JPH05157455A - 加熱装置 - Google Patents
加熱装置Info
- Publication number
- JPH05157455A JPH05157455A JP34815891A JP34815891A JPH05157455A JP H05157455 A JPH05157455 A JP H05157455A JP 34815891 A JP34815891 A JP 34815891A JP 34815891 A JP34815891 A JP 34815891A JP H05157455 A JPH05157455 A JP H05157455A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing cylinder
- heating device
- partition plate
- peripheral surface
- processed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Muffle Furnaces And Rotary Kilns (AREA)
- Tunnel Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、嵩密度が小さく、熱伝導の悪い被処
理物であっても、これを均一加熱でき、熱効率を向上で
きる、加熱装置を提供するものである。 【構成】本発明は、被処理物の投入口及び処理物の排出
口が開設された円筒状の処理筒が回転可能に設置されて
おり、該処理筒の内周面には仕切板が螺旋状に突設され
ていて、該処理筒の中央部に軸方向へ発熱体が装入され
て成ることを特徴としている。
理物であっても、これを均一加熱でき、熱効率を向上で
きる、加熱装置を提供するものである。 【構成】本発明は、被処理物の投入口及び処理物の排出
口が開設された円筒状の処理筒が回転可能に設置されて
おり、該処理筒の内周面には仕切板が螺旋状に突設され
ていて、該処理筒の中央部に軸方向へ発熱体が装入され
て成ることを特徴としている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は加熱装置に関する。スク
ラップ粉粒体の加熱乾燥処理、製鋼ダストからの希少金
属の回収、金属粉末の表面還元処理等に各種の加熱装置
が利用されている。本発明はかかる加熱装置の改良に関
するものである。
ラップ粉粒体の加熱乾燥処理、製鋼ダストからの希少金
属の回収、金属粉末の表面還元処理等に各種の加熱装置
が利用されている。本発明はかかる加熱装置の改良に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、上記のような加熱装置として、バ
ッチ方式、ローラハース方式、メッシュベルト方式等が
使用されている。ところが、かかる従来の加熱装置に
は、スクラップ粉粒体、製鋼ダスト、金属粉末等の被処
理物を均一加熱するのが難しく、熱効率が悪いという欠
点がある。もともと該被処理物は嵩密度が小さく、熱伝
導が悪いところ、従来の加熱装置は、その発熱体と該被
処理物との相対位置関係が固定的であるからである。
ッチ方式、ローラハース方式、メッシュベルト方式等が
使用されている。ところが、かかる従来の加熱装置に
は、スクラップ粉粒体、製鋼ダスト、金属粉末等の被処
理物を均一加熱するのが難しく、熱効率が悪いという欠
点がある。もともと該被処理物は嵩密度が小さく、熱伝
導が悪いところ、従来の加熱装置は、その発熱体と該被
処理物との相対位置関係が固定的であるからである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、従来の加熱装置では、被処理物を均一加熱
するのが難しく、熱効率が悪い点である。
する課題は、従来の加熱装置では、被処理物を均一加熱
するのが難しく、熱効率が悪い点である。
【0004】
【課題を解決するための手段】しかして本発明は、被処
理物の投入口及び処理物の排出口が開設された円筒状の
処理筒が回転可能に設置されており、該処理筒の内周面
には仕切板が螺旋状に突設されていて、該処理筒の中央
部に軸方向へ発熱体が装入されて成ることを特徴とする
加熱装置に係わる。
理物の投入口及び処理物の排出口が開設された円筒状の
処理筒が回転可能に設置されており、該処理筒の内周面
には仕切板が螺旋状に突設されていて、該処理筒の中央
部に軸方向へ発熱体が装入されて成ることを特徴とする
加熱装置に係わる。
【0005】本発明において、処理筒は円筒状に形成さ
れており、回転可能に設置されていて、該処理筒には被
処理物の投入口及び処理物の排出口が開設されている。
そして該処理筒の内周面には仕切板が螺旋状に突設され
ており、該処理筒の中央部に軸方向へ発熱体が装入され
ている。
れており、回転可能に設置されていて、該処理筒には被
処理物の投入口及び処理物の排出口が開設されている。
そして該処理筒の内周面には仕切板が螺旋状に突設され
ており、該処理筒の中央部に軸方向へ発熱体が装入され
ている。
【0006】処理筒は普通鋼製のものでよいが、熱効率
を上げるためにその内周面に断熱材を被覆するのが好ま
しく、また処理条件に応じて、特に処理温度に応じて、
その内周面に耐熱鋼や耐火材を被覆するのが好ましい。
この場合、仕切板の外周面にも断熱材、耐熱鋼又は耐火
材を被覆する。
を上げるためにその内周面に断熱材を被覆するのが好ま
しく、また処理条件に応じて、特に処理温度に応じて、
その内周面に耐熱鋼や耐火材を被覆するのが好ましい。
この場合、仕切板の外周面にも断熱材、耐熱鋼又は耐火
材を被覆する。
【0007】発熱体は処理筒の中央部に軸方向へ装入さ
れている。発熱体を処理筒の外部に設けることも考えら
れるが、これでは熱効率が悪過ぎる。発熱体としては、
黒鉛ヒータ、モリブデンヒータ、ラジアントチューブ等
を用いることができ、該発熱体はこれをその両端部で支
持しない場合には特に、仕切板の内径部分で中間支持す
るのが好ましい。
れている。発熱体を処理筒の外部に設けることも考えら
れるが、これでは熱効率が悪過ぎる。発熱体としては、
黒鉛ヒータ、モリブデンヒータ、ラジアントチューブ等
を用いることができ、該発熱体はこれをその両端部で支
持しない場合には特に、仕切板の内径部分で中間支持す
るのが好ましい。
【0008】処理目的に応じて、処理筒内の雰囲気を所
定ガス組成下に維持したり、或は所定真空下に維持する
場合には、該処理筒を気密容器で囲繞する。この場合、
該気密容器には真空ポンプ、投入系統及び排出系統を接
続し、該投入系統は処理筒の投入口と、また該排出系統
は処理筒の排出口とそれぞれ連通可能にして、該投入系
統及び該排出系統にシール手段を施す。そして好ましく
は、該排出系統に冷却手段を設ける。
定ガス組成下に維持したり、或は所定真空下に維持する
場合には、該処理筒を気密容器で囲繞する。この場合、
該気密容器には真空ポンプ、投入系統及び排出系統を接
続し、該投入系統は処理筒の投入口と、また該排出系統
は処理筒の排出口とそれぞれ連通可能にして、該投入系
統及び該排出系統にシール手段を施す。そして好ましく
は、該排出系統に冷却手段を設ける。
【0009】
【作用】被処理材を投入口から処理筒の一端部へ投入す
ると、該被処理材は該処理筒と共に回転する螺旋状の仕
切板によって転倒乃至回転を繰返しつつ全体としては撹
拌状態で該処理筒の他端部へと誘導され、同時に該処理
筒の中央部に装入されている発熱体によって加熱され
る。かくして加熱された処理材は該処理筒の他端部の排
出口から排出される。かかる加熱処理はバッチ的にも、
また半連続〜連続的にも可能であり、前述したように処
理筒を気密容器で囲繞することによって雰囲気を所定ガ
ス組成下に、また所定真空下に行なうこともできる。
ると、該被処理材は該処理筒と共に回転する螺旋状の仕
切板によって転倒乃至回転を繰返しつつ全体としては撹
拌状態で該処理筒の他端部へと誘導され、同時に該処理
筒の中央部に装入されている発熱体によって加熱され
る。かくして加熱された処理材は該処理筒の他端部の排
出口から排出される。かかる加熱処理はバッチ的にも、
また半連続〜連続的にも可能であり、前述したように処
理筒を気密容器で囲繞することによって雰囲気を所定ガ
ス組成下に、また所定真空下に行なうこともできる。
【0010】したがって本発明によると、被処理物の嵩
密度が小さく、熱伝導が悪くても、発熱体と該被処理物
との相対位置関係が絶えず変化し、該被処理材を多方向
から加熱するため、該被処理材を均一加熱でき、熱効率
を向上できる。
密度が小さく、熱伝導が悪くても、発熱体と該被処理物
との相対位置関係が絶えず変化し、該被処理材を多方向
から加熱するため、該被処理材を均一加熱でき、熱効率
を向上できる。
【0011】
【実施例】図1は本発明の一実施例を示す縦断面図であ
る。円筒状の処理筒11が横置きされており、処理筒1
1の右端中央部に被処理物の投入口12が、また左端部
に処理物の排出口13がそれぞれ開設されている。処理
筒11の内周面には仕切板21が螺旋状に突設されてお
り、処理筒11の内周面及び仕切板21の外周面に断熱
材31が被覆されている。
る。円筒状の処理筒11が横置きされており、処理筒1
1の右端中央部に被処理物の投入口12が、また左端部
に処理物の排出口13がそれぞれ開設されている。処理
筒11の内周面には仕切板21が螺旋状に突設されてお
り、処理筒11の内周面及び仕切板21の外周面に断熱
材31が被覆されている。
【0012】処理筒11は気密容器41で囲繞されてお
り、気密容器41の外部から処理筒11の内部へと発熱
体51が装入されていて、発熱体51は仕切板21の外
周面を被覆する断熱材31の内径部分で中間支持されて
いる。処理筒11と気密容器41との間には駆動ローラ
14,15が介装されており、駆動ローラ14,15は
図示しない駆動モータへと接続されている。処理筒11
は駆動ローラ14,15を介して気密容器41に支持さ
れており、駆動ローラ14,15によって回転する構成
である。
り、気密容器41の外部から処理筒11の内部へと発熱
体51が装入されていて、発熱体51は仕切板21の外
周面を被覆する断熱材31の内径部分で中間支持されて
いる。処理筒11と気密容器41との間には駆動ローラ
14,15が介装されており、駆動ローラ14,15は
図示しない駆動モータへと接続されている。処理筒11
は駆動ローラ14,15を介して気密容器41に支持さ
れており、駆動ローラ14,15によって回転する構成
である。
【0013】気密容器41には真空ポンプ61が、また
投入口12と連通可能な投入系統71及び排出口13と
連通可能な排出系統72がそれぞれ接続されている。投
入系統71及び排出系統72には2段のポッパ81,8
2がそれぞれ装備されており、ポッパ81の上段部81
aと下段部81bとの間はシリンダ駆動の仕切弁91a
で、ポッパ81の下段部81bと気密容器41との間は
シリンダ駆動の仕切弁91bで、ポッパ82の上段部8
2aと下段部82bとの間はシリンダ駆動の仕切弁92
aで、ポッパ82の下段部82bと受器との間はシリン
ダ駆動の仕切弁92bでそれぞれシールされるようにな
っている。
投入口12と連通可能な投入系統71及び排出口13と
連通可能な排出系統72がそれぞれ接続されている。投
入系統71及び排出系統72には2段のポッパ81,8
2がそれぞれ装備されており、ポッパ81の上段部81
aと下段部81bとの間はシリンダ駆動の仕切弁91a
で、ポッパ81の下段部81bと気密容器41との間は
シリンダ駆動の仕切弁91bで、ポッパ82の上段部8
2aと下段部82bとの間はシリンダ駆動の仕切弁92
aで、ポッパ82の下段部82bと受器との間はシリン
ダ駆動の仕切弁92bでそれぞれシールされるようにな
っている。
【0014】ポッパ81の下段部81b及びポッパ82
の下段部82bには真空ポンプ62,63がそれぞれ接
続されており、ポッパ82の上段部82aと気密容器4
1とを接続する排出系統部に冷却器64が装備されてい
る。
の下段部82bには真空ポンプ62,63がそれぞれ接
続されており、ポッパ82の上段部82aと気密容器4
1とを接続する排出系統部に冷却器64が装備されてい
る。
【0015】被処理物をポッパ81から投入口12を介
して処理筒11へと投入する際には、コンベアで搬送し
て上段部81aへ投入した被処理物を、仕切弁91aを
開き、仕切弁91bを閉じた状態で下段部81bへ投入
し、次に仕切弁91a,92bを閉じた状態で真空ポン
プ62によって下段部81bを真空雰囲気にした後、仕
切弁91bを開いて投入口12を介し処理筒11へと投
入する。
して処理筒11へと投入する際には、コンベアで搬送し
て上段部81aへ投入した被処理物を、仕切弁91aを
開き、仕切弁91bを閉じた状態で下段部81bへ投入
し、次に仕切弁91a,92bを閉じた状態で真空ポン
プ62によって下段部81bを真空雰囲気にした後、仕
切弁91bを開いて投入口12を介し処理筒11へと投
入する。
【0016】被処理物は処理筒11と共に回転する螺旋
状の仕切板21によって転倒乃至回転を繰返しつつ全体
としては撹拌状態で処理筒11の左端部へと誘導され、
同時に発熱体51によって加熱される。この加熱は真空
ポンプ61によって気密容器41の内部が、したがって
処理筒11の内部が真空雰囲気下に行なわれる。
状の仕切板21によって転倒乃至回転を繰返しつつ全体
としては撹拌状態で処理筒11の左端部へと誘導され、
同時に発熱体51によって加熱される。この加熱は真空
ポンプ61によって気密容器41の内部が、したがって
処理筒11の内部が真空雰囲気下に行なわれる。
【0017】かくして加熱処理した処理物を処理筒11
から排出口13を介してポッパ82へと排出する際に
は、冷却器64で冷却し、上段部82aへ排出した処理
物を、仕切弁92aを開き、仕切弁92bを閉じた状態
で下段部82bへ排出する。この排出の際、真空ポンプ
63によって下段部82bを予め真空雰囲気にしてお
く。次に仕切弁92aを閉じ、仕切弁92bを開いて受
器へと排出する。
から排出口13を介してポッパ82へと排出する際に
は、冷却器64で冷却し、上段部82aへ排出した処理
物を、仕切弁92aを開き、仕切弁92bを閉じた状態
で下段部82bへ排出する。この排出の際、真空ポンプ
63によって下段部82bを予め真空雰囲気にしてお
く。次に仕切弁92aを閉じ、仕切弁92bを開いて受
器へと排出する。
【0018】図1は、被処理物の投入口が処理筒の右端
中央部に開設されており、該被処理物をほぼ連続して真
空雰囲気下で加熱処理する場合を示しているが、本発明
がこれに限定されるというものではない。例えば、被処
理物の投入口が処理筒の右端上部又は右端上側部に開設
されており、発熱体が気密容器を貫通してその両端部で
支持されている場合、処理筒の回転と仕切弁の開閉とを
制御することによって、該被処理物をバッチ的又は半連
続的に所定の真空雰囲気下又はガス組成雰囲気下で加熱
処理することもできるのである。
中央部に開設されており、該被処理物をほぼ連続して真
空雰囲気下で加熱処理する場合を示しているが、本発明
がこれに限定されるというものではない。例えば、被処
理物の投入口が処理筒の右端上部又は右端上側部に開設
されており、発熱体が気密容器を貫通してその両端部で
支持されている場合、処理筒の回転と仕切弁の開閉とを
制御することによって、該被処理物をバッチ的又は半連
続的に所定の真空雰囲気下又はガス組成雰囲気下で加熱
処理することもできるのである。
【0019】
【発明の効果】既に明らかなように、以上説明した本発
明には、嵩密度が小さく、熱伝導の悪い被処理物であっ
ても、これを均一加熱でき、しかも熱効率を向上できる
という効果がある。
明には、嵩密度が小さく、熱伝導の悪い被処理物であっ
ても、これを均一加熱でき、しかも熱効率を向上できる
という効果がある。
【図1】本発明の一実施例を示す縦断面図。
11・・・処理筒、12・・・投入口、13・・・排出
口、14,15・・・駆動ローラ、21・・・仕切板、
31・・・断熱材、41・・・気密容器、51・・・発
熱体、61,62,63・・・真空ポンプ、64・・・
冷却器、71・・・投入系統、72・・・排出系統、8
1,82・・・ポッパ、91a,91b,92a,92
b・・・仕切弁
口、14,15・・・駆動ローラ、21・・・仕切板、
31・・・断熱材、41・・・気密容器、51・・・発
熱体、61,62,63・・・真空ポンプ、64・・・
冷却器、71・・・投入系統、72・・・排出系統、8
1,82・・・ポッパ、91a,91b,92a,92
b・・・仕切弁
Claims (6)
- 【請求項1】 被処理物の投入口及び処理物の排出口が
開設された円筒状の処理筒が回転可能に設置されてお
り、該処理筒の内周面には仕切板が螺旋状に突設されて
いて、該処理筒の中央部に軸方向へ発熱体が装入されて
成ることを特徴とする加熱装置。 - 【請求項2】 処理筒の内周面及び仕切板の外周面に断
熱材、耐熱鋼又は耐火材が被覆された請求項1記載の加
熱装置。 - 【請求項3】 発熱体が仕切板の内径部分で中間支持さ
れた請求項1記載の加熱装置。 - 【請求項4】 発熱体が仕切板の外周面に被覆された断
熱材、耐熱鋼又は耐火材の内径部分で中間支持された請
求項2記載の加熱装置。 - 【請求項5】 処理筒が気密容器で囲繞されており、該
気密容器には真空ポンプが、また該処理筒の投入口と連
通可能な投入系統及び該処理筒の排出口と連通可能な排
出系統がそれぞれ接続されていて、該投入系統及び該排
出系統にシール手段が施された請求項1、2、3又は4
記載の加熱装置。 - 【請求項6】 排出系統に冷却手段が設けられた請求項
5記載の加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34815891A JPH05157455A (ja) | 1991-12-03 | 1991-12-03 | 加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34815891A JPH05157455A (ja) | 1991-12-03 | 1991-12-03 | 加熱装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05157455A true JPH05157455A (ja) | 1993-06-22 |
Family
ID=18395138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34815891A Pending JPH05157455A (ja) | 1991-12-03 | 1991-12-03 | 加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05157455A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006234291A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Fuji Electric Systems Co Ltd | 誘導加熱式乾留炉 |
JP2011033333A (ja) * | 2010-09-24 | 2011-02-17 | Metawater Co Ltd | 誘導加熱式乾留炉 |
JP2012007783A (ja) * | 2010-06-23 | 2012-01-12 | Koyo Thermo System Kk | 熱処理装置 |
JP2015017799A (ja) * | 2014-08-22 | 2015-01-29 | 光洋サーモシステム株式会社 | 回転型熱処理装置 |
JP2015017798A (ja) * | 2014-08-22 | 2015-01-29 | 光洋サーモシステム株式会社 | 回転型熱処理装置 |
-
1991
- 1991-12-03 JP JP34815891A patent/JPH05157455A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006234291A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Fuji Electric Systems Co Ltd | 誘導加熱式乾留炉 |
JP4667905B2 (ja) * | 2005-02-25 | 2011-04-13 | メタウォーター株式会社 | 誘導加熱式乾留炉 |
JP2012007783A (ja) * | 2010-06-23 | 2012-01-12 | Koyo Thermo System Kk | 熱処理装置 |
JP2011033333A (ja) * | 2010-09-24 | 2011-02-17 | Metawater Co Ltd | 誘導加熱式乾留炉 |
JP4668358B2 (ja) * | 2010-09-24 | 2011-04-13 | メタウォーター株式会社 | 誘導加熱式乾留炉 |
JP2015017799A (ja) * | 2014-08-22 | 2015-01-29 | 光洋サーモシステム株式会社 | 回転型熱処理装置 |
JP2015017798A (ja) * | 2014-08-22 | 2015-01-29 | 光洋サーモシステム株式会社 | 回転型熱処理装置 |
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