JPH05178992A - ポリイミドシロキサン延長ブロックコポリマー - Google Patents

ポリイミドシロキサン延長ブロックコポリマー

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JPH05178992A
JPH05178992A JP4155212A JP15521292A JPH05178992A JP H05178992 A JPH05178992 A JP H05178992A JP 4155212 A JP4155212 A JP 4155212A JP 15521292 A JP15521292 A JP 15521292A JP H05178992 A JPH05178992 A JP H05178992A
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siloxane
dianhydride
diamine
block copolymer
amic acid
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JP4155212A
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Sergio Rojstaczer
ロイスタックゼル セルジオ
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Occidental Chemical Corp
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    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
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    • C08G73/1057Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain
    • C08G73/106Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain containing silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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    • C08G77/452Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing nitrogen-containing sequences
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 二無水物をシロキサン基非含有ジアミンと反
応させることにより製造された少くとも1個のポリイミ
ドブロックと、二無水物を少くとも1個のシロキサン基
含有ジアミンと反応させることにより製造された少くと
も1個のポリイミドシロキサンブロックを含むポリイミ
ドシロキサン延長ブロックコポリマーを製造する方法で
あって、シロキサン含有ジアミン1モル当り1モルより
多い二無水物を用いて各ポリイミドシロキサンブロック
を調製する方法。 【効果】 製造されたポリイミドシロキサン延長ブロッ
クコポリマーは、対応する非延長ブロックコポリマーよ
りガラス転移点が高く、同一の溶解性を保持している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリイミドシロキサン
延長ブロックコポリマー及びそれらの製法に関する。特
に本発明は、シロキサン−無水物を含むブロックが制御
された過剰の二無水物を用いて調製されるような延長ブ
ロックコポリマーに関する。ポリイミドシロキサンは二
無水物とジアミンとを反応させることにより製造される
ポリマーであり、シロキサン含有二無水物とシロキサン
非含有二無水物との混合物か、又はシロキサン含有ジア
ミンとシロキサン非含有ジアミンとの混合物のいずれか
を用いる。ポリイミドシロキサンは種々の異なる用途に
使用されるが、マイクロエレクトロニクス業界の塗料及
び接着剤として特に有用である。ポリイミドシロキサン
の特に重要な2つの性質はガラス転移温度、Tg と溶解
度である。Tg が高いということは、ポリマーがその物
理的又は機械的性質を高温において容易には失わないこ
とを意味する。塗料を形成しうるようなポリマーの溶液
を形成するためには良好な溶解度が必要である。ブロッ
クコポリマーが対応するランダムコポリマーのそれより
高いTg を有するということは高分子化学において一般
的な規則である。しかしながら、通常、ブロックの寸法
が増大すると溶解度は低下する。ポリイミドシロキサン
ブロックコポリマーは2つ以上のTg を有するポリイミ
ドシロキサンである。シロキサン含有ジアミン又は二無
水物が大きい場合には、たとえシロキサン含有モノマー
がポリマー中にランダムに分散していても、ポリイミド
シロキサンは2つのTg を示す。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、対応する
非延長コポリマーよりTg が高く、溶解性も低くないポ
リイミドシロキサン延長ブロックコポリマーを調製しう
ることを発見した。本発明の優れたブロックコポリマー
は制御された過剰量の二無水物の存在下でシロキサン含
有ジアミンを反応させることにより製造される。
【0003】本発明の延長ブロックコポリマーは、三種
類のモノマー、すなわち二無水物、シロキサン基非含有
ジアミン、及びシロキサン含有ジアミンから調製され
る。シロキサン含有ジアミンがシロキサン非含有ジアミ
ンを含むポリマー中にランダムに分散しているのではな
く、少くとも2つの並置する繰返し単位が比較的低いモ
ル含量のジアミンから製造されるため、“延長”ブロッ
クコポリマーと呼ばれる。
【0004】本発明のブロックコポリマーの調製におい
てはいかなるジアミンもシロキサン含有ジアミンとして
使用しうる。熱的性質が良好なポリイミドシロキサンが
得られるため芳香族ジアミンが好ましい。適するジアミ
ンの例には、2,4−ジアミノトルエン(TDA)、
2,5−ジアミノトルエン、2,6−ジアミノトルエ
ン、m−キシリルジアミン、2,4−ジアミン−5−ク
ロロトルエン、2,4−ジアミン−6−クロロトルエ
ン、2,2−ビス(4−〔4−アミノフェノキシル〕フ
ェニル)プロパン(BAPP)、トリフルオロメチル−
2,4−ジアミノベンゼン、m−フェニレンジアミン、
p−フェニレンジアミン、2,2′−ビス(4−アミノ
フェニル)ヘキサフルオロプロパン(6F)、2,2−
ビス(4−フェノキシアニリン)イソプロピリデン
【0005】トリフルオロメチル−2,4−ジアミノベ
ンゼン、トリフルオロメチル−3,5−ジアミノベンゼ
ン、2,4,6−トリメチル−1,3−ジアミノベンゼ
ン、3,4′−オキシジアニリン(ODA),4,4′
−オキシジアニリン、m,m−メチレンジアニリン、
m,m−スルホンジアニリン、4,4′−ジアミノ−
2,2′−トリフルオロメチルジフェニルオキシド、
3,3′−ジアミノ−5,5′−トリフルオロメチルジ
フェニルオキシド、4,4′−トリフルオロメチル−
2,2′−ジアミノビフェニル、2,4,6−トリメチ
ル−1,3−ジアミノベンゼン、o,m−スフホンジア
ニリン、及びジアミノアントラキノンが含まれる。ジア
ミンの混合物も使用しうる。容易に入手でき良好に作用
するので6F,TDA,BAPP、及びODAが好まし
いジアミンである。
【0006】本発明のブロックコポリマーの調製におい
てはいかなる二無水物も使用しうる。熱的性質が良好な
ポリイミドシロキサンを得るためには芳香族二無水物が
好ましい。適する芳香族二無水物の例には、1,2,
5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物;1,
4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物;
2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物;2−(3′,4′−ジカルボキシフェニル)−5,
6−ジカルボキシベンズイミダゾール二無水物;2−
(3′,4′−ジカルボキシフェニル)−5,6−ジカ
ルボキシベンゾキサゾール二無水物;2−(3′,4′
−ジカルボキシフェニル)−5,6−ジカルボキシベン
ゾチアゾール二無水物;2,2′,3,3′−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物;2,3,3′,4′
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物;3,
3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物(BTDA);2,2′,3,3′−ビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物;2,3,3′,4′−ビフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物;3,3′,4,4′−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA);ビ
シクロ−〔2,2,2〕−オクテン−(7)−2,3,
5,6−テトラカルボン酸2,3:5,6−二無水物;
【0007】ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ス
ルホン二無水物;ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)スルホキシド二無水物;ビス(3′,4′−ジカル
ボキシフェニルオキサジアゾール−1,3,4)パラフ
ェニレン二無水物;ビス(3,4′−ジカルボキシフェ
ニル)2,5−オキサジアゾール−1,3,4二無水
物;ビス2,5−(3′,4′−ジカルボキシジフェニ
ルエーテル)1,3,4−オキサジアゾール二無水物;
ビス(3′,4′−ジカルボキシジフェニルエーテル)
2,5−オキサジアゾール−1,3,4二無水物;ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物又
はオキシジフタル酸無水物(ODPA);ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)チオエーテル二無水物;2,
2′−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン二無水物(6FDA);
【0008】ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プ
ロパン二無水物;ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)メタン二無水物;シクロペンタジエニルテトラカル
ボン酸二無水物;シクロペンタンテトラカルボン酸二無
水物;エチレンテトラカルボン酸二無水物;ペリレン
3,4,9,10−テトラカルボン酸二無水物;ピロメ
リット酸二無水物(PMDA);テトラヒドロフランテ
トラカルボン酸二無水物;及び5,5−〔2,2,2−
トリフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチリデ
ン〕ビス−1,3−イソベンゾフランジオンが含まれ
る。容易に入手でき良好に作用するのでBTDA,OD
PA,BPDA,及び6FDAが好ましい二無水物であ
る。Tg の低いポリマーが得られるので、ビスフェノー
ルAビスエーテル二無水物、ビスフェノールSビスエー
テル二無水物、及びハイドロキノンビスエーテル二無水
物のようなビスエーテル及びビススルフィド二無水物は
好ましくは回避される。
【0009】本発明のブロックコポリマーの調製におい
て使用されるシロキサン含有ジアミンは、少くとも1個
のシロキサン基(≡Si −O−基)を含むジアミンであ
る。本発明において使用しうるシロキサン含有ジアミン
は、本明細書においても参考にしている米国特許第4,8
29,131号に見い出されうる。有用なシロキサン含有
ジアミンは一般式: H2N-R′-[-SiR2-O-]m-SiR2-R′-NH2 を有する。式中、各Rは独立して1乃至12個の炭素原
子を有する一価の置換又は未置換脂肪族基又は6乃至1
0個の炭素原子を有する一価の置換又は未置換芳香族基
から選択され、シロキサン基の繰返し数であるmは0乃
至200であり、好ましくは1乃至12である。“G
m”という用語はm個の繰返し単位を有するシロキサン
ジアミンを示すのに用いられる。適するR基には−CH
3 ,−CF3 ,−(CH2)s CF3 ,−CH=CH2
−C6 5 ,−CF2 −CHF−CH3 ,及び−CH2
−CH2 −COO−CH2 CF2 CF2 CF3 が含まれ
る。式中、R′はRと同一の定義を有するが、一価では
なくて二価である。適するR′基には−(CH2)s −,
−(CF2)s −,−(CH2)s ( CF2)t −、及び−C
6 4 −( 式中、s及びtは各々独立して1乃至10か
ら選択される。)が含まれる。
【0010】適するシロキサン含有ジアミンの例は、
α,ω−ビス(3−アミノプロピル)ポリジメチルシロ
キサン: H2N(CH2)3-Si(CH3)2-[-O-Si(CH3)2-]m-(CH2)3NH2 である。
【0011】更に、ブロックコポリマーの調製中には溶
媒が必要である。ポリアミック酸 (polyamic acid)を溶
解させる、好ましくはポリイミドも溶解させる溶媒はい
ずれも本発明に使用しうる。適する溶媒の例にはN−ビ
ニルピロリドン、アセトン、ベンゼン、セロソルブアセ
テート(ヒドロキシエチルアセテートグリコールモノア
セテート)、トリエチルアミン(TEA)、セロソルブ
(グリコールエチルエーテル)、ジエチルエーテル、ジ
クロロメタン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド(DMAC)、エチルアルコール、ジグリム、ト
リグリム、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケト
ン、N−メチルピロリドン(NMP)、スルホラン、ト
ルエン、及びキシレンが含まれる。他の溶媒よりポリイ
ミドを可溶化させるし、毒性が低いとされているのでN
MPが好ましい溶媒である。約10乃至約35重量%の
固体の溶液を形成するのに十分な溶媒を使用すべきであ
る。溶媒の濃度はフィルムの厚さを制御するのに使用し
うる。
【0012】
【ポリアミック酸の調製】ポリアミック酸は三種類の方
法のいずれかにより調製しうる。第一の調製法において
は、シロキサン含有ジアミンをまず二無水物と反応させ
てシロキサン−アミック酸オリゴマーを形成する。次い
で追加の二無水物とシロキサン非含有ジアミンをオリゴ
マーと反応させてポリアミック酸を形成する。この方法
は、シロキサン含有ジアミンを完全に反応させるために
シロキサン含有ジアミンのモル数がシロキサン非含有ジ
アミンのモル数より低いのが好ましい。第二の調製法に
おいてはシロキサン非含有ジアミンをまず二無水物と反
応させてアミック酸オリゴマーを調製する。次いで残存
する二無水物及びシロキサン含有ジアミンをアミック酸
オリゴマーと反応させてポリアミック酸を調製する。シ
ロキサン非含有ジアミンを完全に反応させるためにシロ
キサン含有ジアミンのモル数がシロキサン非含有ジアミ
ンのモル数を越えるのが好ましい。第三の調製法におい
ては、アミック酸オリゴマー及びシロキサン−アミック
酸オリゴマーを別々に調製してから一緒に反応させる。
これらの反応は、当業者には公知であるが室温において
溶液中でおこる。
【0013】三種類全ての調製法において、シロキサン
含有ジアミンは過剰の二無水物(すなわち、二無水物の
シロキサンジアミンに対するモル比が1:1より大き
い)と反応させ、シロキサン非含有ジアミンは不十分な
二無水物(すなわち、二無水物の非シロキサンジアミン
に対するモル比が1:1より小さい)と反応させるの
で、形成されるアミック酸オリゴマーはいずれも末端が
ジアミンとなり形成されるシロキサン−アミック酸オリ
ゴマーはいずれも末端が無水物基となる。
【0014】このことは、シロキサン含有ジアミンと反
応する二無水物は1モルより大きく、シロキサン非含有
ジアミンと反応する二無水物は1モル未満でなければな
らないことを意味する(もちろん、ジアミンの全モル数
は二無水物の全モル数とほぼ等しくなければならな
い)。好ましくは、シロキサン含有ジアミンと反応する
二無水物の全モル数はシロキサン含有ジアミンのモル数
の2倍未満である。というのは、二無水物のモル数が2
倍以上の場合にはシロキサン−アミック酸オリゴマーが
形成されないであろうからである。二無水物のモル数の
シロキサン含有ジアミンのモル数に対する値が1から2
に増大すると、シロキサン−アミック酸オリゴマーの長
さは理論的には無限大から1個のシロキサン含有ジアミ
ン及び2個の二無水物から形成されたオリゴマーに低下
する。
【0015】全ポリマー重量の約5乃至約75重量%が
シロキサン含有ジアミンであるべきである。というの
は、シロキサン含有ジアミンが5重量%未満の場合には
コポリマーの吸湿性が高くなり、溶解性が低下して電気
的性質が不十分となり、コポリマーの75重量%以上が
シロキサン含有ジアミンの場合にはコポリマーが高温特
性及び機械的性質を失うであろう。好ましくは、ポリマ
ー重量の約20乃至約60重量%がシロキサン含有ジア
ミンである。同一の理由で、ジアミンの全モル数の約5
乃至約95モル%がシロキサン非含有ジアミンである。
好ましくは、シロキサン非含有ジアミンのモル数は、ジ
アミンの全モル数の約20乃至約90モル%である。
【0016】これらの割合を別の方法で述べると、第一
の調製法においては、二無水物のジアミンに対するモル
比であるxが1<x<2において二無水物をシロキサン
含有ジアミンと反応させることによりアミック酸シロキ
サンオリゴマーが形成され、次いでオリゴマーをyモル
の二無水物及びzモルのシロキサン非含有ジアミンと反
応させることによりアミック酸シロキサンブロックコポ
リマーが形成される(ただし、x+y=1+zであ
る。)ということである。シロキサン含有ジアミンの重
量はコポリマーの重量の約5乃至約75重量%であり、
zはz+1の約5乃至約95%である。
【0017】本発明の新規ポリアミック酸シロキサン延
長ブロックコポリマーは一般式:
【0018】
【化3】
【0019】(式中、Aは芳香族基であり、各A′は独
立してビスエーテル又はビススルフィド基を含まない芳
香族基から選択され、各Rは独立して1乃至12個の炭
素原子の一価の置換又は未置換脂肪族基又は6乃至10
個の炭素原子の一価の置換又は未置換芳香族基から選択
され、R′はRと同一の定義を有するが、一価ではなく
て二価であり、アミック酸ブロック中のアミック酸繰返
し単位の平均数であるnは1.5乃至20であり、シロキ
サン−アミック酸ブロック中のシロキサン−アミック酸
繰返し単位の平均数であるpは1.5乃至20である。)
を有する。コポリマーの重量平均分子量は一般的には約
5,000乃至約100,000である。本発明の新規ポリ
イミドシロキサン延長ブロックコポリマーは同一の一般
式であるが閉じたイミド環を有するものである。
【0020】
【ポリイミドシロキサン塗膜】支持体上の本発明による
ポリアミック酸延長ブロックコポリマーの塗膜は、ポリ
アミック酸の溶液を支持体上に塗布し、溶媒を蒸発させ
ることにより製造しうる。次いで約120℃の温度に約
45分間加熱し、更に約250℃の温度に約30分間加
熱することによりポリアミック酸がイミド化されてポリ
イミドシロキサン延長ブロックコポリマーが形成され
る。あるいは、ポリイミドシロキサンが溶媒に可溶性の
場合には、まずポリアミック酸の溶液をイミド化してポ
リイミドシロキサンの溶液を形成し、その溶液を支持体
上に塗布し、溶媒を蒸発させて支持体上にポリイミドシ
ロキサンの塗膜を形成することができる。塗膜は、シリ
コンチップ、プラスチック、金属、セラミック及びガラ
スを含むほとんどいずれの種類の支持体上にも形成しう
る。以下の実施例により更に本発明を説明する。
【0021】
【実施例1(比較例)】以下の方法によりポリ(シロキ
サン−アミック酸)を調製した。100ml のフラスコ
に16ml のNMPと共に2.28gのBTDAを添加し
た。BTDAを溶解させた後、1.0gのG9 (Mw =8
67)を添加した。混合物を2時間反応させ、0.72g
のTDAを添加して混合物を16時間反応させた。ポリ
(アミック酸)前駆物質をガラス板上にキャスチング
し、120℃で45分、次いで250℃で30分間硬化
させることによりポリイミドシロキサンのフィルムが得
られた。
【0022】
【実施例2】以下のようにして延長ブロックポリ(シロ
キサン−アミック酸)を調製した。100ml のフラス
コに、16ml のNMPと共に0.57gのBTDAを添
加した。BTDAを溶解させたのち、1.2gのG9 を添
加した。混合物を2時間反応させ、1.71gのBTDA
を添加し、次いで0.65gのTDAを添加した。混合物
を16時間反応させた。ポリ(アミック酸)前駆物質を
ガラス板上にキャスチングし、120℃で45分間、次
いで250℃で30分間硬化させることによりポリイミ
ドシロキサンブロックコポリマーのフィルムが得られ
た。
【0023】
【実施例3(比較例)】2.26gのBTDA、1.0gの
12(Mw =1087)、及び0.74gのTDAを用い
て実施例1と同様に行った。
【0024】
【実施例4(比較例)】2.03gのBTDA、1.4gの
9 、及び0.57gのTDAを用いて実施例1と同様に
行った。
【0025】
【実施例5】0.76gのBTDA、1.4gのG9 、及び
1.27gのBTDA、及び0.57gのTDAを用いて実
施例2と同様に行った。
【0026】
【実施例6(比較例)】2.18gのODPA、1.24g
のG5 (Mw =545)、及び0.58gのTDAを用い
て実施例1と同様に行った。
【0027】
【実施例7】1.09gのODPA、1.24gのG5 、1.
09gのODPA、及び0.58gのTDAを用いて実施
例2と同様に行った。
【0028】
【実施例8(比較例)】1.93gのODPA、1.52g
のG9 、及び0.55gのTDAを用いて実施例1と同様
に行った。
【0029】
【実施例9(比較例)】1.36gのODPA、1.60g
のG9 、及び1.60gのBAPPを用いて実施例1と同
様に行った。
【0030】
【実施例10】0.85gのODPA、1.24gのG9
0.51gのODPA、及び1.68gのBAPPを用いて
実施例2と同様に行った。
【0031】
【表1】 実施例 シロキサン シロキサン Tg(℃) NMP中の ジグリム中の番号 重量% Mw 溶解度 溶解度 1C 25 867 230 p i 2 25 867 265 p i 3C 25 1087 269 i i 4C 35 867 205 s s 5 35 867 230 s s 6C 30 543 150 s p 7 30 543 160 s p 8C 38 867 171 s i 9C 40 867 130 s s 10 40 867 142 s s C=比較例 s=可溶;p=部分的に可溶;i=不溶
【0032】実施例2、5、7及び10は本発明の範囲
内の延長ブロックコポリマーであり、実施例1、3、
4、6、8及び9は本発明の範囲内ではないランダムコ
ポリマーである。実施例2は、溶解性を失うことなく比
較例3と同様でかつ比較例1より改良されたTg を有す
る。同様に、実施例5も、溶解性を失うことなく比較例
4より改良されたTg を有する。実施例7は、溶解性を
損なうことなく、比較例8と同様にかつ、比較例6より
改良されたTg を有する。
【0033】実施例10は比較例9より改良されたTg
を有するが、なお、可溶性である。実施例3C及び8C
は、高分子量のシロキサン−ジアミンを用いる公知の方
法により高いTg が得られるが、この方法では、Tg が
高くなったことを示すのに溶解性がTg の低い非延長ブ
ロックコポリマーと同様である本発明の延長ブロックコ
ポリマーの場合とは違って溶解性が低下することを示
す。

Claims (28)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 二無水物をシロキサン基を含まないシロ
    キサン非含有ジアミンと反応させることにより製造され
    た少くとも1個のアミック酸ブロックと、二無水物を少
    くとも1個のシロキサン基を含むシロキサン含有ジアミ
    ンと反応させることにより製造された少くとも1個のシ
    ロキサン−アミック酸ブロックを含むポリアミック酸−
    シロキサンコポリマーからポリイミドシロキサンコポリ
    マーを製造する方法において、前記シロキサン含有ジア
    ミン1モル当り1モルより多い前記二無水物を用いて前
    記シロキサン−アミック酸ブロックを調製することを含
    む方法。
  2. 【請求項2】 2モル未満の前記二無水物を用いて前記
    シロキサン−アミック酸ブロックを調製する請求項1記
    載の方法。
  3. 【請求項3】 前記シロキサン含有ジアミンを前記二無
    水物と反応させて前記シロキサン−アミック酸ブロック
    を形成し、次いで前記シロキサン非含有ジアミン及び追
    加の二無水物を前記シロキサン−アミック酸ブロックと
    反応させる請求項1記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記シロキサン非含有ジアミンを前記二
    無水物と反応させてアミック酸ブロックを形成し、次い
    で前記シロキサン含有ジアミン及び追加の二無水物を前
    記アミック酸ブロックと反応させる請求項1記載の方
    法。
  5. 【請求項5】 前記シロキサン含有ジアミンを前記二無
    水物と反応させて前記シロキサン−アミック酸ブロック
    を形成し、一方、前記シロキサン非含有ジアミンを前記
    二無水物と反応させて前記アミック酸ブロックを形成
    し、かつ前記シロキサン−アミック酸ブロックを前記ア
    ミック酸ブロックと反応させる請求項1記載の方法。
  6. 【請求項6】 前記二無水物が芳香族である請求項1記
    載の方法。
  7. 【請求項7】 前記二無水物がピロメリット酸二無水
    物、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸
    二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラ
    カルボン酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、2,
    2′−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフ
    ルオロプロパン二無水物、及びそれらの混合物から成る
    群から選択される請求項6記載の方法。
  8. 【請求項8】 前記シロキサン非含有ジアミンが芳香族
    である請求項1記載の方法。
  9. 【請求項9】 前記シロキサン非含有ジアミンが2,
    2′−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロ
    パン、2,4−ジアミノトルエン、2,2−ビス(4−
    〔4−アミノフェノキシル〕フェニル)プロパン、3,
    4′−オキシジアニリン、及びそれらの混合物から成る
    群から選択される請求項8記載の方法。
  10. 【請求項10】 前記シロキサンジアミンが一般式: H2N-R′-[ -SiR2-O-]m -SiR2-R′-NH2 (式中、各Rは独立して1乃至12個の炭素原子を有す
    る一価の置換又は未置換脂肪族基又は6乃至10個の炭
    素原子を有する一価の置換又は未置換芳香族基から選択
    され、各R′は独立して1乃至12個の炭素原子を有す
    る二価の置換又は未置換脂肪族基又は6乃至10個の炭
    素原子を有する二価の置換又は未置換芳香族基から選択
    され、mは0乃至200である。)を有する請求項8記
    載の方法。
  11. 【請求項11】 前記mが1乃至12である請求項10
    記載の方法。
  12. 【請求項12】 前記シロキサン含有ジアミンが前記ポ
    リイミドシロキサンの重量の約5乃至約75重量%であ
    る請求項1記載の方法。
  13. 【請求項13】 前記シロキサン含有ジアミンが前記ポ
    リイミドシロキサンの重量の約20乃至約60重量%で
    ある請求項12記載の方法。
  14. 【請求項14】 前記シロキサン非含有ジアミンがジア
    ミンの全モル数の約5乃至約95モル%である請求項1
    記載の方法。
  15. 【請求項15】 前記シロキサン非含有ジアミンがジア
    ミンの全モル数の約20乃至約90モル%である請求項
    14記載の方法。
  16. 【請求項16】 前記ポリイミドシロキサンのTg が1
    00℃以上であり、N−メチルピロリドンに可溶性であ
    る請求項1記載の方法。
  17. 【請求項17】 請求項1記載の方法により製造された
    ポリイミドシロキサンブロックコポリマー。
  18. 【請求項18】 二無水物及び等モル量のジアミン(前
    記ジアミンはシロキサン含有ジアミン及びシロキサン非
    含有ジアミンの両方である)からポリイミドシロキサン
    ブロックコポリマーを製造する方法において、前記ポリ
    イミドシロキサン中のシロキサン−イミドブロックがい
    ずれも末端が無水物基のシロキサン−アミック酸ブロッ
    クから形成されており、前記ポリイミドシロキサン中の
    イミドブロックがいずれも末端がアミン基のアミック酸
    ブロックから形成されている方法。
  19. 【請求項19】 (A)二無水物のシロキサン含有ジア
    ミンに対するモル比xが1<x<2において前記二無水
    物を前記シロキサン含有ジアミンと反応させてアミック
    酸−シロキサンを形成すること;及び (B)yモルの二無水物及びzモルのシロキサン非含有
    ジアミンを前記オリゴマーと反応させて(但し、x+y
    =1+zである)、アミック酸−シロキサンブロックコ
    ポリマーを形成すること(但し、前記シロキサン含有ジ
    アミンの重量は前記コポリマーの重量の約5乃至約75
    重量%であって、zはz+1の約5乃至約95%であ
    る。) を含むポリアミック酸−シロキサン延長ブロックコポリ
    マーを製造する方法。
  20. 【請求項20】 請求項19の方法により調製されたポ
    リアミック酸−シロキサンブロックコポリマーをイミド
    化することを含むポリイミドシロキサン延長ブロックコ
    ポリマーを製造する方法。
  21. 【請求項21】 下記一般式で表わされるポリアミック
    酸−シロキサン延長ブロックコポリマー。 【化1】 (式中、Aは芳香族基であり、各A′は独立してビスエ
    ーテル又はビススルフィド基を含まない芳香族基から選
    択され、各Rは独立して1乃至12個の炭素原子の一価
    の置換又は未置換脂肪族基又は6乃至10個の炭素原子
    の一価の置換又は未置換芳香族基から選択され、各R′
    は独立して1乃至12個の炭素原子の二価の置換又は未
    置換脂肪族基又は6乃至10個の炭素原子の二価の置換
    又は未置換芳香族基から選択され、nは1.5乃至20で
    あり、pは1.5乃至20であり、かつmは0乃至200
    である。)
  22. 【請求項22】 重量平均分子量が約5000乃至約1
    00000である請求項21記載のポリアミック酸−シ
    ロキサン延長ブロックコポリマー。
  23. 【請求項23】 請求項21記載のポリアミック酸−シ
    ロキサン延長ブロックコポリマーをイミド化することを
    含むポリイミドシロキサン延長ブロックコポリマーを製
    造する方法。
  24. 【請求項24】 請求項21記載のポリアミック酸−シ
    ロキサン延長ブロックコポリマーの溶液を形成し、前記
    溶液を支持体上に塗布し、前記溶液の溶媒を蒸発させ、
    かつ前記コポリマーをイミド化することを含む支持体上
    にポリイミドシロキサン延長ブロックコポリマーの塗膜
    を形成する方法。
  25. 【請求項25】 請求項24記載の方法により製造され
    た塗膜付支持体。
  26. 【請求項26】 下記一般式で表わされるポリイミドシ
    ロキサン延長ブロックコポリマー。 【化2】 (式中、Aは芳香族基であり、各A′は独立してビスエ
    ーテル又はビススルフィド基を含まない芳香族基から選
    択され、各Rは独立して1乃至12個の炭素原子の一価
    の置換又は未置換脂肪族基又は6乃至10個の炭素原子
    の一価の置換又は未置換芳香族基から選択され、各R′
    は独立して1乃至12個の炭素原子の二価の置換又は未
    置換脂肪族基又は6乃至10個の炭素原子の二価の置換
    又は未置換芳香族基から選択され、nは1.5乃至20で
    あり、pは1.5乃至20であり、mは0乃至200であ
    り、かつ前記アミック酸ブロックの前記シロキサンブロ
    ックに対する割合は約0.05乃至約20である。)
  27. 【請求項27】 重量平均分子量が約5000乃至約1
    00000である請求項26記載のポリアミック酸−シ
    ロキサン延長ブロックコポリマー。
  28. 【請求項28】 請求項26記載のポリイミドシロキサ
    ン延長ブロックコポリマーの溶媒の溶液を形成し、前記
    溶液を支持体上に塗布し、かつ前記溶液の溶媒を蒸発さ
    せることを含む支持体上にポリイミドシロキサン延長ブ
    ロックコポリマーの塗膜を形成する方法。
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