JPH05114567A - 縦型拡散、ｃｖｄ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】ウェーハの自然酸化を防止するのに構造の頑丈
な真空容器を設けることなく、常圧での窒素ガスの置換
でウェーハの酸化を防止しようとするものである。 【構成】反応室下方に常圧気密構造の隔室を形成し、該
隔室にボート装入装置を収納せしめると共に該隔室にシ
ャッタを設けて隔室を開閉可能とし、該隔室に窒素ガス
供給管、排気管を接続して、前記隔室内を常圧で窒素ガ
スに置換可能とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、シリコンウェーハを処
理して半導体素子を製造する縦型拡散、ＣＶＤ装置に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の縦型拡散、ＣＶＤ装置は、ロード
ロック室、該ロードロック室の上部に反応炉、ウェーハ
が装填されたカセットを授受し、且一時保持する為のカ
セット棚等からなり、これらは筐体内に収納された構造
となっている。又、前記ロードロック室にはウェーハが
装填されたボートを前記反応炉に装入、取出すボート昇
降装置等のウェーハ搬送装置を内蔵している。

【０００３】斯かる縦型拡散、ＣＶＤ装置に於いて、前
記反応炉で処理されたウェーハを拡散炉より大気中に取
出した場合、ウェーハが高温の為自然酸化する。従っ
て、従来の縦型拡散、ＣＶＤ装置では前記ロードロック
室を真空容器とし、該ロードロック室を真空状態として
ウェーハの装入、取出しを行い、更に前記ロードロック
室に窒素ガスを充満させ、ロードロック室を大気圧とし
た後、縦型拡散、ＣＶＤ装置から外部にウェーハを取出
していた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】前記したロードロック
室はウェーハが装填されたボートを前記拡散炉に装入、
取出すボート昇降装置を内蔵する等、比較的大容積であ
り、斯かるロードロック室を真空容器とするには、板厚
の厚い、而も構造上の制約から大型化せざるを得ず、製
作費も高価なものとなっていた。

【０００５】本発明は斯かる実情に鑑み、特に真空容器
を設けることなく、窒素ガスの置換でウェーハの酸化を
防止しようとするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、反応室下方に
常圧気密構造の隔室を形成し、該隔室にボート装入装置
を収納せしめると共に該隔室にシャッタを設けて隔室を
開閉可能とし、該隔室に窒素ガス供給管、排気管を接続
して、前記隔室内を常圧で窒素ガスに置換可能としたこ
とを特徴とするものである。

【０００７】

【作用】隔室内を常圧で窒素ガスに置換することで、隔
室内の酸素濃度を１００〜２０ppm に保持し得、実用上
支障ない濃度とすることができる。

【０００８】

【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。

【０００９】図１は本発明に係る縦型拡散、ＣＶＤ装置
の概略図であり、図中１は筐体を示し、該筐体１内部に
ボート装入装置２を収納する隔室３が形成され、該隔室
３の上方には反応炉４が設けられている。該隔室３は例
えば、各面にパネルを嵌込んだ如き構成であり、又各パ
ネルの接合部はゴム等のシール材でシールする。

【００１０】前記ボート装入装置２は、ボートエレベー
タ５にウェーハを多段に保持するボート６を載置するも
のであり、前記隔室３と反応炉４との間にはゲートバル
ブ７が設けられ、該隔室３の側壁にはシャッタ８が設け
られている。

【００１１】該シャッタ８を挾み、前記ボート装入装置
２に対向してウェーハ移載機９が設けられ、更に該ウェ
ーハ移載機９に隣接してカセット収納室１０が設けられ
ている。

【００１２】前記ウェーハ移載機９は、昇降可能な昇降
ブロック１１と、該昇降ブロック１１に設けられウェー
ハ１２を水平方向に移動させる搬送ユニット１３とから
成り、該ウェーハ移載機９により前記カセット収納室１
０に収納したカセツト１４からウェーハ１２を１枚ずつ
前記ボート６に移載する様になっている。

【００１３】前記隔室３には窒素ガス供給管１５が設け
られており、該窒素ガス供給管１５は図示しない窒素ガ
ス供給源に接続されている。又、前記隔室３には排気管
１６を接続し、該排気管１６には開閉弁１７を設ける。

【００１４】以下、作動を説明する。

【００１５】本実施例では、ウェーハ１２処理時、或は
ボート６の取出し時には前記シャッタ８を閉じ、前記開
閉弁１７を開け、前記窒素ガス供給管１５より窒素ガス
を供給しつつ前記排気管１６より排気して前記隔室３の
内部を窒素ガスに置換する。ここで、隔室３内部の圧力
は、常圧とする。

【００１６】而して、前記した様に隔室３は常圧環境で
は、密閉構造であり、該隔室３の酸素ガス濃度１００〜
２０ppm が容易に達せられ、処理後のウェーハ１２の自
然酸化を防止するに充分な環境とすることができる。

【００１７】ウェーハ１２の処理が終り、ボートエレベ
ータ５で前期ボートを取り出し、前期隔室３で所要時間
待機させる。

【００１８】又、前記隔室３を開放しウェーハ１２を待
機する場合は、前記ゲートバルブ７で反応炉４を閉塞し
た状態で、前記シャッタ８を開き、更に前記した様にウ
ェーハ移載機９によるウェーハの移載を行う。

【００１９】

【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、前記隔
室を常圧構造とすればよいので構造が著しく簡単とな
り、装置の製造コストを大幅に低減することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例示す概略図である。

【符号の説明】 １ 筐体 ３ 隔室 ８ シャッタ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 反応室下方に常圧気密構造の隔室を形成
   し、該隔室にボート装入装置を収納せしめると共に該隔
   室にシャッタを設けて隔室を開閉可能とし、該隔室に窒
   素ガス供給管、排気管を接続して、前記隔室内を常圧で
   窒素ガスに置換可能としたことを特徴とする縦型拡散、
   ＣＶＤ装置。