JPH05128604A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH05128604A JPH05128604A JP31339791A JP31339791A JPH05128604A JP H05128604 A JPH05128604 A JP H05128604A JP 31339791 A JP31339791 A JP 31339791A JP 31339791 A JP31339791 A JP 31339791A JP H05128604 A JPH05128604 A JP H05128604A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rare earth
- coercive force
- magneto
- layer
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 希土類金属層と遷移金属層の膜厚を適切に選
定して光磁気記録媒体の特性を向上する。 【構成】 交互に積層される希土類金属層１１と遷移金
属層１２の１積層周期Ｔの厚さを、３．２Å乃至７．０
Åに選定した。 【効果】 光磁気記録媒体間の保磁力のバラツキを小さ
くすることができると共に、Ｃ／Ｎ値のバラツキも小さ
く且つ保磁力の大きな光磁気記録媒体の製造が容易とな
る。
定して光磁気記録媒体の特性を向上する。 【構成】 交互に積層される希土類金属層１１と遷移金
属層１２の１積層周期Ｔの厚さを、３．２Å乃至７．０
Åに選定した。 【効果】 光磁気記録媒体間の保磁力のバラツキを小さ
くすることができると共に、Ｃ／Ｎ値のバラツキも小さ
く且つ保磁力の大きな光磁気記録媒体の製造が容易とな
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、光磁気記録媒体にお
ける磁気記録層の保磁力のバラツキを小さくするための
改良に関する。
ける磁気記録層の保磁力のバラツキを小さくするための
改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】各種情報の記録媒体として用いられる光
磁気ディスクのような光磁気記録媒体は、ガラス、プラ
スチック等の透明基板上に気相成長法により誘電体層、
磁気記録層、保護層等を設けた多層構造を有している。
ここで、誘電体層は磁気光学効果を高めるために設けら
れており、また磁気記録層には希土類金属(以下ＲＥと
記す場合がある)と遷移金属(以下ＴＭと記す場合があ
る)との合金膜が一般に用いられ、例えばＴｂＦｅＣｏ
がよく知られている。この磁気記録層を形成する代表的
な方法としてはスパッタリング法があり、合金化された
ターゲットを使用する方法と、ＲＥ，ＴＭの別々のター
ゲットを使用して同時にスパッタリングして基板上で合
金化する２元スパッタリング法があるが、組成合わせが
容易にでき、また小さなターゲットでも大きな面積に均
一な組成の薄膜を形成できる等の利点から、一般的には
２元スパッタリング法が多く利用されている。
磁気ディスクのような光磁気記録媒体は、ガラス、プラ
スチック等の透明基板上に気相成長法により誘電体層、
磁気記録層、保護層等を設けた多層構造を有している。
ここで、誘電体層は磁気光学効果を高めるために設けら
れており、また磁気記録層には希土類金属(以下ＲＥと
記す場合がある)と遷移金属(以下ＴＭと記す場合があ
る)との合金膜が一般に用いられ、例えばＴｂＦｅＣｏ
がよく知られている。この磁気記録層を形成する代表的
な方法としてはスパッタリング法があり、合金化された
ターゲットを使用する方法と、ＲＥ，ＴＭの別々のター
ゲットを使用して同時にスパッタリングして基板上で合
金化する２元スパッタリング法があるが、組成合わせが
容易にでき、また小さなターゲットでも大きな面積に均
一な組成の薄膜を形成できる等の利点から、一般的には
２元スパッタリング法が多く利用されている。
【０００３】この２元スパッタリング法では、図２に示
すように通常２個のターゲットに対向して配置した基板
を公転及び自転させて薄膜を形成するが、この方法で得
られた磁気記録層はそれぞれ数Åから数十ÅのＲＥとＴ
Ｍが交互に積層された多層構造となっており、形成条件
に応じて各単層の厚さが変化する。例えば特開平１−２
０８７５０号では、スパッタリングに用いる電源の種類
と希土類金属層の厚さとを特定することにより、記録層
の特性を改善することが提案されている。しかしなが
ら、本発明者らの研究によると上記の提案では同一バッ
チ中のサンプル間でも保磁力にかなりのバラツキが生
じ、また記録媒体間でのＣ／Ｎ値にも差異が生ずること
が判明し、更に改良の余地があると認められた。
すように通常２個のターゲットに対向して配置した基板
を公転及び自転させて薄膜を形成するが、この方法で得
られた磁気記録層はそれぞれ数Åから数十ÅのＲＥとＴ
Ｍが交互に積層された多層構造となっており、形成条件
に応じて各単層の厚さが変化する。例えば特開平１−２
０８７５０号では、スパッタリングに用いる電源の種類
と希土類金属層の厚さとを特定することにより、記録層
の特性を改善することが提案されている。しかしなが
ら、本発明者らの研究によると上記の提案では同一バッ
チ中のサンプル間でも保磁力にかなりのバラツキが生
じ、また記録媒体間でのＣ／Ｎ値にも差異が生ずること
が判明し、更に改良の余地があると認められた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この発明はこのような
問題点に着目して希土類金属層と遷移金属層の膜厚につ
いて検討を加え、これらを適切に選定して光磁気記録媒
体の特性を一層向上することを課題としてなされたもの
である。
問題点に着目して希土類金属層と遷移金属層の膜厚につ
いて検討を加え、これらを適切に選定して光磁気記録媒
体の特性を一層向上することを課題としてなされたもの
である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、この発明では、希土類金属層と遷移金属層とが交
互に積層されてなる磁気記録層を有する光磁気記録媒体
において、前記交互に積層される希土類金属層と遷移金
属層の１積層周期の厚さを３．２Å乃至７．０Åとして
いる。
めに、この発明では、希土類金属層と遷移金属層とが交
互に積層されてなる磁気記録層を有する光磁気記録媒体
において、前記交互に積層される希土類金属層と遷移金
属層の１積層周期の厚さを３．２Å乃至７．０Åとして
いる。
【０００６】
【作用】１積層周期の厚さが上記の範囲であると十分に
高い保磁力が得られ、且つ保磁力やＣ／Ｎ値のバラツキ
が小さくなる。これは１積層周期の厚さが上記の範囲よ
りも小さくなると、十分な保磁力が得られる組成範囲が
非常に狭くなり、微小な組成のバラツキの影響が保磁力
に現われやすくなるためと考えられる。また上記の範囲
よりも大きい場合には、ＲＥとＴＭの合金としての磁気
特性が薄れて各単層の磁気特性がそのまま現われるよう
になり、更に、磁気記録層全体に占める希土類金属層と
遷移金属層の層数の差の影響が出るためと考えられる。
高い保磁力が得られ、且つ保磁力やＣ／Ｎ値のバラツキ
が小さくなる。これは１積層周期の厚さが上記の範囲よ
りも小さくなると、十分な保磁力が得られる組成範囲が
非常に狭くなり、微小な組成のバラツキの影響が保磁力
に現われやすくなるためと考えられる。また上記の範囲
よりも大きい場合には、ＲＥとＴＭの合金としての磁気
特性が薄れて各単層の磁気特性がそのまま現われるよう
になり、更に、磁気記録層全体に占める希土類金属層と
遷移金属層の層数の差の影響が出るためと考えられる。
【０００７】
【実施例】次に、実施例により保磁力とＣ／Ｎ値に対す
る１積層周期の厚さの影響について説明する。この実施
例ではＲＥとしてＧｄＤｙ合金を、ＴＭとしてＦｅをそ
れぞれ使用した。図２は磁気記録層の形成に用いた成膜
装置の概略図である。１は基板ホルダ、２，３はポリカ
ーボネート樹脂製の基板、４はＧｄＤｙ合金のターゲッ
ト、５はＦｅのターゲットであり、これらは真空槽６中
に配置され、各ターゲット４，５には電圧調整の可能な
直流電源７，８がそれぞれ接続されている。この真空槽
６を高真空度で排気した後、アルゴンガスを封入して５
mTorrの圧力に保ち、グロー放電を発生させてスパッタ
リングにより各ターゲット４，５に対向配置された基板
２，３に成膜させる。この時、基板ホルダ１は軸１ａに
より回転される。
る１積層周期の厚さの影響について説明する。この実施
例ではＲＥとしてＧｄＤｙ合金を、ＴＭとしてＦｅをそ
れぞれ使用した。図２は磁気記録層の形成に用いた成膜
装置の概略図である。１は基板ホルダ、２，３はポリカ
ーボネート樹脂製の基板、４はＧｄＤｙ合金のターゲッ
ト、５はＦｅのターゲットであり、これらは真空槽６中
に配置され、各ターゲット４，５には電圧調整の可能な
直流電源７，８がそれぞれ接続されている。この真空槽
６を高真空度で排気した後、アルゴンガスを封入して５
mTorrの圧力に保ち、グロー放電を発生させてスパッタ
リングにより各ターゲット４，５に対向配置された基板
２，３に成膜させる。この時、基板ホルダ１は軸１ａに
より回転される。
【０００８】積層周期は直流電源７及び８の電圧を変え
て成膜速度を増減させるか、基板ホルダ１の回転数を変
えることによって適宜変化させることができるが、ここ
ではＧｄＤｙ合金とＦｅの各ターゲットに印加する直流
電力の比を変えて保磁力が適切な値となるように調整
し、この直流電力比を一定に保って基板ホルダ１の回転
数を変えることで積層周期を変化させた。図１は磁気記
録層の構造図であって、ＧｄＤｙ合金の非晶質の希土類
金属層１１とＦｅの非晶質の遷移金属層１２とが積層周
期Ｔで１層ずつ交互に積層されており、この実施例では
磁気記録層の全体の厚さが約２５０Åとなるように積層
を行った。ここで、磁気記録層の厚さは２００〜３００
Åが適当である。これは２００Åより薄いとカー回転角
が小さくなり、３００Åより厚くなるとカーエンハンス
効果が小さくなるためであるが、２５０Åとすることで
これら光学的な特性を最適とすることができる。なお、
図１では便宜上各層１１，１２を同じ厚さで示してある
が、上述のように各ターゲットに印加する直流電力の比
を変えることにより一般には各層の厚さは異なったもの
となる。
て成膜速度を増減させるか、基板ホルダ１の回転数を変
えることによって適宜変化させることができるが、ここ
ではＧｄＤｙ合金とＦｅの各ターゲットに印加する直流
電力の比を変えて保磁力が適切な値となるように調整
し、この直流電力比を一定に保って基板ホルダ１の回転
数を変えることで積層周期を変化させた。図１は磁気記
録層の構造図であって、ＧｄＤｙ合金の非晶質の希土類
金属層１１とＦｅの非晶質の遷移金属層１２とが積層周
期Ｔで１層ずつ交互に積層されており、この実施例では
磁気記録層の全体の厚さが約２５０Åとなるように積層
を行った。ここで、磁気記録層の厚さは２００〜３００
Åが適当である。これは２００Åより薄いとカー回転角
が小さくなり、３００Åより厚くなるとカーエンハンス
効果が小さくなるためであるが、２５０Åとすることで
これら光学的な特性を最適とすることができる。なお、
図１では便宜上各層１１，１２を同じ厚さで示してある
が、上述のように各ターゲットに印加する直流電力の比
を変えることにより一般には各層の厚さは異なったもの
となる。
【０００９】表１は上記の方法で積層周期Ｔの厚さが異
なるNo.１〜９までの９種類のサンプルをそれぞれ多数
作成し、保磁力とＣ／Ｎ値を測定した評価結果を示した
ものである。評価は同一No.の各サンプル間の保磁力の
分布が±２０％以下であることを目安として行ったが、
サンプルNo.３〜７はこの基準を満足しているのに対し
て、他はいずれも基準を大幅に越えて不可であった。そ
して積層周期がサンプルNo.２はNo.３より僅かに小さ
く、またサンプルNo.８はNo.７より僅かに大きいにもか
かわらず数値が急激に悪化しているので、許容できる積
層周期の下限は３．２Å、上限は７．０Åであることが
認められる。またこの範囲のサンプルでは保磁力はいず
れも５kＯe以上あり、更にＣ／Ｎ値も平均値が４８dB以
上、分布もほぼ１％未満で良好な結果となっている。な
お、分布は(バラツキの最大値−最小値)／(最大値＋最
小値)を％表示したものである。
なるNo.１〜９までの９種類のサンプルをそれぞれ多数
作成し、保磁力とＣ／Ｎ値を測定した評価結果を示した
ものである。評価は同一No.の各サンプル間の保磁力の
分布が±２０％以下であることを目安として行ったが、
サンプルNo.３〜７はこの基準を満足しているのに対し
て、他はいずれも基準を大幅に越えて不可であった。そ
して積層周期がサンプルNo.２はNo.３より僅かに小さ
く、またサンプルNo.８はNo.７より僅かに大きいにもか
かわらず数値が急激に悪化しているので、許容できる積
層周期の下限は３．２Å、上限は７．０Åであることが
認められる。またこの範囲のサンプルでは保磁力はいず
れも５kＯe以上あり、更にＣ／Ｎ値も平均値が４８dB以
上、分布もほぼ１％未満で良好な結果となっている。な
お、分布は(バラツキの最大値−最小値)／(最大値＋最
小値)を％表示したものである。
【００１０】
【 表 １ 】
【００１１】一般に、ＧｄＤｙ合金とＦｅはこれを用い
て磁気記録層を形成した場合に大きな保磁力が得られに
くい材料として知られているが、積層周期の厚さを３．
２〜７．０Åとすることにより上述のように十分な保磁
力が少ないバラツキで得られるのであり、この発明の効
果が明確に認められた。なお、他の希土類金属と遷移金
属を使用した場合には積層周期の厚さの許容範囲は上記
よりも広くなる。また実施例ではスパッタリングの電源
として直流を用いているが、電源としては高周波電源の
使用も可能である。この場合にはスパッタ粒子のエネル
ギーが異なるため保磁力の絶対値は変化するが、積層周
期が保磁力のバラツキに及ぼす影響自体は同等であり、
やはり積層周期の厚さを３．２〜７．０Åとすることが
望ましい。
て磁気記録層を形成した場合に大きな保磁力が得られに
くい材料として知られているが、積層周期の厚さを３．
２〜７．０Åとすることにより上述のように十分な保磁
力が少ないバラツキで得られるのであり、この発明の効
果が明確に認められた。なお、他の希土類金属と遷移金
属を使用した場合には積層周期の厚さの許容範囲は上記
よりも広くなる。また実施例ではスパッタリングの電源
として直流を用いているが、電源としては高周波電源の
使用も可能である。この場合にはスパッタ粒子のエネル
ギーが異なるため保磁力の絶対値は変化するが、積層周
期が保磁力のバラツキに及ぼす影響自体は同等であり、
やはり積層周期の厚さを３．２〜７．０Åとすることが
望ましい。
【００１２】１積層周期の厚さがこの発明の範囲を外れ
た場合に良好な結果が得られない理由は、作用の項で述
べた通りと考えられるが、１積層周期の厚さが適正範囲
より大きくなった場合に磁気記録層全体に占める希土類
金属層と遷移金属層の層数の差の影響が出る理由は次の
通りである。すなわち、スパッタリング法によってＲＥ
層とＴＭ層を交互に積層する場合には、積層開始と終了
のタイミングによって図３の(a)〜(d)のように４通りの
組み合わせができる。ここで(b)と(c)はＲＥ層とＴＭ層
の数が最終的には等しくなるが、(a)ではＲＥ層の方
が、(d)ではＴＭ層の方がそれぞれ他よりも多くなる。
従って、１積層周期の厚さが大きくなって所定の厚さの
磁気記録層を構成する各層の数が少なくなる場合には、
各層の数の差の影響が磁気記録層全体の特性に出やすく
なるのである。なお、この実施例では簡単のためターゲ
ットを２つ用いた二元スパッタリング法により磁気記録
層を形成したが、ターゲットを３つ以上用いて多元スパ
ッタリング法によって形成してもよい。
た場合に良好な結果が得られない理由は、作用の項で述
べた通りと考えられるが、１積層周期の厚さが適正範囲
より大きくなった場合に磁気記録層全体に占める希土類
金属層と遷移金属層の層数の差の影響が出る理由は次の
通りである。すなわち、スパッタリング法によってＲＥ
層とＴＭ層を交互に積層する場合には、積層開始と終了
のタイミングによって図３の(a)〜(d)のように４通りの
組み合わせができる。ここで(b)と(c)はＲＥ層とＴＭ層
の数が最終的には等しくなるが、(a)ではＲＥ層の方
が、(d)ではＴＭ層の方がそれぞれ他よりも多くなる。
従って、１積層周期の厚さが大きくなって所定の厚さの
磁気記録層を構成する各層の数が少なくなる場合には、
各層の数の差の影響が磁気記録層全体の特性に出やすく
なるのである。なお、この実施例では簡単のためターゲ
ットを２つ用いた二元スパッタリング法により磁気記録
層を形成したが、ターゲットを３つ以上用いて多元スパ
ッタリング法によって形成してもよい。
【００１３】
【発明の効果】上述の実施例から明らかなように、この
発明は、希土類金属と遷移金属のそれぞれのターゲット
を使用するスパッタリング法により磁気記録層を形成す
る光磁気記録媒体において、交互に積層される希土類金
属層と遷移金属層の１積層周期の厚さを３．２Å乃至
７．０Åとしたものである。これにより、希土類金属層
と遷移金属層の特性が適切に発揮されて光磁気記録媒体
間の保磁力のバラツキを小さくすることができると共
に、Ｃ／Ｎ値のバラツキも小さく且つ保磁力の大きな光
磁気記録媒体の製造が容易となる。特に、大きな保磁力
が得られにくい材料であるＧｄＤｙ合金を希土類金属と
して、Ｆｅを遷移金属として用いても良好な特性の光磁
気記録媒体を得ることが可能となる。
発明は、希土類金属と遷移金属のそれぞれのターゲット
を使用するスパッタリング法により磁気記録層を形成す
る光磁気記録媒体において、交互に積層される希土類金
属層と遷移金属層の１積層周期の厚さを３．２Å乃至
７．０Åとしたものである。これにより、希土類金属層
と遷移金属層の特性が適切に発揮されて光磁気記録媒体
間の保磁力のバラツキを小さくすることができると共
に、Ｃ／Ｎ値のバラツキも小さく且つ保磁力の大きな光
磁気記録媒体の製造が容易となる。特に、大きな保磁力
が得られにくい材料であるＧｄＤｙ合金を希土類金属と
して、Ｆｅを遷移金属として用いても良好な特性の光磁
気記録媒体を得ることが可能となる。
【図１】この発明の実施例の磁気記録層の構造を示す図
である。
である。
【図２】同実施例の磁気記録層の形成に用いた成膜装置
の概略図である。
の概略図である。
【図３】同実施例の作用の説明図である。
２，３ 基板 ４ ＧｄＤｙ合金のターゲット ５ Ｆｅのターゲット １１ 希土類金属層 １２ 遷移金属層 ＲＥ 希土類金属 ＴＭ 遷移金属 Ｔ 積層周期
Claims (1)
- 【請求項１】 希土類金属層と遷移金属層とが交互に積
層されてなる磁気記録層を有する光磁気記録媒体であっ
て、前記交互に積層される希土類金属層と遷移金属層の
１積層周期の厚さが３．２Å乃至７．０Åであることを
特徴とする光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3313397A JP3001313B2 (ja) | 1991-10-31 | 1991-10-31 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3313397A JP3001313B2 (ja) | 1991-10-31 | 1991-10-31 | 光磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05128604A true JPH05128604A (ja) | 1993-05-25 |
| JP3001313B2 JP3001313B2 (ja) | 2000-01-24 |
Family
ID=18040780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3313397A Expired - Fee Related JP3001313B2 (ja) | 1991-10-31 | 1991-10-31 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3001313B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6109721B2 (ja) * | 2013-11-27 | 2017-04-05 | 象印マホービン株式会社 | 飲料容器 |
| JP2015144696A (ja) * | 2014-02-03 | 2015-08-13 | オルゴ株式会社 | 保冷、保温用飲料容器 |
-
1991
- 1991-10-31 JP JP3313397A patent/JP3001313B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3001313B2 (ja) | 2000-01-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4202932A (en) | Magnetic recording medium | |
| US5147734A (en) | Magnetic recording media manufactured by a process in which a negative bias voltage is applied to the substrate during sputtering | |
| US4929320A (en) | Method of making magneto-optical recording medium | |
| US6309516B1 (en) | Method and apparatus for metal allot sputtering | |
| US4983025A (en) | Magneto-optical thin film | |
| US5552217A (en) | Magnetic recording medium and a method for producing it | |
| JPH05128604A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP2561130B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP2002038258A (ja) | スパッタリングターゲット | |
| EP0007755A1 (en) | Method for producing a magnetic recording medium and magnetic recording medium so produced | |
| JPS5917222A (ja) | 多層磁性薄膜の製造方法 | |
| JPS62222609A (ja) | 光磁気記緑媒体 | |
| JPS63269354A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP3304382B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH0194552A (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH087352A (ja) | 光磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH09320135A (ja) | 光磁気記録媒体の製法 | |
| JP2735276B2 (ja) | Ｍｎ―Ａ▲ｌ▼強磁性体薄膜とその製造方法 | |
| JPH0766579B2 (ja) | 光磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH0536142A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP4029991B2 (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| BRÄUER et al. | INFLUENCE OF TARGET AND PROCESS PARAMETERS ON TbFeCo THIN FILMS PRODUCED BY DYNAMIC AND STATIC SPUTTER DEPOSITION | |
| JPH06264218A (ja) | スパッタリングターゲット | |
| JPH08329542A (ja) | 光磁気記録層の製法 | |
| JPH0410253A (ja) | 記録媒体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |