JP2005501241A5 - - Google Patents

Claims (55)

1. 装置において
   複数経路干渉計であって、該干渉計を通る第１の経路のセットおよび第２の経路のセットを含む複数の経路に沿って少なくとも２つのビームを反射する反射器を含み、当該反射器が同反射器よって反射されるビームの経路の方向に垂直な第１位置合わせを有する、前記複数経路干渉計と、
   該反射器の少なくとも１つが該第１位置合わせ以外の位置合わせを有する場合、前記ビームの経路が、該第１の経路のセット中および該第２の経路のセット中にずれ、
   該第２の経路のセット中に付与されたシヤーが、該第１の経路のセット中に付与されたシヤーを消去するように、該第１の経路のセットの後でかつ該第２の経路のセットの前に該ビームを向け直す光学機器とを備える装置。
2. 前記光学機器が、前記２つのビーム間のシヤーの大きさおよび方向を維持しながら、前記ビームを向け直すように構成される、請求項１に記載の装置。
3. 前記光学機器によって向け直された後の前記２つのビームの一方の伝播経路が、前記第１の経路のセットを完了した後の前記２つのビームの他方の伝播経路と平行である、請求項１に記載の装置。
4. 前記反射器が、平面反射表面を備える、請求項１に記載の装置。
5. 前記ビームが、前記干渉計に対して静止している位置に維持された前記反射器の１つに向けられる基準ビームを備える、請求項１に記載の装置。
6. 前記ビームが、前記干渉計に対して可動である前記反射器の１つに向けられる測定ビームを備える、請求項１に記載の装置。
7. 前記第１ビームおよび前記第２ビームの前記経路が、光路長差を確定し、該光路長差の変化が、前記第１反射器と前記第２反射器との相対位置の変化を示す、請求項１に記載の装置。
8. 前記第１の経路のセットが、２つの経路からなり、各経路中、前記ビームのそれぞれが、前記反射器の一方によって少なくとも１回反射される、請求項１に記載の装置。
9. 前記第２の経路のセットが、２つの経路からなり、各経路中、前記ビームのそれぞれが、前記反射器の一方によって少なくとも１回反射される、請求項１に記載の装置。
10. 前記複数経路干渉計が、入力ビームを前記ビームに分離して、前記ビームを前記反射器に向けるビーム・スプリッタを備える、請求項１に記載の装置。
11. 前記光学機器が、奇数の反射表面を備える、請求項１に記載の装置。
12. 前記反射表面の法線が、共通面にある、請求項１に記載の装置。
13. 前記光学機器によって向け直された各ビームについて、入射ビームから反射ビームの方向において測定され、反時計回りの方向に測定したとき正の値を有し、時計回りの方向に測定したとき負の値を有する、各反射表面の入射ビームと反射ビームとの間の角度の和が、ゼロまたは３６０度の整数倍であるように、該ビームが前記反射表面によって反射される、請求項１に記載の装置。
14. 前記干渉計が、前記ビームが前記第１の経路のセットおよび前記第２の経路のセットを通過した後、前記ビームを組み合わせて、前記干渉計を出る重なりビームを形成する、請求項１に記載の装置。
15. 前記重なりビーム間の光学干渉に応答して、前記ビームの前記経路間の光路長差を示す干渉信号を生成する検出器を更に備える、請求項１４に記載の装置。
16. 前記検出器に連結され、前記干渉信号に基づいて前記ビームの光路長差の変化を推定する分析装置を更に備える、請求項１５に記載の装置。
17. 前記光学機器が、キューブ・コーナ逆反射器を備える、請求項１に記載の装置。
18. 前記干渉計が、微分平面ミラー干渉計からなる、請求項１に記載の装置。
19. 前記２つのビームが、異なる周波数を有する、請求項１に記載の装置。
20. その上に集積回路を製造するためのウエハを支持するステージと、
    空間的にパターン化された放射を該ウエハの上に撮像するための照明装置と、
    前記干渉計を使用してステージの位置を測定し、該撮像放射に対する該ステージの位置を調節する位置決めシステムとを更に備える請求項１に記載の装置。
21. 装置において
    少なくとも第１経路に沿って第１ビームを反射し、第２経路に沿って少なくとも第２ビームを反射する反射器を含む複数経路干渉計であって、該第１経路および該第２経路の各々が、干渉計を通る少なくとも第１の経路のセットおよび第２の経路のセットを含み、該反射器が、該反射器によって反射されたビームの該経路の方向に垂直な第１位置合わせを有する、前記複数経路干渉計と、
    該反射器の少なくとも１つが、該第１位置合わせ以外の位置合わせを有するとき、該ビームが、該干渉計を通る該第１の経路のセットおよび該第２の経路のセットを作成する際に、該ビームの該経路間の相対的なシヤーが変化し、
    該反射器により該第２の経路のセット中に付与されるシヤーが、該第１の経路のセット中に付与されたシヤーを消去するように、該第１の経路のセットの後でかつ該第２の経路のセットの前に該ビームを向け直す光学機器とを備える装置。
22. 前記第１経路および前記第２経路が、前記第１の経路のセット中および前記第２の経路のセット中に重なり合わない、請求項２１に記載の装置。
23. 前記干渉計が、前記第１ビームおよび前記第２ビームのいずれかが、前記第１の経路のセットを通って伝播する前に、入力ビームを前記第１ビームおよび前記第２ビームに分離するビーム・スプリッタを更に含む、請求項２１に記載の装置。
24. 前記第１ビームおよび前記第２ビームの両方が、前記第２の経路のセットを通って伝播した後、前記第１ビームおよび前記第２ビームを組み合わせる第２ビーム・スプリッタを更に備える、請求項２３に記載の装置。
25. 前記反射器と共動して前記第１ビームを前記第１経路に沿って反射し、前記第２ビームを前記第２経路に沿って反射するビーム・スプリッタを更に備える、請求項２１に記載の装置。
26. 前記反射器の１つが、前記ビーム・スプリッタと前記反射器の他の１つとの間に配置される、請求項２５に記載の装置。
27. 前記複数経路干渉計が、微分平面ミラー干渉計からなる、請求項２１に記載の装置。
28. 装置において
    複数経路干渉計であって、該干渉計を通る第１の経路のセットおよび第２の経路のセットを含む複数経路に沿って少なくとも２つのビームを反射する反射器を含み、該反射器が第１位置合わせを有する、前記複数経路干渉計と、
    該反射器の１つが、該第１位置合わせから、該第１位置合わせとは異なる第２位置合わせに移動する場合、該２つのビームの該経路間のシヤーが、該第１の経路のセット中および該第２の経路のセット中に変化し、
    該反射器の１つが該第１位置合わせから逸脱しているために該第２の経路のセット中に付与されたシヤーが、該逸脱のために該第１の経路のセット中に付与されたシヤーを消去するように、該第１の経路のセットの後でかつ該第２の経路のセットの前に該ビームを向け直す光学機器とを備える装置。
29. 前記干渉計が、入力ビームを前記少なくとも２つのビームに分離する偏光ビーム・スプリッタを更に含む、請求項２８に記載の装置。
30. 前記光学機器が、奇数の反射表面を備える、請求項２８に記載の装置。
31. 集積回路をウエハの上に製造するためのリソグラフィ・システムであって
    ウエハを支持するステージと、
    空間的にパターン化された放射を該ウエハの上に撮像するための照明システムと、
    該撮像放射に対する該ステージの位置を調節する位置決めシステムと、
    第１自由度に沿って該ステージの位置を測定する請求項１に記載の装置とを備えるリソグラフィ・システム。
32. 第２自由度に沿って前記ステージの位置を測定する、請求項１に記載の装置である第２の装置を更に備える、請求項３１に記載のリソグラフィ・システム。
33. 集積回路をウエハの上に製造するリソグラフィ・システムであって
    ウエハを支持するステージと、
    放射ソースと、マスクと、位置決めシステムと、レンズ部品と、請求項１に記載の前記装置とを含む照明システムであって、動作中、該ソースが、空間的にパターン化された放射を生成するために、放射を該マスクを通して向け、該位置決めシステムが、該ソースからの該放射に対して該マスクの位置を調節し、該レンズ部品が、該空間的にパターン化された放射を該ウエハの上に撮像し、第１自由度に沿って、該ウエハに対する該マスクの位置を測定する際に前記装置が使用される、前記照明システムとを備えるリソグラフィ・システム。
34. 第２自由度に沿って、前記ステージの位置を測定する、請求項１に記載の装置である第２の装置を更に備える、請求項３３に記載のリソグラフィ・システム。
35. ビーム書込みシステムであって
    基板をパターン化するための書込みビームを提供するソースと、
    該基板を支持するステージと、
    該書込みビームを該基板に送達するビーム方向付け部品と、
    該ステージと該ビーム方向付け部品とを互いに関して位置決めする位置決めシステムと、
    第１自由度に沿って該ビーム方向付け部品に対する該ステージの位置を測定する請求項１に記載の装置とを備えるビーム書込みシステム。
36. 前記ステージの位置を第２自由度に沿って測定するために、請求項１に記載の装置である第２の装置を更に備える、請求項３５に記載のビーム書込みシステム。
37. 干渉計を通る第１の経路のセットおよび第２の経路のセットを含む複数経路に沿って少なくとも２つのビームを向け、反射器が、該反射器によって反射された該ビームの該経路の方向に垂直な第１位置合わせを有することと、
    該第１の経路のセットの後でかつ該第２の経路のセットの前に、該ビームを向け直すことによって、該第２の経路のセットにおいて付与されたシヤーによって、該第１の経路のセットにおいて付与されたシヤーを消去することを備える方法。
38. 前記第１の経路のセットの後で前記ビームを向け直すことが、前記ビームを向け直すために、奇数の反射表面を使用することを備える、請求項３７に記載の方法。
39. 前記第１の経路のセット後で前記ビームを向け直すことが、前記ビームを向け直すために、１つの反射表面を使用することを備える、請求項３７に記載の方法。
40. 前記第１の経路のセットの後で前記ビームを向け直すことが、向け直した後の前記ビームが、向け直す前の前記ビームの伝播方向と反対であるが、平行な方向に進行するように、前記ビームを向け直すことを備える、請求項３７に記載の方法。
41. 前記第１の経路のセットの後で前記ビームを向け直すことが、向け直された前記ビーム・シヤーの大きさおよび方向が、向け直す前の前記ビーム・シヤーの大きさおよび方向と同じであるように、前記ビームを向け直すことを備える、請求項３７に記載の方法。
42. 入力ビームを前記少なくとも２つのビームに分離することを更に備える、請求項３７に記載の方法。
43. 前記干渉計を通る前記複数経路の後で、前記ビームを組み合わせて、重なりビームを形成することを更に備える、請求項３７に記載の方法。
44. 前記重なりビームから干渉信号を検出することを更に備える、請求項１に記載の方法。
45. 前記干渉信号に基づいて、前記ビームの１つの光路長差の変化を推定することを更に備える、請求項１に記載の方法。
46. 前記干渉信号に基づいて、前記少なくとも２つのビームの２つの間の光路長差の変化を推定することを更に備える、請求項１に記載の方法。
47. 干渉計を通る第１の経路のセットおよび第２の経路のセットを含む複数経路に沿って少なくとも２つのビームを向け、ここで、反射器が第１位置合わせを有することと、
    該反射器の１つが該第１位置合わせから第２位置合わせに移動することによって生じた該第１の経路のセットにおいて付与されたシヤーが、該反射器が該第１位置合わせから該第２位置合わせに移動することによって生じた該第２の経路のセットにおいて付与されたシヤーによって消去されるように、該第１の経路のセットの後でかつ該第２の経路のセットの前に該２つのビームを向け直すことを備える方法。
48. 入力ビームを前記少なくとも２つのビームに分離することを更に備える、請求項４７に記載の方法。
49. 前記第２の経路のセット後、前記２つのビームを重ね合わせることを更に備える、請求項４８に記載の方法。
50. 集積回路をウエハの上に製造するリソグラフィ方法であって、
    ウエハをステージの上で支持し、
    空間的にパターン化された放射を該ウエハの上に撮像し、
    該撮像放射に対する該ステージの位置を調節し、
    請求項３７に記載の方法を使用して第１自由度に沿って該ステージの相対位置を測定することを更に備えるリソグラフィ方法。
51. 請求項３７に記載の方法を使用して第２自由度に沿って前記ステージの相対位置を測定することを更に備える、請求項５０に記載のリソグラフィ方法。
52. 集積回路をウエハの上に製作するリソグラフィ方法であって、
    ウエハをステージの上で支持し、
    ソースからマスクを通して放射を向けて空間的にパターン化された放射を生成し、
    該ウエハに対して該マスクを位置決めし、
    請求項３７に記載の方法を使用して第１自由度に沿って該ウエハに対するマスクの位置を測定し、
    該空間的にパターン化された放射を該ウエハの上に撮像することを更に備えるリソグラフィ方法。
53. 請求項３７に記載の方法を使用して該マスクの相対位置を第２自由度に沿って測定することを更に備える、請求項５２に記載のリソグラフィ方法。
54. フォトリソグラフィ・マスクを製造するリソグラフィ方法であって、
    基板をパターン化するために書込みビームを提供し、
    該基板をステージの上で支持し、
    該書込みビームを該基板に送達し、
    該書込みビームに対して該ステージを位置決めし、
    請求項３７に記載の方法を使用して該ステージの相対位置を第１自由度に沿って測定することを備えるリソグラフィ方法。
55. 請求項３７に記載の方法を使用して前記ステージの相対位置を第２自由度に沿って測定することを更に備える、請求項５４に記載のリソグラフィ方法。