るために、ウ
ェハテーブル系上のＹ方向の位置の１点と、Ｘ方向の２
点の位置とをレーザ干渉計を使って計測することが一般
に行われていた。
【０００７】以下、上記ウェハテーブル系として使用さ
れている、従来の一般的なＸＹ移動テーブルについて、
図２を参照して説明する。
れている、従来の一般的なＸＹ移動テーブルについて、
図２を参照して説明する。
【０００８】即ち、このＸＹ移動テーブル１には、Ｙ方
向に平行に延びる一対のレール２に沿ってＹ方向に移動
自在な矩形状のＹテーブル３と、このＹテーブル３上に
Ｘ方向に平行に敷設された一対のレール４に沿ってＸ方
向に移動自在な矩形状のＸテーブル５とが備えられて、
このＸテーブル５上にウェハＷを保持するようなされて
いる。
向に平行に延びる一対のレール２に沿ってＹ方向に移動
自在な矩形状のＹテーブル３と、このＹテーブル３上に
Ｘ方向に平行に敷設された一対のレール４に沿ってＸ方
向に移動自在な矩形状のＸテーブル５とが備えられて、
このＸテーブル５上にウェハＷを保持するようなされて
いる。
【０００９】このＸＹ移動テーブル１の外側には、レー
ザ光を発生するレーザヘッド６と、レーザ光の光路を曲
げるベンダ７ａ，７ｂと、このベンダ７ａ，７ｂの間に
位置してレーザ光を分岐させるビームスプリッタ８ａ，
８ｂと、レーザ光を参照光と計測光に分岐して参照光の
光路を確保するインターフェロメータ９ａ，９ｂ，９ｃ
と、参照光と計測光を検出するディテクタ１０ａ，１０
ｂ，１０ｃとが設けられている。一方、Ｙテーブル３上
をＸ方向に移動するＸテーブル５の前記インターフェロ
メータ９ａ，９ｂ，９ｃに対向する互いに直交する２辺
の側端部には、レーザ光の計測光を反射してインターフ
ェロメータ９ａ，９ｂ，９ｃに該計測光を返すレーザミ
ラー１１ａ，１１ｂが固着されてレーザ干渉計１２が構
成されている。
ザ光を発生するレーザヘッド６と、レーザ光の光路を曲
げるベンダ７ａ，７ｂと、このベンダ７ａ，７ｂの間に
位置してレーザ光を分岐させるビームスプリッタ８ａ，
８ｂと、レーザ光を参照光と計測光に分岐して参照光の
光路を確保するインターフェロメータ９ａ，９ｂ，９ｃ
と、参照光と計測光を検出するディテクタ１０ａ，１０
ｂ，１０ｃとが設けられている。一方、Ｙテーブル３上
をＸ方向に移動するＸテーブル５の前記インターフェロ
メータ９ａ，９ｂ，９ｃに対向する互いに直交する２辺
の側端部には、レーザ光の計測光を反射してインターフ
ェロメータ９ａ，９ｂ，９ｃに該計測光を返すレーザミ
ラー１１ａ，１１ｂが固着されてレーザ干渉計１２が構
成されている。
【００１０】このレーザ干渉計１２によって、Ｘテーブ
ル５及びＹテーブル３の位置ひいてはウェハＷの位置の
計測が行われるのであるが、これを以下に説明する。
ル５及びＹテーブル３の位置ひいてはウェハＷの位置の
計測が行われるのであるが、これを以下に説明する。
【００１１】即ち、レーザヘッド６から出たレーザ光
は、ベンダ７ａで曲げられ、ビームスプリッタ８ａで２
つのレーザ光に分岐される。この分岐されたレーザ光の
一方は、インターフェロメータ９ａに導かれ、ここで参
照光と計測光に分岐される。この参照光は、インターフ
ェローメータ９ａの内部で反射を繰り返し、ディテクタ
１０ａに導かれる。また、計測光は、インターフェロメ
ータ９ａを出てＸテーブル５に保持されたレーザミラー
１１ａに到達し、ここで反射してまたインターフェロメ
ータ９ａに返り、もう一度レーザミラー１１ａに到達し
て反射した後、インターフェロメータ９ａを通してディ
テクタ１０ａに導かれる。
は、ベンダ７ａで曲げられ、ビームスプリッタ８ａで２
つのレーザ光に分岐される。この分岐されたレーザ光の
一方は、インターフェロメータ９ａに導かれ、ここで参
照光と計測光に分岐される。この参照光は、インターフ
ェローメータ９ａの内部で反射を繰り返し、ディテクタ
１０ａに導かれる。また、計測光は、インターフェロメ
ータ９ａを出てＸテーブル５に保持されたレーザミラー
１１ａに到達し、ここで反射してまたインターフェロメ
ータ９ａに返り、もう一度レーザミラー１１ａに到達し
て反射した後、インターフェロメータ９ａを通してディ
テクタ１０ａに導かれる。
【００１２】ここで、参照光がディテクタ１０ａに入射
するまでの光路は、Ｙテーブル３の位置に無関係に一定
であり、また計測光がディテクタ１０ａに入射するまで
の光路は、計測光が反射したＸテーブル５上のレーザミ
ラー１１ａのＹ方向位置に依存しており、Ｙテーブル３
の位置情報を含んでいる。
するまでの光路は、Ｙテーブル３の位置に無関係に一定
であり、また計測光がディテクタ１０ａに入射するまで
の光路は、計測光が反射したＸテーブル５上のレーザミ
ラー１１ａのＹ方向位置に依存しており、Ｙテーブル３
の位置情報を含んでいる。
【００１３】そこで、両者を比較することにより、Ｘテ
ーブル５に保持されたレーザミラー１１ａで計測光が反
射した点Ａにおけるレーザミラー１１ａとＹ方向のイン
ターフェロメータ９ａとの距離ｙ、ひいてはＹテーブル
３の位置を測定することができる。
ーブル５に保持されたレーザミラー１１ａで計測光が反
射した点Ａにおけるレーザミラー１１ａとＹ方向のイン
ターフェロメータ９ａとの距離ｙ、ひいてはＹテーブル
３の位置を測定することができる。
【００１４】一方、ビームスプリッタ８ａに分岐された
レーザ光の他方は、別のビームスプリッタ８ｂで更に２
つのレーザ光に分岐される。この分岐された各レーザ光
の一方は直接、他方は別のベンダ７ｂにより光路を曲げ
られて、それぞれインターフェロメータ９ｂ，９ｃに導
かれる。
レーザ光の他方は、別のビームスプリッタ８ｂで更に２
つのレーザ光に分岐される。この分岐された各レーザ光
の一方は直接、他方は別のベンダ７ｂにより光路を曲げ
られて、それぞれインターフェロメータ９ｂ，９ｃに導
かれる。
【００１５】この各インターフェロメータ９ｂ，９ｃに
導かれた各レーザ光は、前述と同様に参照光と計測光に
分岐され、計測光はレーザミラー１１ｂとの間を２往復
した後に、参照光は、各インターフェロメータ９ｂ，９
ｃ内で反射を繰り返した後にそれぞれディテクタ１０
ｂ，１０ｃに導かれる。
導かれた各レーザ光は、前述と同様に参照光と計測光に
分岐され、計測光はレーザミラー１１ｂとの間を２往復
した後に、参照光は、各インターフェロメータ９ｂ，９
ｃ内で反射を繰り返した後にそれぞれディテクタ１０
ｂ，１０ｃに導かれる。
【００１６】そして、この各ディテクタ１０ｂ，１０ｃ
に導かれた参照光と計測光により、Ｘテーブル５に保持
されたレーザミラー１１ｂ上でレーザ光が反射した点
Ｂ，ＣにおけるＸ方向のレーザミラー１１ｂとインター
フェロメータ９ｂ，９ｃとの距離ｘ1 ，ｘ2 、ひいては
２か所に亙るＸテーブル５の位置を測定することができ
る。
に導かれた参照光と計測光により、Ｘテーブル５に保持
されたレーザミラー１１ｂ上でレーザ光が反射した点
Ｂ，ＣにおけるＸ方向のレーザミラー１１ｂとインター
フェロメータ９ｂ，９ｃとの距離ｘ1 ，ｘ2 、ひいては
２か所に亙るＸテーブル５の位置を測定することができ
る。
【００１７】このようにして得られたＸテーブル５上の
２点のＸ方向の位置（距離）ｘ1 ，ｘ2 と１点のＹ方向
の位置（距離）ｙにより、ＸＹ移動テーブル１、ひいて
はウェハＷのＸ，Ｙ方向の位置及びθ方向の位置を求め
ることができる。
２点のＸ方向の位置（距離）ｘ1 ，ｘ2 と１点のＹ方向
の位置（距離）ｙにより、ＸＹ移動テーブル１、ひいて
はウェハＷのＸ，Ｙ方向の位置及びθ方向の位置を求め
ることができる。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
一般的なＸＹ移動テーブルにおいては、Ｙテーブル上を
移動するＸテーブルで２枚のレーザミラーを保持する必
要があり、特にＸ，Ｙストロークを大きくした場合にこ
のレーザミラーの長さがこのストロークに比例して長く
なってしまうことから、このＸテーブルの大きさ、更に
はこれに対応してＹテーブルの大きさもかなり大きくな
ってしまい、ＸＹ移動テーブル全体がかなりの重量物に
なってしまう。そして、このようにＸＹ移動テーブル全
体が重量物になると、この固有振動数が低下してしまう
ばかりでなく、位置決めにも時間を要するといった問題
点があった。
一般的なＸＹ移動テーブルにおいては、Ｙテーブル上を
移動するＸテーブルで２枚のレーザミラーを保持する必
要があり、特にＸ，Ｙストロークを大きくした場合にこ
のレーザミラーの長さがこのストロークに比例して長く
なってしまうことから、このＸテーブルの大きさ、更に
はこれに対応してＹテーブルの大きさもかなり大きくな
ってしまい、ＸＹ移動テーブル全体がかなりの重量物に
なってしまう。そして、このようにＸＹ移動テーブル全
体が重量物になると、この固有振動数が低下してしまう
ばかりでなく、位置決めにも時間を要するといった問題
点があった。
【００１９】即ち、例えば上記図２に示す従来例におい
て、Ｘテーブル５で保持するレーザミラー１１ａの長さ
は、最低でもＸストローク分は必要である。また、レー
ザミラー１１ｂは、Ｙストローク分にレーザ光が当たる
２点Ｂ，Ｃ間の距離とを加えた長さ分の長さが必要とな
る。このため、例えばＸＹ移動テーブル１のＸ，Ｙスト
ロークをそれぞれ３００mm、２点Ｂ，Ｃ間の距離を６０
mmとすると、実用上、レーザミラー１１ａは３２０mm、
レーザミラー１１ｂは３８０mm程の長さが最低でも必要
となる。従って、このような大きなレーザミラー１１
ａ，１１ｂを保持できるように、Ｘテーブル５、更には
これに対応してＹテーブル３も大きくなって、ひいては
ＸＹ移動テーブル１全体が大きくかなりの重量物になっ
てしまう。
て、Ｘテーブル５で保持するレーザミラー１１ａの長さ
は、最低でもＸストローク分は必要である。また、レー
ザミラー１１ｂは、Ｙストローク分にレーザ光が当たる
２点Ｂ，Ｃ間の距離とを加えた長さ分の長さが必要とな
る。このため、例えばＸＹ移動テーブル１のＸ，Ｙスト
ロークをそれぞれ３００mm、２点Ｂ，Ｃ間の距離を６０
mmとすると、実用上、レーザミラー１１ａは３２０mm、
レーザミラー１１ｂは３８０mm程の長さが最低でも必要
となる。従って、このような大きなレーザミラー１１
ａ，１１ｂを保持できるように、Ｘテーブル５、更には
これに対応してＹテーブル３も大きくなって、ひいては
ＸＹ移動テーブル１全体が大きくかなりの重量物になっ
てしまう。
【００２０】本発明は上記に鑑み、Ｘテーブル及びＹテ
ーブル、ひいてはＸＹ移動テーブル全体の小型軽量化を
図ったものを提供することを目的とする。
ーブル、ひいてはＸＹ移動テーブル全体の小型軽量化を
図ったものを提供することを目的とする。
【００２１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係るＸＹ移動テーブルは、平面上を互いに
直交する方向に移動するＸテーブルとＹテーブルとを有
し、レーザ干渉計と該レーザ干渉計のレーザを反射する
レーザミラーとを使用して前記各テーブルの位置を計測
するようにしたＸＹ移動テーブルにおいて、前記各テー
ブルの側方にこの各移動方向に沿って前記レーザミラー
を配置するとともに、前記Ｘテーブルの前記各レーザミ
ラーに対向する側縁上に前記レーザ干渉計のインターフ
ェロメータを保持したことを特徴とするものである。
め、本発明に係るＸＹ移動テーブルは、平面上を互いに
直交する方向に移動するＸテーブルとＹテーブルとを有
し、レーザ干渉計と該レーザ干渉計のレーザを反射する
レーザミラーとを使用して前記各テーブルの位置を計測
するようにしたＸＹ移動テーブルにおいて、前記各テー
ブルの側方にこの各移動方向に沿って前記レーザミラー
を配置するとともに、前記Ｘテーブルの前記各レーザミ
ラーに対向する側縁上に前記レーザ干渉計のインターフ
ェロメータを保持したことを特徴とするものである。
【００２２】
【作用】上記のように構成した本発明によれば、Ｙテー
ブル上を移動するＸテーブルの側縁上に保持したレーザ
干渉計のインターフェロメータからＸテーブル及びＹテ
ーブルの側方に配置したレーザ干渉計のレーザミラーに
向けて発射されたレーザ光の反射光を該インターフェロ
メータで受けることによって、確実に各テーブルの位置
を計測することができ、これによってＸテーブルでレー
ザミラーを保持する必要をなくして、この大きさ、ひい
てはＸＹ移動テーブル全体の小型軽量化を図ることがで
きる。
ブル上を移動するＸテーブルの側縁上に保持したレーザ
干渉計のインターフェロメータからＸテーブル及びＹテ
ーブルの側方に配置したレーザ干渉計のレーザミラーに
向けて発射されたレーザ光の反射光を該インターフェロ
メータで受けることによって、確実に各テーブルの位置
を計測することができ、これによってＸテーブルでレー
ザミラーを保持する必要をなくして、この大きさ、ひい
てはＸＹ移動テーブル全体の小型軽量化を図ることがで
きる。
【００２３】
【実施例】以下、本発明の実施例を図１を参照して説明
する。なお、この実施例は上記従来例と同様に、Ｘ線露
光装置のウェハテーブル系に使用したものを示すもの
で、図２と同一部材は同一符番を付して説明する。
する。なお、この実施例は上記従来例と同様に、Ｘ線露
光装置のウェハテーブル系に使用したものを示すもの
で、図２と同一部材は同一符番を付して説明する。
【００２４】即ち、このＸＹ移動テーブル１には、Ｙ方
向に平行に延びる一対のレール２に沿ってＹ方向に移動
自在な矩形状のＹテーブル３と、このＹテーブル３上に
Ｘ方向に平行に敷設された一対のレール４に沿ってＸ方
向に移動自在な矩形状のＸテーブル５とが備えられて、
このＸテーブル５上にウェハＷを保持するようなされて
いる。
向に平行に延びる一対のレール２に沿ってＹ方向に移動
自在な矩形状のＹテーブル３と、このＹテーブル３上に
Ｘ方向に平行に敷設された一対のレール４に沿ってＸ方
向に移動自在な矩形状のＸテーブル５とが備えられて、
このＸテーブル５上にウェハＷを保持するようなされて
いる。
【００２５】このＸＹ移動テーブル１の外側には、レー
ザ光を発生するレーザヘッド６と、レーザ光を導き光路
を曲げるベンダ７ａとが設けられているとともに、前記
Ｙテーブル３の隅部には、レーザ光の光路を曲げるベン
ダ７ｂが、前記Ｘテーブル５の隅部から互いに直交する
両側縁部にかけては、レーザ光を分岐させるビームスプ
リッタ８ａ，８ｂと、レーザ光を参照光と計測光に分岐
して参照光の光路を確保するインターフェロメータ９
ａ，９ｂ，９ｃと、参照光と計測光を検出するディテク
タ１０ａ，１０ｂ，１０ｃとが配置されている。
ザ光を発生するレーザヘッド６と、レーザ光を導き光路
を曲げるベンダ７ａとが設けられているとともに、前記
Ｙテーブル３の隅部には、レーザ光の光路を曲げるベン
ダ７ｂが、前記Ｘテーブル５の隅部から互いに直交する
両側縁部にかけては、レーザ光を分岐させるビームスプ
リッタ８ａ，８ｂと、レーザ光を参照光と計測光に分岐
して参照光の光路を確保するインターフェロメータ９
ａ，９ｂ，９ｃと、参照光と計測光を検出するディテク
タ１０ａ，１０ｂ，１０ｃとが配置されている。
【００２６】一方、前記Ｘテーブル５の側方にはこの移
動方向に沿って、レーザ光の計測光を反射してインター
フェロメータ９ａに該計測光を返すレーザミラー１１ａ
が、Ｙテーブル３の側方にはこの移動方向に沿って、レ
ーザ光の計測光を反射してインターフェロメータ９ｂ，
９ｃに該計測光を返すレーザミラー１１ｂが夫々配置さ
れてレーザ干渉計１２が構成されている。
動方向に沿って、レーザ光の計測光を反射してインター
フェロメータ９ａに該計測光を返すレーザミラー１１ａ
が、Ｙテーブル３の側方にはこの移動方向に沿って、レ
ーザ光の計測光を反射してインターフェロメータ９ｂ，
９ｃに該計測光を返すレーザミラー１１ｂが夫々配置さ
れてレーザ干渉計１２が構成されている。
【００２７】このレーザ干渉計１２によって、Ｘテーブ
ル５及びＹテーブル３の位置、ひいてはウェハＷの位置
の計測が行われるのであるが、これを以下に説明する。
ル５及びＹテーブル３の位置、ひいてはウェハＷの位置
の計測が行われるのであるが、これを以下に説明する。
【００２８】即ち、レーザヘッド６から出たレーザ光
は、ベンダ７ａ，７ｂを介して所定のところまで案内さ
れ、ビームスプリッタ８ａで２つのレーザ光に分岐され
る。この分岐されたレーザ光の一方は、インターフェロ
メータ９ｂに導かれ、ここで参照光と計測光に分岐され
る。この参照光は、インターフェローメータ９ｂの内部
で反射を繰り返し、ディテクタ１０ｂに導かれる。ま
た、計測光は、インターフェロメータ９ｂを出てＸテー
ブル５の側方に配置されたレーザミラー１１ｂに到達
し、ここで反射してまたインターフェロメータ９ｂに返
り、もう一度レーザミラー１１ｂに到達して反射した
後、インターフェロメータ９ｂを通してディテクタ１０
ｂに導かれる。
は、ベンダ７ａ，７ｂを介して所定のところまで案内さ
れ、ビームスプリッタ８ａで２つのレーザ光に分岐され
る。この分岐されたレーザ光の一方は、インターフェロ
メータ９ｂに導かれ、ここで参照光と計測光に分岐され
る。この参照光は、インターフェローメータ９ｂの内部
で反射を繰り返し、ディテクタ１０ｂに導かれる。ま
た、計測光は、インターフェロメータ９ｂを出てＸテー
ブル５の側方に配置されたレーザミラー１１ｂに到達
し、ここで反射してまたインターフェロメータ９ｂに返
り、もう一度レーザミラー１１ｂに到達して反射した
後、インターフェロメータ９ｂを通してディテクタ１０
ｂに導かれる。
【００２９】ここで、参照光がディテクタ１０ｂに入射
するまでの光路は、Ｘテーブル５の位置に無関係に一定
であり、また計測光がディテクタ１０ｂに入射するまで
の光路は、計測光が反射したレーザミラー１１ｂまでの
Ｘ方向距離に依存しており、Ｘテーブル５の位置情報を
含んでいる。
するまでの光路は、Ｘテーブル５の位置に無関係に一定
であり、また計測光がディテクタ１０ｂに入射するまで
の光路は、計測光が反射したレーザミラー１１ｂまでの
Ｘ方向距離に依存しており、Ｘテーブル５の位置情報を
含んでいる。
【００３０】そこで、両者を比較することにより、Ｘ方
向のインターフェロメータ９ｂとレーザミラー１１ｂと
の距離ｘ1 、ひいてはＸテーブル５の第１の位置を測定
することができる。
向のインターフェロメータ９ｂとレーザミラー１１ｂと
の距離ｘ1 、ひいてはＸテーブル５の第１の位置を測定
することができる。
【００３１】一方、ビームスプリッタ８ａに分岐された
レーザ光の他方は、別のビームスプリッタ８ｂで更に２
つのレーザ光に分岐され、この分岐された各レーザ光
は、それぞれインターフェロメータ９ａ，９ｃに導かれ
る。
レーザ光の他方は、別のビームスプリッタ８ｂで更に２
つのレーザ光に分岐され、この分岐された各レーザ光
は、それぞれインターフェロメータ９ａ，９ｃに導かれ
る。
【００３２】この各インターフェロメータ９ａ，９ｃに
導かれた各レーザ光は、前述と同様に参照光と計測光に
分岐され、計測光はインターフェロメータ９ａとレーザ
ミラー１１ａ及びインターフェロメータ９ｃとレーザミ
ラー１１ｂとの間をそれぞれ２往復した後に、参照光
は、各インターフェロメータ９ａ，９ｃ内で反射を繰り
返した後にそれぞれディテクタ１０ａ，１０ｃに導かれ
る。
導かれた各レーザ光は、前述と同様に参照光と計測光に
分岐され、計測光はインターフェロメータ９ａとレーザ
ミラー１１ａ及びインターフェロメータ９ｃとレーザミ
ラー１１ｂとの間をそれぞれ２往復した後に、参照光
は、各インターフェロメータ９ａ，９ｃ内で反射を繰り
返した後にそれぞれディテクタ１０ａ，１０ｃに導かれ
る。
【００３３】そして、この各ディテクタ１０ａ，１０ｃ
に導かれた参照光と計測光とを比較することにより、Ｙ
方向のインターフェロメータ９ａとレーザミラー１１ａ
との距離ｙ、ひいてはＹテーブル５の位置と、Ｘ方向の
インターフェロメータ９ｃとレーザミラー１１ｂとの距
離ｘ2 、ひいてはＸテーブル５の第２の位置を測定する
ことができる。
に導かれた参照光と計測光とを比較することにより、Ｙ
方向のインターフェロメータ９ａとレーザミラー１１ａ
との距離ｙ、ひいてはＹテーブル５の位置と、Ｘ方向の
インターフェロメータ９ｃとレーザミラー１１ｂとの距
離ｘ2 、ひいてはＸテーブル５の第２の位置を測定する
ことができる。
【００３４】このようにして得られたＸテーブル５上の
２点のＸ方向の位置（距離）ｘ1 ，ｘ2 と１点のＹ方向
の位置（距離）ｙにより、ＸＹ移動テーブル１、ひいて
はウェハのＸ，Ｙ方向の位置及びθ方向の位置を求める
ことができる。
２点のＸ方向の位置（距離）ｘ1 ，ｘ2 と１点のＹ方向
の位置（距離）ｙにより、ＸＹ移動テーブル１、ひいて
はウェハのＸ，Ｙ方向の位置及びθ方向の位置を求める
ことができる。
【００３５】このように、Ｙテーブル３上を移動するＸ
テーブル５の側縁上に保持したインターフェロメータ９
ａ，９ｂ，９ｃからＸテーブル５及びＹテーブル３の側
方に配置したレーザミラー１１ａ，１１ｂに向けて発射
されたレーザ光（計測光）の反射光を該インターフェロ
メータ９ａ，９ｂ，９ｃで受けることによって、確実に
各テーブル３，５の位置を計測することができ、これに
よってＸテーブル５でレーザミラー１１ａ，１１ｂを保
持する必要をなくして、この大きさ、ひいてはＸＹ移動
テーブル全体の小型軽量化を図ることができる。
テーブル５の側縁上に保持したインターフェロメータ９
ａ，９ｂ，９ｃからＸテーブル５及びＹテーブル３の側
方に配置したレーザミラー１１ａ，１１ｂに向けて発射
されたレーザ光（計測光）の反射光を該インターフェロ
メータ９ａ，９ｂ，９ｃで受けることによって、確実に
各テーブル３，５の位置を計測することができ、これに
よってＸテーブル５でレーザミラー１１ａ，１１ｂを保
持する必要をなくして、この大きさ、ひいてはＸＹ移動
テーブル全体の小型軽量化を図ることができる。
【００３６】なお、上記実施例は、ＸＹ移動テーブルを
Ｘ線露光装置のウェハテーブル系に使用してθ方向の変
位も計測するようにした例を示しているが、Ｘ，Ｙ方向
の位置（距離）のみを計測する場合には、前記Ｘテーブ
ル５の位置を２か所に亙って測定すことなく、１か所で
測定すれば足りる。
Ｘ線露光装置のウェハテーブル系に使用してθ方向の変
位も計測するようにした例を示しているが、Ｘ，Ｙ方向
の位置（距離）のみを計測する場合には、前記Ｘテーブ
ル５の位置を２か所に亙って測定すことなく、１か所で
測定すれば足りる。
【００３７】
【発明の効果】本発明は上記のような構成であるので、
Ｘ，Ｙストロークに比例してその長さが長くなるレーザ
ミラーをＸテーブルで保持することなく、確実に各テー
ブルの位置を計測することができ、これによってＸテー
ブル及びＹテーブルの大きさをレーザミラーの大きさに
係わることなく極力小さくして、ＸＹ移動テーブル全体
の小型軽量化を図ることができる。
Ｘ，Ｙストロークに比例してその長さが長くなるレーザ
ミラーをＸテーブルで保持することなく、確実に各テー
ブルの位置を計測することができ、これによってＸテー
ブル及びＹテーブルの大きさをレーザミラーの大きさに
係わることなく極力小さくして、ＸＹ移動テーブル全体
の小型軽量化を図ることができる。
【図１】Ｘ線露光装置のウェハテーブル系に適用した本
発明の一実施例を示す概要図。
発明の一実施例を示す概要図。
【図２】同じく、従来例を示す概要図。
１ ＸＹ移動テーブル ３ Ｙテーブル ５ Ｘテーブル ６ レーザヘッド ７ａ，７ｂ ベンダ ８ａ，８ｂ ブームスプリッタ ９ａ，９ｂ，９ｃ インターフェロメータ １０ａ，１０ｂ，１０ｃ ディテクタ １１ａ，１１ｂ レーザミラー １２ レーザ干渉計
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｇ０１Ｂ 7/34 Ｚ 9106−2Ｆ
Claims (1)
- 【請求項１】Ｙ方向に移動するＹテーブルと該Ｙテーブ
ル上をこの移動方向と直交するＸ方向に移動するＸテー
ブルとを有し、レーザ干渉計を使用して前記各テーブル
の位置を計測するようにしたＸＹ移動テーブルにおい
て、前記各テーブルの側方にこの各移動方向に沿って前
記レーザ干渉計のレーザミラーを配置するとともに、前
記Ｘテーブルの前記各レーザミラーに対向する側縁上に
該対向する各レーザミラーに向けて前記レーザ干渉計の
インターフェロメータを配置したことを特徴とするＸＹ
移動テーブル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1917292A JPH05217837A (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | Ｘｙ移動テーブル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1917292A JPH05217837A (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | Ｘｙ移動テーブル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05217837A true JPH05217837A (ja) | 1993-08-27 |
Family
ID=11991938
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1917292A Pending JPH05217837A (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | Ｘｙ移動テーブル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05217837A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001345254A (ja) * | 2000-06-01 | 2001-12-14 | Canon Inc | 干渉計搭載ステージ |
| WO2006013856A1 (ja) * | 2004-08-05 | 2006-02-09 | Nikon Corporation | ステージ装置及び露光装置 |
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| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
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| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
-
1992
- 1992-02-04 JP JP1917292A patent/JPH05217837A/ja active Pending
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