JPH07297257A - 処理装置 - Google Patents
処理装置Info
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- JPH07297257A JPH07297257A JP10776694A JP10776694A JPH07297257A JP H07297257 A JPH07297257 A JP H07297257A JP 10776694 A JP10776694 A JP 10776694A JP 10776694 A JP10776694 A JP 10776694A JP H07297257 A JPH07297257 A JP H07297257A
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- JP
- Japan
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- cassette
- container
- chamber
- loading
- wafer
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 例えばSMIFポットのようなカセット収容
容器を装置内部に取り込んで空になった収容容器を余剰
スペースに待機させることにより、装置内を有効利用で
きるのみならず空容器のストック場所をクリーンルーム
内に設ける必要がなく、しかも装置外の作業空間用クリ
ーンルームのクリーン度を従来程高くしなくて済む処理
装置を提供する。 【構成】 搬出入室12のカセット収容容器用ポート1
3に載置したカセット収容容器14を容器毎取り込み手
段15により装置内へ取り込む。この収容容器を容器移
載手段18により、装置内に設けた容器保管ステージ1
6に保管する。この収容容器から被処理体Wを取り出す
場合には、収容容器をカセット取り出しステージ17ま
で搬送して、ここでカセット毎被処理体を取り出す。そ
して、取り出された被処理体はカセットから移送機構7
によりローディング室8内の保持体6に移載され、その
後、処理室1にて所定の処理が施されることになる。
容器を装置内部に取り込んで空になった収容容器を余剰
スペースに待機させることにより、装置内を有効利用で
きるのみならず空容器のストック場所をクリーンルーム
内に設ける必要がなく、しかも装置外の作業空間用クリ
ーンルームのクリーン度を従来程高くしなくて済む処理
装置を提供する。 【構成】 搬出入室12のカセット収容容器用ポート1
3に載置したカセット収容容器14を容器毎取り込み手
段15により装置内へ取り込む。この収容容器を容器移
載手段18により、装置内に設けた容器保管ステージ1
6に保管する。この収容容器から被処理体Wを取り出す
場合には、収容容器をカセット取り出しステージ17ま
で搬送して、ここでカセット毎被処理体を取り出す。そ
して、取り出された被処理体はカセットから移送機構7
によりローディング室8内の保持体6に移載され、その
後、処理室1にて所定の処理が施されることになる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体ウエハ等
の被処理体に所定の処理を施す処理装置に関するもので
ある。
の被処理体に所定の処理を施す処理装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体の製造工程においては、
被処理体である半導体ウエハ(以下にウエハという)へ
の酸化膜の形成や熱CVD法による薄膜形成や熱拡散法
による不純物濃度領域の形成等を行う各種の処理装置が
使用されている。
被処理体である半導体ウエハ(以下にウエハという)へ
の酸化膜の形成や熱CVD法による薄膜形成や熱拡散法
による不純物濃度領域の形成等を行う各種の処理装置が
使用されている。
【0003】これら各種処理装置に適用されるものとし
て、従来の横型のものから、最近では縦型の熱処理装置
が多く採用されている。従来のこの種の縦型熱処理装置
としては、多数枚のウエハを収容した保持体であるウエ
ハボートをほぼ円筒形の縦型処理室(プロセスチュー
ブ)内に挿入し、プロセスチューブ内を所定の処理ガス
下で加熱することにより、ウエハの各種処理を行うもの
が知られている。
て、従来の横型のものから、最近では縦型の熱処理装置
が多く採用されている。従来のこの種の縦型熱処理装置
としては、多数枚のウエハを収容した保持体であるウエ
ハボートをほぼ円筒形の縦型処理室(プロセスチュー
ブ)内に挿入し、プロセスチューブ内を所定の処理ガス
下で加熱することにより、ウエハの各種処理を行うもの
が知られている。
【0004】従来のこの種の熱処理装置は、図9に示す
ように、例えば石英製のプロセスチューブ1の下側にマ
ニホールド2を設置し、このマニホールド2に設けられ
た排気管3及びガス導入管4によって、プロセスチュー
ブ1内のガスの排気及び導入が行われるようになってい
る。また、このプロセスチューブ1の外側には、プロセ
スチューブ1を囲んでヒータ5が設けられており、プロ
セスチューブ1内を所望の温度に加熱制御し得るように
なっている。
ように、例えば石英製のプロセスチューブ1の下側にマ
ニホールド2を設置し、このマニホールド2に設けられ
た排気管3及びガス導入管4によって、プロセスチュー
ブ1内のガスの排気及び導入が行われるようになってい
る。また、このプロセスチューブ1の外側には、プロセ
スチューブ1を囲んでヒータ5が設けられており、プロ
セスチューブ1内を所望の温度に加熱制御し得るように
なっている。
【0005】多数枚のウエハWを収納したウエハボート
6は、移送機構を構成するボートエレベータ7Aによっ
てローディング室8からプロセスチューブ1に挿入され
る。この際、ウエハボート6のフランジ6Aがマニホー
ルド2に当接してプロセスチューブ1内が密閉されるよ
うに構成されている。
6は、移送機構を構成するボートエレベータ7Aによっ
てローディング室8からプロセスチューブ1に挿入され
る。この際、ウエハボート6のフランジ6Aがマニホー
ルド2に当接してプロセスチューブ1内が密閉されるよ
うに構成されている。
【0006】また、ローディング室8に隣接して設置さ
れる移載室9内に、図示しないキャリア搬送手段によっ
て搬送されたウエハキャリアCに収納されたウエハWを
ウエハボート6に搬送または搬出するための搬出入手段
10が設置されている。
れる移載室9内に、図示しないキャリア搬送手段によっ
て搬送されたウエハキャリアCに収納されたウエハWを
ウエハボート6に搬送または搬出するための搬出入手段
10が設置されている。
【0007】上記のように構成される熱処理装置を用い
てウエハWに処理を施す場合は、まず、例えば窒素(N
2 )等の不活性ガス雰囲気(非酸素雰囲気)下でウエハ
をウエハボート6に収納し、このウエハボート6をボー
トエレベータ7Aによって上昇させてプロセスチューブ
1内に挿入する。その後、排気管3を用いてプロセスチ
ューブ1内のN2 ガスを排出し、プロセスチューブ1内
が所定の真空度に達すると、ガス導入管4により処理ガ
スを導入して所望の処理を行う。また、この上記した従
来装置はローディング室8内を密閉可能として真空引き
できるようにしたいわゆるロードロック室構造となって
いるが、他の装置例として、このローディング室内が略
大気圧の清浄空気雰囲気に常時維持されている構造のも
のもある。
てウエハWに処理を施す場合は、まず、例えば窒素(N
2 )等の不活性ガス雰囲気(非酸素雰囲気)下でウエハ
をウエハボート6に収納し、このウエハボート6をボー
トエレベータ7Aによって上昇させてプロセスチューブ
1内に挿入する。その後、排気管3を用いてプロセスチ
ューブ1内のN2 ガスを排出し、プロセスチューブ1内
が所定の真空度に達すると、ガス導入管4により処理ガ
スを導入して所望の処理を行う。また、この上記した従
来装置はローディング室8内を密閉可能として真空引き
できるようにしたいわゆるロードロック室構造となって
いるが、他の装置例として、このローディング室内が略
大気圧の清浄空気雰囲気に常時維持されている構造のも
のもある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この種の構
造の縦型熱処理装置においては、一般的には、ウエハキ
ャリアCを収容する移載室9内へのウエハキャリアCの
搬出入は、これに設けたドア11を開閉して行われ、こ
のウエハキャリアはAGV(自動搬送車)や人間により
内部のウエハをクリーンエアに晒した状態で搬送されて
真空室内に設置されたり、或いは処理済みのウエハもク
リーンエアに晒された状態で搬出される。
造の縦型熱処理装置においては、一般的には、ウエハキ
ャリアCを収容する移載室9内へのウエハキャリアCの
搬出入は、これに設けたドア11を開閉して行われ、こ
のウエハキャリアはAGV(自動搬送車)や人間により
内部のウエハをクリーンエアに晒した状態で搬送されて
真空室内に設置されたり、或いは処理済みのウエハもク
リーンエアに晒された状態で搬出される。
【0009】従って、移載室9のドア11の外側すなわ
ちオペレータ等が作業を行うクリーンルーム内全体は、
ウエハへのパーティクルの付着を防止するために移載室
9やローディング室8内と同等の或いはそれに近い高い
クリーン度、例えばクラス1に維持しなければならな
い。クリーンルームを建設する場合にはそのクリーン度
が高ければ高くなる程、単位面積当たりの建設コストが
高くなり、従って上述のようにウエハキャリアCを運ん
だり、オペレータが作業したりする空間全体を高いクリ
ーン度を目標として建設すると大幅なコスト高になると
いう問題があった。更には、容積の大きなクリーンルー
ム全体を高い清浄度に維持しなければならないことか
ら、ランニングコストも上昇するという問題点があっ
た。
ちオペレータ等が作業を行うクリーンルーム内全体は、
ウエハへのパーティクルの付着を防止するために移載室
9やローディング室8内と同等の或いはそれに近い高い
クリーン度、例えばクラス1に維持しなければならな
い。クリーンルームを建設する場合にはそのクリーン度
が高ければ高くなる程、単位面積当たりの建設コストが
高くなり、従って上述のようにウエハキャリアCを運ん
だり、オペレータが作業したりする空間全体を高いクリ
ーン度を目標として建設すると大幅なコスト高になると
いう問題があった。更には、容積の大きなクリーンルー
ム全体を高い清浄度に維持しなければならないことか
ら、ランニングコストも上昇するという問題点があっ
た。
【0010】そこで、本発明者は、先の出願(特願平5
−339529号)において、内部雰囲気が高いクリー
ン度に維持されて、内部にウエハキャリア1個を収容で
きる持ち運び可能なカセット収容容器を取り扱うことが
できる処理装置について提案した。この処理装置によれ
ば、この容器内に高いクリーン度にて密閉状態にしてウ
エハを収容し、装置間に搬送できるので作業空間のクリ
ーン度を従来程を高く維持しなくて済み、設備コストを
削減することができ、しかも、ウエハがクリーンルーム
や装置内に長時間放置されることによるケミカルコンタ
ミネーションの抑制を図ることができる。ところで、こ
のカセット収容容器を用いてウエハを搬送した場合、空
になったキャリア収容容器をウエハの処理が完了するま
で、処理装置の外側近傍に待機させておくために、別
途、カセット収容容器載置棚のような収容スペースを確
認しなければならない。このために、設備コスト削減の
ために上述のようなキャリア収容容器を取り扱うように
しても、余分な収納スペースを確保しなければならない
ことから、キャリア収容容器のメリットを十分に生かし
きれていないという新たな問題点が発生した。
−339529号)において、内部雰囲気が高いクリー
ン度に維持されて、内部にウエハキャリア1個を収容で
きる持ち運び可能なカセット収容容器を取り扱うことが
できる処理装置について提案した。この処理装置によれ
ば、この容器内に高いクリーン度にて密閉状態にしてウ
エハを収容し、装置間に搬送できるので作業空間のクリ
ーン度を従来程を高く維持しなくて済み、設備コストを
削減することができ、しかも、ウエハがクリーンルーム
や装置内に長時間放置されることによるケミカルコンタ
ミネーションの抑制を図ることができる。ところで、こ
のカセット収容容器を用いてウエハを搬送した場合、空
になったキャリア収容容器をウエハの処理が完了するま
で、処理装置の外側近傍に待機させておくために、別
途、カセット収容容器載置棚のような収容スペースを確
認しなければならない。このために、設備コスト削減の
ために上述のようなキャリア収容容器を取り扱うように
しても、余分な収納スペースを確保しなければならない
ことから、キャリア収容容器のメリットを十分に生かし
きれていないという新たな問題点が発生した。
【0011】本発明は、以上のような問題点に着目し、
これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明
の目的は、例えばSMIF(Standard Mec
hanical InterFace)ポットのような
カセット収容容器を装置内部に取り込んで空になった収
容容器を余剰スペースに待機させることにより、装置内
を有効利用でき、しかも作業空間用クリーンルームのク
リーン度を従来程高くしなくて済む処理装置を提供する
ことにある。更に、本発明の目的はウエハの雰囲気制御
(不活性ガス他)可能なシステムを提供することにあ
る。
これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明
の目的は、例えばSMIF(Standard Mec
hanical InterFace)ポットのような
カセット収容容器を装置内部に取り込んで空になった収
容容器を余剰スペースに待機させることにより、装置内
を有効利用でき、しかも作業空間用クリーンルームのク
リーン度を従来程高くしなくて済む処理装置を提供する
ことにある。更に、本発明の目的はウエハの雰囲気制御
(不活性ガス他)可能なシステムを提供することにあ
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
解決するために、被処理体に所定の処理を施す処理室
と、この処理室に対して前記被処理体を収容した保持体
を挿脱する移送機構を有するローディング室と、このロ
ーディング室に対して、カセット内に収容されている被
処理体を搬出入する搬出入室とを具備する処理装置にお
いて、前記搬出入室は、外部との間で前記カセットを搬
出入するために、内部が清浄空気或いは不活性ガス雰囲
気になされて密閉可能になされた搬送可能なカセット収
容容器を設置するためのカセット収容容器用ポートと、
このポートに設置された前記カセット収容容器を前記搬
出入室内に取り込む取り込み手段と、取り込まれた前記
カセット収容容器を一時的に保管する容器保管ステージ
と、前記カセット収容容器内に収容されたカセットを取
り出すためのカセット取り出しステージと、前記容器保
管ステージと前記取り込み手段と前記カセット取り出し
ステージとの間で前記カセット収容容器の受け渡しを行
う容器移載手段とを備えるようにしたものである。
解決するために、被処理体に所定の処理を施す処理室
と、この処理室に対して前記被処理体を収容した保持体
を挿脱する移送機構を有するローディング室と、このロ
ーディング室に対して、カセット内に収容されている被
処理体を搬出入する搬出入室とを具備する処理装置にお
いて、前記搬出入室は、外部との間で前記カセットを搬
出入するために、内部が清浄空気或いは不活性ガス雰囲
気になされて密閉可能になされた搬送可能なカセット収
容容器を設置するためのカセット収容容器用ポートと、
このポートに設置された前記カセット収容容器を前記搬
出入室内に取り込む取り込み手段と、取り込まれた前記
カセット収容容器を一時的に保管する容器保管ステージ
と、前記カセット収容容器内に収容されたカセットを取
り出すためのカセット取り出しステージと、前記容器保
管ステージと前記取り込み手段と前記カセット取り出し
ステージとの間で前記カセット収容容器の受け渡しを行
う容器移載手段とを備えるようにしたものである。
【0013】
【作用】本発明は、以上のように構成したので、搬出入
室に対して被処理体を搬出入する時には、内部が外部雰
囲気と密閉隔離されたカセット収容容器を搬出入室のカ
セット収容容器用ポートに載置する。ポートに載置され
た収容容器は取り込み手段により収容容器のままで装置
内に取り込まれ、次に容器移載手段により容器保管ステ
ージに移載され、ここで一時的に保管される。ここに保
管されたカセット収容容器は、容器移載手段によりカセ
ット取り出しステージに移載され、ここでカセット収容
容器内からカセット内に収容された状態で被処理体が取
り出される。ここで空になったカセット収容容器は再
度、容器移載手段により上記容器保管ステージまで搬送
され、ここで被処理体の処理が完了するまで待機してい
る。カセット内の被処理体は、ローディング室を経由し
て処理室に搬送されて処理される。被処理体の処理が完
了すると、前述と逆の手順で処理済の被処理体はカセッ
ト収容容器内に収容され、この容器は密閉状態でカセッ
ト収容容器用ポートから装置外へ搬送されることにな
る。従って、被処理体を剥き出し状態で、オペレータが
作業する作業空間中に晒すことがないので作業空間のク
リーン度をそれ程高く設定する必要もなく、また、装置
外に空のカセット収容容器用ポートを待機させるエリア
を確保する必要もない。
室に対して被処理体を搬出入する時には、内部が外部雰
囲気と密閉隔離されたカセット収容容器を搬出入室のカ
セット収容容器用ポートに載置する。ポートに載置され
た収容容器は取り込み手段により収容容器のままで装置
内に取り込まれ、次に容器移載手段により容器保管ステ
ージに移載され、ここで一時的に保管される。ここに保
管されたカセット収容容器は、容器移載手段によりカセ
ット取り出しステージに移載され、ここでカセット収容
容器内からカセット内に収容された状態で被処理体が取
り出される。ここで空になったカセット収容容器は再
度、容器移載手段により上記容器保管ステージまで搬送
され、ここで被処理体の処理が完了するまで待機してい
る。カセット内の被処理体は、ローディング室を経由し
て処理室に搬送されて処理される。被処理体の処理が完
了すると、前述と逆の手順で処理済の被処理体はカセッ
ト収容容器内に収容され、この容器は密閉状態でカセッ
ト収容容器用ポートから装置外へ搬送されることにな
る。従って、被処理体を剥き出し状態で、オペレータが
作業する作業空間中に晒すことがないので作業空間のク
リーン度をそれ程高く設定する必要もなく、また、装置
外に空のカセット収容容器用ポートを待機させるエリア
を確保する必要もない。
【0014】
【実施例】以下に本発明の一実施例を図面に基いて詳細
に説明する。ここでは、本発明の処理装置を半導体ウエ
ハの熱処理装置に適用した場合について説明する。尚、
従来の熱処理装置と同じ部分には同一符号を付して説明
する。
に説明する。ここでは、本発明の処理装置を半導体ウエ
ハの熱処理装置に適用した場合について説明する。尚、
従来の熱処理装置と同じ部分には同一符号を付して説明
する。
【0015】図1はこの発明の処理装置の概略断面図、
図2はこの装置の前面側を示す斜視図、図3は図1の概
略平面図、図4は保持体収容室の断面図、図5はカセッ
ト取り出しステージを示す断面図、図6はカセット収容
容器を示す断面構成図である。尚、本実施例にあって
は、まずローディング室として、他の室に対して密閉可
能になされ、しかも不活性雰囲気としてN2 ガスが供給
・真空引き可能になされたいわゆるロードロック室構造
になされた装置について説明する。
図2はこの装置の前面側を示す斜視図、図3は図1の概
略平面図、図4は保持体収容室の断面図、図5はカセッ
ト取り出しステージを示す断面図、図6はカセット収容
容器を示す断面構成図である。尚、本実施例にあって
は、まずローディング室として、他の室に対して密閉可
能になされ、しかも不活性雰囲気としてN2 ガスが供給
・真空引き可能になされたいわゆるロードロック室構造
になされた装置について説明する。
【0016】本発明の処理装置は、被処理体であるウエ
ハWに所定の処理を施す処理室であるプロセスチューブ
1と、このプロセスチューブ1に対して多数枚例えば1
00枚のウエハWを収納した保持体としてのウエハボー
ト6を挿脱する移送機構7を備えたローディング室とし
てのロードロック室8と、このロードロック室8に対し
てウエハWを搬出入する搬出入室12と、この搬出入室
12に形成されたカセット収容容器用ポート13と、こ
のポート13に載置されたカセット収容容器14を搬出
入室12内に取り込む取り込み手段15と、取り込んだ
カセット収容容器14を一時的に保管する容器保管ステ
ージ16と、カセット収容容器14内に収容されたカセ
ットCを取り出すカセット取り出しステージ17と、搬
出入室12内にてカセット収容容器14の受け渡しを行
う容器移載手段18と、ロードロック室8と搬出入室1
2との間に配置されるウエハボート6を収容する保持体
収容室19とで主要部が構成されている。
ハWに所定の処理を施す処理室であるプロセスチューブ
1と、このプロセスチューブ1に対して多数枚例えば1
00枚のウエハWを収納した保持体としてのウエハボー
ト6を挿脱する移送機構7を備えたローディング室とし
てのロードロック室8と、このロードロック室8に対し
てウエハWを搬出入する搬出入室12と、この搬出入室
12に形成されたカセット収容容器用ポート13と、こ
のポート13に載置されたカセット収容容器14を搬出
入室12内に取り込む取り込み手段15と、取り込んだ
カセット収容容器14を一時的に保管する容器保管ステ
ージ16と、カセット収容容器14内に収容されたカセ
ットCを取り出すカセット取り出しステージ17と、搬
出入室12内にてカセット収容容器14の受け渡しを行
う容器移載手段18と、ロードロック室8と搬出入室1
2との間に配置されるウエハボート6を収容する保持体
収容室19とで主要部が構成されている。
【0017】この場合、上記保持体収容室19と搬出入
室12及びロードロック室8との間には、フロントオー
トドア20,リアオートドア21がそれぞれ開閉可能に
配設されて、これらフロント及びリアオートドア20,
21が閉塞されると、保持体収容室19内が密閉状態に
維持されるようになっている。また、保持体収容室19
には、図示しない真空ポンプに接続する真空配管22が
接続されると共に、図示しない例えばN2 ガス供給源に
接続するN2 ガス導入管23及びN2 ガス排出管24が
接続されている。従って、この保持体収容室19内を所
定の真空雰囲気またはN2 ガス等の雰囲気下に置換する
ことができる。
室12及びロードロック室8との間には、フロントオー
トドア20,リアオートドア21がそれぞれ開閉可能に
配設されて、これらフロント及びリアオートドア20,
21が閉塞されると、保持体収容室19内が密閉状態に
維持されるようになっている。また、保持体収容室19
には、図示しない真空ポンプに接続する真空配管22が
接続されると共に、図示しない例えばN2 ガス供給源に
接続するN2 ガス導入管23及びN2 ガス排出管24が
接続されている。従って、この保持体収容室19内を所
定の真空雰囲気またはN2 ガス等の雰囲気下に置換する
ことができる。
【0018】また、上記保持体収容室19の下部には、
図4に示すように、例えばベローズシール25を介して
載置台26が上下動可能に配置され、この載置台26の
室外側にウエハボート6の有無を確認するための検出手
段27が設けられている。この検出手段27は、載置台
26に連結された可動検出体27Aと、この可動検出体
27Aの上下移動部に関して対峙される発光部27Bと
受光部27Cとからなる光センサー27Dとで構成され
ている。従って、保持体収容室19内にウエハボート6
が収容されて載置台26上にウエハボート6が載置され
ると、その重量によって載置台26が下降すると共に、
可動検出体27Aも下降して、発光部27Bから受光部
27Cへの光を遮断することにより、ウエハボート6の
有無を判断することができる。尚、ウエハボート6の有
無の検出は必ずしもこのような検出手段27で行う必要
はなく、例えば保持体収容室19の天井や床部或いは壁
部にシール機構を介して埋設されるセンサーによってウ
エハボート6の有無を判断するなど任意の検出手段を用
いることができる。
図4に示すように、例えばベローズシール25を介して
載置台26が上下動可能に配置され、この載置台26の
室外側にウエハボート6の有無を確認するための検出手
段27が設けられている。この検出手段27は、載置台
26に連結された可動検出体27Aと、この可動検出体
27Aの上下移動部に関して対峙される発光部27Bと
受光部27Cとからなる光センサー27Dとで構成され
ている。従って、保持体収容室19内にウエハボート6
が収容されて載置台26上にウエハボート6が載置され
ると、その重量によって載置台26が下降すると共に、
可動検出体27Aも下降して、発光部27Bから受光部
27Cへの光を遮断することにより、ウエハボート6の
有無を判断することができる。尚、ウエハボート6の有
無の検出は必ずしもこのような検出手段27で行う必要
はなく、例えば保持体収容室19の天井や床部或いは壁
部にシール機構を介して埋設されるセンサーによってウ
エハボート6の有無を判断するなど任意の検出手段を用
いることができる。
【0019】上記処理室を構成するプロセスチューブ1
は、断面逆U字状の縦型略円筒状の石英製容器にて形成
されており、このプロセスチューブ1の外周にはヒータ
5が囲繞され、更にその周囲には冷却パイプや断熱材等
を組み込んだ保護カバー28が被覆されている。また、
プロセスチューブ1の開口下端にはマニホールド2が接
続して設けられている。このマニホールド2は上下フラ
ンジ付き円筒状のもので、図1に示すように、このマニ
ホールド2の周壁部に、プロセスチューブ1内に所定の
処理用ガスを導入するガス導入管4と、処理後のガスを
排気する排気管3がそれぞれ接続されている。この場
合、ガス導入管4は図示しないガス切換弁を介して所定
の処理ガス供給源とN2 ガス供給源に接続されて、交互
に処理ガスとN2 ガスをプロセスチューブ1内に導入で
きるようになっている。
は、断面逆U字状の縦型略円筒状の石英製容器にて形成
されており、このプロセスチューブ1の外周にはヒータ
5が囲繞され、更にその周囲には冷却パイプや断熱材等
を組み込んだ保護カバー28が被覆されている。また、
プロセスチューブ1の開口下端にはマニホールド2が接
続して設けられている。このマニホールド2は上下フラ
ンジ付き円筒状のもので、図1に示すように、このマニ
ホールド2の周壁部に、プロセスチューブ1内に所定の
処理用ガスを導入するガス導入管4と、処理後のガスを
排気する排気管3がそれぞれ接続されている。この場
合、ガス導入管4は図示しないガス切換弁を介して所定
の処理ガス供給源とN2 ガス供給源に接続されて、交互
に処理ガスとN2 ガスをプロセスチューブ1内に導入で
きるようになっている。
【0020】上記ロードロック室8は、例えばステンレ
ス鋼製パネルを全周溶接するか、或いはOリングシール
にてシールした密閉構造となっており、その上部及び下
部の適宜位置には図示しない例えばN2 ガス供給源に接
続するN2 ガス導入管29及びN2 ガス排出管30がそ
れぞれ接続されて、事前にロードロック室8内に常時所
定量のN2 ガスが供給されコントロールされた雰囲気に
なっている。このロードロック室8内に配置される移送
機構7は、ウエハボート6を載置保持するボートエレベ
ータ7Aと、このボートエレベータ7Aを昇降移動する
ボールねじ装置7Bとで構成されている。また、ロード
ロック室8内の保持体収容室側には、移送機構7のボー
トエレベータ7Aと保持体収容室19の間でウエハボー
ト6を搬送する搬送機構31が配置されている。この搬
送機構31は、ロードロック室8の外部に設置される水
平回転(旋回)及び昇降用の駆動部31Aと、ロードロ
ック室8内に位置する駆動部31Aの伝達軸に連結さ
れ、ウエハボート6を保持する多間接アーム31Bとで
構成されている。尚、ロードロック室8の上部に設けら
れた炉口部には、ロードロック室8とプロセスチューブ
1との開口部を開閉するオートシャッタ32が設けられ
ている。
ス鋼製パネルを全周溶接するか、或いはOリングシール
にてシールした密閉構造となっており、その上部及び下
部の適宜位置には図示しない例えばN2 ガス供給源に接
続するN2 ガス導入管29及びN2 ガス排出管30がそ
れぞれ接続されて、事前にロードロック室8内に常時所
定量のN2 ガスが供給されコントロールされた雰囲気に
なっている。このロードロック室8内に配置される移送
機構7は、ウエハボート6を載置保持するボートエレベ
ータ7Aと、このボートエレベータ7Aを昇降移動する
ボールねじ装置7Bとで構成されている。また、ロード
ロック室8内の保持体収容室側には、移送機構7のボー
トエレベータ7Aと保持体収容室19の間でウエハボー
ト6を搬送する搬送機構31が配置されている。この搬
送機構31は、ロードロック室8の外部に設置される水
平回転(旋回)及び昇降用の駆動部31Aと、ロードロ
ック室8内に位置する駆動部31Aの伝達軸に連結さ
れ、ウエハボート6を保持する多間接アーム31Bとで
構成されている。尚、ロードロック室8の上部に設けら
れた炉口部には、ロードロック室8とプロセスチューブ
1との開口部を開閉するオートシャッタ32が設けられ
ている。
【0021】一方、上記搬出入室30の前面側、すなわ
ち図1中の右側には複数枚例えば25枚のウエハWを収
納するウエハキャリアCが内部に納められたカセット収
容容器14を設置する前記カセット収容容器用ポート1
3が左右2台配設されている(図2参照)。
ち図1中の右側には複数枚例えば25枚のウエハWを収
納するウエハキャリアCが内部に納められたカセット収
容容器14を設置する前記カセット収容容器用ポート1
3が左右2台配設されている(図2参照)。
【0022】ここで、カセット収容容器14について説
明すると、図6にも示すようにこの容器14は特開平1
−222429号公報や米国特許第4534389号公
報等に開示されているように1つのカセットCを収容し
得る程度の大きさになされて下部が開口された方形状の
容器本体32とこの開口部を密閉可能に閉塞する容器底
部33とにより主に構成され、内部にカセットCを収容
した状態で大気圧に対して陽圧になされた高いクリーン
度の清浄空気或いはN2 の如き不活性ガスが充填されて
いる。このため、この容器底部或いは側壁には清浄空気
や不活性ガスを内部に導入するバルブ付きのガス導入路
34が形成されている。
明すると、図6にも示すようにこの容器14は特開平1
−222429号公報や米国特許第4534389号公
報等に開示されているように1つのカセットCを収容し
得る程度の大きさになされて下部が開口された方形状の
容器本体32とこの開口部を密閉可能に閉塞する容器底
部33とにより主に構成され、内部にカセットCを収容
した状態で大気圧に対して陽圧になされた高いクリーン
度の清浄空気或いはN2 の如き不活性ガスが充填されて
いる。このため、この容器底部或いは側壁には清浄空気
や不活性ガスを内部に導入するバルブ付きのガス導入路
34が形成されている。
【0023】容器底部33は容器本体32の下部のフラ
ンジ部32AにOリング等のシール部材35を介して気
密に密閉可能に取り付けられる。この容器底部33の周
縁部の適宜箇所には外側へ出没可能になされたロックピ
ン36が設けられており、このロックピン36を容器底
部33の中央部に設けた回転リンク機構37に連結して
これを回転することにより容器本体32との接合離脱を
行い得るようになっている。カセット収容容器の容器本
体32の上部には把持部39が設けられており、例えば
オペレータがこの把持部39を把持することによりこの
カセット収容容器全体を容易に持ち運べるようになって
いる。このカセット収容容器14としては、例えばSM
IF−POD(商標)を用いることができる。
ンジ部32AにOリング等のシール部材35を介して気
密に密閉可能に取り付けられる。この容器底部33の周
縁部の適宜箇所には外側へ出没可能になされたロックピ
ン36が設けられており、このロックピン36を容器底
部33の中央部に設けた回転リンク機構37に連結して
これを回転することにより容器本体32との接合離脱を
行い得るようになっている。カセット収容容器の容器本
体32の上部には把持部39が設けられており、例えば
オペレータがこの把持部39を把持することによりこの
カセット収容容器全体を容易に持ち運べるようになって
いる。このカセット収容容器14としては、例えばSM
IF−POD(商標)を用いることができる。
【0024】上記カセット収容容器用ポート13は、搬
出入室30の前面側壁の一部をこの内部へ凹部状にへこ
ませるようにして成形されており、カセット収容容器1
4を載置するポート載置台39には、カセット収容容器
全体を内部に収容し得るようにこの底部面積よりも1回
り大きくなされた容器導入口40が形成されている。こ
の容器導入口40には、前記取り込み手段15のアーム
41の先端に設けた昇降台42が開閉可能に位置されて
おり、このアーム41は、例えばボールネジ43に螺合
されてこれを昇降可能としている。従って、上記昇降台
42上にカセット収容容器14を載置した状態で昇降台
42を降下させることにより、図1中の仮想線で示すよ
うにカセット収容容器全体を搬出入室12内へ取り込む
ようになっている。
出入室30の前面側壁の一部をこの内部へ凹部状にへこ
ませるようにして成形されており、カセット収容容器1
4を載置するポート載置台39には、カセット収容容器
全体を内部に収容し得るようにこの底部面積よりも1回
り大きくなされた容器導入口40が形成されている。こ
の容器導入口40には、前記取り込み手段15のアーム
41の先端に設けた昇降台42が開閉可能に位置されて
おり、このアーム41は、例えばボールネジ43に螺合
されてこれを昇降可能としている。従って、上記昇降台
42上にカセット収容容器14を載置した状態で昇降台
42を降下させることにより、図1中の仮想線で示すよ
うにカセット収容容器全体を搬出入室12内へ取り込む
ようになっている。
【0025】搬出入室12内には、カセット収容容器用
ポート13の直ぐ後側位置であって、これと前記容器保
管ステージ16との間には、容器移載手段18としての
容器トランスファ44がエレベータ45を介して昇降可
能に設置されている。この容器トランスファ44は、エ
レベータ45に沿って昇降する基台46に設けられた屈
曲アーム47を有しており、この屈曲アーム47の先端
には、上記カセット収容容器14の側壁を把持するため
に相互に接近離間可能になされた一対のチャック48が
設けられている。また、上記エレベータ45の下端は、
容器保管ステージ16の配列方向に敷設された案内レー
ル49上に例えば軸受50を介して移動可能に支持され
ている。従って、上記カセット収容容器用ポート13に
て容器ごと取り込んだカセット収容容器14をこの容器
トランスファ44により把持して上記容器保管ステージ
16に移載し得るようになっている。
ポート13の直ぐ後側位置であって、これと前記容器保
管ステージ16との間には、容器移載手段18としての
容器トランスファ44がエレベータ45を介して昇降可
能に設置されている。この容器トランスファ44は、エ
レベータ45に沿って昇降する基台46に設けられた屈
曲アーム47を有しており、この屈曲アーム47の先端
には、上記カセット収容容器14の側壁を把持するため
に相互に接近離間可能になされた一対のチャック48が
設けられている。また、上記エレベータ45の下端は、
容器保管ステージ16の配列方向に敷設された案内レー
ル49上に例えば軸受50を介して移動可能に支持され
ている。従って、上記カセット収容容器用ポート13に
て容器ごと取り込んだカセット収容容器14をこの容器
トランスファ44により把持して上記容器保管ステージ
16に移載し得るようになっている。
【0026】上記エレベータ45と上記容器保管ステー
ジ16との間には、容器トランスファ44に把持された
カセット収容容器14を移動し得るように作業空間Sが
形成されている。また、本実施例にあっては、容器保管
ステージ16には、上下方向に3段の棚部51が配列さ
れると共に各棚部51は縦方向に3つに仕切られてお
り、従って、3列3段で合計9個のカセット収容容器1
4を収容し得るようになっている。尚、棚部51におけ
るカセット収容容器14の収容個数は、上記個数に限定
されず、必要に応じて増減させるようにしてもよいが、
少なくとも1つのウエハボートに載置するウエハ枚数、
例えば100枚のウエハを収容し得るカセット数、例え
ば25枚入れのカセツトの場合には、4個収容し得る大
きさに設定する。
ジ16との間には、容器トランスファ44に把持された
カセット収容容器14を移動し得るように作業空間Sが
形成されている。また、本実施例にあっては、容器保管
ステージ16には、上下方向に3段の棚部51が配列さ
れると共に各棚部51は縦方向に3つに仕切られてお
り、従って、3列3段で合計9個のカセット収容容器1
4を収容し得るようになっている。尚、棚部51におけ
るカセット収容容器14の収容個数は、上記個数に限定
されず、必要に応じて増減させるようにしてもよいが、
少なくとも1つのウエハボートに載置するウエハ枚数、
例えば100枚のウエハを収容し得るカセット数、例え
ば25枚入れのカセツトの場合には、4個収容し得る大
きさに設定する。
【0027】また、作業空間Sの下方には、カセット収
容容器14内からカセットCを取り出すための前記カセ
ット取り出しステージ17が配置されている。具体的に
は、このステージ17は、ウエハトランスファ52側の
一側が開放された方形状の筐体53によりその周囲が区
画されていると共にこの筐体53はこの搬出入室12内
を例えばロードロック室8や保持体収容室19側から密
閉状態で仕切るための区画壁54に接続されており、カ
セットをカセット収容容器14から取り出した時にウエ
ハWを保持体収容室19側の雰囲気である不活性ガスに
晒すようになっている。
容容器14内からカセットCを取り出すための前記カセ
ット取り出しステージ17が配置されている。具体的に
は、このステージ17は、ウエハトランスファ52側の
一側が開放された方形状の筐体53によりその周囲が区
画されていると共にこの筐体53はこの搬出入室12内
を例えばロードロック室8や保持体収容室19側から密
閉状態で仕切るための区画壁54に接続されており、カ
セットをカセット収容容器14から取り出した時にウエ
ハWを保持体収容室19側の雰囲気である不活性ガスに
晒すようになっている。
【0028】この筐体53の天井載置部53Aには、容
器本体32のフランジ部32Aの内径よりも大きく且つ
その外径よりも小さくなされてカセットの取り出し時に
開閉する開閉部としてカセット挿通孔55が形成され、
この挿通孔55には、周縁部をその外方へ下向き傾斜さ
せてテーパ状に形成することにより天井載置部53Aよ
り下方向に気密に着脱可能とした容器底部載置台56が
設けられる。この容器底部載置台56は、カセット取り
出し機構63の一部を構成するものであり、この載置台
56の中央部には、上記カセット収容容器の容器底部5
3の回転リンク機構37に係合する回転ピン57が設け
られており、これを回転することにより上記回転リンク
機構37を作動させてロックピン36を出没し得るよう
になっている。
器本体32のフランジ部32Aの内径よりも大きく且つ
その外径よりも小さくなされてカセットの取り出し時に
開閉する開閉部としてカセット挿通孔55が形成され、
この挿通孔55には、周縁部をその外方へ下向き傾斜さ
せてテーパ状に形成することにより天井載置部53Aよ
り下方向に気密に着脱可能とした容器底部載置台56が
設けられる。この容器底部載置台56は、カセット取り
出し機構63の一部を構成するものであり、この載置台
56の中央部には、上記カセット収容容器の容器底部5
3の回転リンク機構37に係合する回転ピン57が設け
られており、これを回転することにより上記回転リンク
機構37を作動させてロックピン36を出没し得るよう
になっている。
【0029】また、この容器底部載置台56は、図1に
も示すように筐体53内に起立させて設けたボールネジ
58によって垂直方向(上下方向)へ移動可能になされ
た垂直移動アーム59の先端に取り付けられており、容
器本体32を天井載置部53Aに載置した状態で残して
容器底部33とこの上面に載置されているカセットCの
みを沈み込ませて筐体53内、すなわちカセット取り出
しステージ17内に取り込むようになっている。
も示すように筐体53内に起立させて設けたボールネジ
58によって垂直方向(上下方向)へ移動可能になされ
た垂直移動アーム59の先端に取り付けられており、容
器本体32を天井載置部53Aに載置した状態で残して
容器底部33とこの上面に載置されているカセットCの
みを沈み込ませて筐体53内、すなわちカセット取り出
しステージ17内に取り込むようになっている。
【0030】また、カセット挿通孔55の周辺部の天井
載置部53Aには起倒可能になされたカギ状の容器ホル
ダ60が複数箇所設けられており、これを起倒させるこ
とにより容器のフランジ部32Aのロック・アンロック
を行い得るようになっている。
載置部53Aには起倒可能になされたカギ状の容器ホル
ダ60が複数箇所設けられており、これを起倒させるこ
とにより容器のフランジ部32Aのロック・アンロック
を行い得るようになっている。
【0031】また、キャリア取り出しステージ17の保
持体収容室側にはウエハトランスファ52が移載用エレ
ベータ62によって昇降可能に支持されて設置されてい
る。このウエハトランスファ52は、昇降しながら、容
器底部載置台56上のウエハキャリアC内のウエハWを
1枚ずつ取り出して、保持体収容室19内に収容された
ウエハボート6に収納保持させたり、その逆にウエハボ
ート6からウエハWを容器底部載置台56上のウエハキ
ャリアC内に戻す働きをなすように構成されている。
持体収容室側にはウエハトランスファ52が移載用エレ
ベータ62によって昇降可能に支持されて設置されてい
る。このウエハトランスファ52は、昇降しながら、容
器底部載置台56上のウエハキャリアC内のウエハWを
1枚ずつ取り出して、保持体収容室19内に収容された
ウエハボート6に収納保持させたり、その逆にウエハボ
ート6からウエハWを容器底部載置台56上のウエハキ
ャリアC内に戻す働きをなすように構成されている。
【0032】次に、以上のように構成された処理装置の
動作態様について説明する。最初に、カセット取り出し
ステージ17にて取り出されたカセットC内のウエハを
ロードロック室8を介してプロセスチューブ1との間で
搬送する場合について説明する。
動作態様について説明する。最初に、カセット取り出し
ステージ17にて取り出されたカセットC内のウエハを
ロードロック室8を介してプロセスチューブ1との間で
搬送する場合について説明する。
【0033】まず、保持体収容室19にウエハボート6
を収容した状態で、保持体収容室19の搬出入側のフロ
ントオートドア20を開いて保持体収容室19と搬出入
室12のカセット取り出しステージ17内とを連通す
る。この場合、搬出入室12の作業空間Sとステージ1
7内とは分離区画されているので雰囲気が連通すること
はない。すなわち作業空間S側はクリーン度の低い例え
ば清浄度がレベル1000程度のクリーンルーム側の清
浄空気に晒されているが、筐体53等により密閉状態で
仕切られたこのカセット取り出しステージ17内にはク
リーン度の低い清浄空気が流入することはない。この状
態で、ウエハトランスファ52によって容器底部載置台
56上のウエハキャリアC内のウエハWを保持体収容室
19内のウエハボート6に移載して、所定枚数例えば1
00枚のウエハWがウエハボート6に収納された後、フ
ロントオートドア20を閉じて保持体収容室19内を密
閉状態にする。そして、保持体収容室19内を真空引き
によって所定の真空圧状態にしたり、または、常圧での
N2 フロー,減圧でのN2 フロー等によりウエハボート
6及びウエハWを、カセット収容容器14内と同様に不
活性ガス雰囲気で包み、ウエハWへの自然酸化膜の形成
及びパーティクル付着によるケミカルコンタミネーショ
ンの発生を防止する。
を収容した状態で、保持体収容室19の搬出入側のフロ
ントオートドア20を開いて保持体収容室19と搬出入
室12のカセット取り出しステージ17内とを連通す
る。この場合、搬出入室12の作業空間Sとステージ1
7内とは分離区画されているので雰囲気が連通すること
はない。すなわち作業空間S側はクリーン度の低い例え
ば清浄度がレベル1000程度のクリーンルーム側の清
浄空気に晒されているが、筐体53等により密閉状態で
仕切られたこのカセット取り出しステージ17内にはク
リーン度の低い清浄空気が流入することはない。この状
態で、ウエハトランスファ52によって容器底部載置台
56上のウエハキャリアC内のウエハWを保持体収容室
19内のウエハボート6に移載して、所定枚数例えば1
00枚のウエハWがウエハボート6に収納された後、フ
ロントオートドア20を閉じて保持体収容室19内を密
閉状態にする。そして、保持体収容室19内を真空引き
によって所定の真空圧状態にしたり、または、常圧での
N2 フロー,減圧でのN2 フロー等によりウエハボート
6及びウエハWを、カセット収容容器14内と同様に不
活性ガス雰囲気で包み、ウエハWへの自然酸化膜の形成
及びパーティクル付着によるケミカルコンタミネーショ
ンの発生を防止する。
【0034】上記のようにして保持体収容室19内を真
空状態にしたならば、予め真空状態になされている保持
体収容室19内を区画しているリアオートドア21を開
く。そして、搬送機構31を駆動して保持体収容室19
内の、ウエハWを収納したウエハボート6をボートエレ
ベータ7A上に移載保持させる。
空状態にしたならば、予め真空状態になされている保持
体収容室19内を区画しているリアオートドア21を開
く。そして、搬送機構31を駆動して保持体収容室19
内の、ウエハWを収納したウエハボート6をボートエレ
ベータ7A上に移載保持させる。
【0035】次に、ボートエレベータ7Aが上昇して、
ウエハボート6はプロセスチューブ1内に挿入され、ウ
エハボート6のフランジ6Aがマニホールド2のフラン
ジ2aに当接してプロセスチューブ1内が密閉される。
そして、排気管3を用いてプロセスチューブ1内のN2
ガスを排出し、プロセスチューブ1内が所定の真空度に
達した時点で、ガス導入管4により処理ガスを導入して
プロセス圧力にて所望の処理を行う。
ウエハボート6はプロセスチューブ1内に挿入され、ウ
エハボート6のフランジ6Aがマニホールド2のフラン
ジ2aに当接してプロセスチューブ1内が密閉される。
そして、排気管3を用いてプロセスチューブ1内のN2
ガスを排出し、プロセスチューブ1内が所定の真空度に
達した時点で、ガス導入管4により処理ガスを導入して
プロセス圧力にて所望の処理を行う。
【0036】処理が終了した後に排気管3を用いてプロ
セスチューブ1内の処理ガスを排出し、プロセスチュー
ブ1内が所定の真空度に達した時点で、ウエハボート6
を下降させ、上記搬入手順と逆の手順にて処理済みのウ
エハWを取り出す。
セスチューブ1内の処理ガスを排出し、プロセスチュー
ブ1内が所定の真空度に達した時点で、ウエハボート6
を下降させ、上記搬入手順と逆の手順にて処理済みのウ
エハWを取り出す。
【0037】従って、搬出入室12とロードロック室8
との間に保持体収容室19を配置して、カセット取り出
しステージ17によりカセット収容容器14から未処理
のウエハWを大気に晒すことなく、予め不活性ガス雰囲
気になされた保持体収容室19内に搬送したので、ウエ
ハ表面への自然酸化膜の形成は防止される。また、比較
的小容量の保持体収容室19内のみを真空状態にするの
で、ウエハWを短時間で真空雰囲気下におくことがで
き、処理時間の短縮が図られる。
との間に保持体収容室19を配置して、カセット取り出
しステージ17によりカセット収容容器14から未処理
のウエハWを大気に晒すことなく、予め不活性ガス雰囲
気になされた保持体収容室19内に搬送したので、ウエ
ハ表面への自然酸化膜の形成は防止される。また、比較
的小容量の保持体収容室19内のみを真空状態にするの
で、ウエハWを短時間で真空雰囲気下におくことがで
き、処理時間の短縮が図られる。
【0038】次に、カセット収容容器14内の搬出入室
12内への搬入及びカセット収容容器14からのウエハ
Wの取り出しを行う場合について説明する。まず、前工
程で処理されたウエハ或いは未処理のウエハが例えば2
5枚収容することができるカセットCに収容された状態
で、カセット収容容器14内に収納されて、この状態で
AGV或いはオペレータによりカセット収容容器用ポー
ト13のポート載置台39の所定の位置、すなわち昇降
台42上にカセット収容容器14を載置する。このカセ
ット収容容器14内は予め例えばクラス1程度のかなり
高いクリーン度の清浄空気や或いは酸素レスとするため
にN2 ガス等の不活性ガスが陽圧状態で充填されて周囲
の雰囲気から隔離されており、例えばクラス1000程
度の低いクリーン度の作業領域を搬送してきても、この
雰囲気にウエハWが晒されないようになっている。本実
施例では収容容器14内がN2 ガス雰囲気で満たされて
いる場合について説明する。
12内への搬入及びカセット収容容器14からのウエハ
Wの取り出しを行う場合について説明する。まず、前工
程で処理されたウエハ或いは未処理のウエハが例えば2
5枚収容することができるカセットCに収容された状態
で、カセット収容容器14内に収納されて、この状態で
AGV或いはオペレータによりカセット収容容器用ポー
ト13のポート載置台39の所定の位置、すなわち昇降
台42上にカセット収容容器14を載置する。このカセ
ット収容容器14内は予め例えばクラス1程度のかなり
高いクリーン度の清浄空気や或いは酸素レスとするため
にN2 ガス等の不活性ガスが陽圧状態で充填されて周囲
の雰囲気から隔離されており、例えばクラス1000程
度の低いクリーン度の作業領域を搬送してきても、この
雰囲気にウエハWが晒されないようになっている。本実
施例では収容容器14内がN2 ガス雰囲気で満たされて
いる場合について説明する。
【0039】容器本体14が昇降台14上に載置された
ならば、この下方に設置した取り込み手段15を駆動さ
せることにより昇降台42を降下させて、容器導入口4
0を介してカセット収容容器全体を沈み込ませて搬出入
室12内に取り込む。この状態は図1中において仮想線
にて示される。
ならば、この下方に設置した取り込み手段15を駆動さ
せることにより昇降台42を降下させて、容器導入口4
0を介してカセット収容容器全体を沈み込ませて搬出入
室12内に取り込む。この状態は図1中において仮想線
にて示される。
【0040】カセット収容容器14の取り込みが完了し
たならば、次に搬出入室12内に起立させて設けた容器
トランスファ44を駆動し、この屈曲アーム47の先端
に設けたチャック48によりカセット収容容器14の側
壁を挟み込んでこれを保持する。収容容器14を保持し
たならば、再度容器トランスファ44を駆動し、保持し
た収容容器14を容器保管ステージ16の所望の収納棚
部に収納することになる。この場合、容器トランスファ
44の上下方向の移動は、これを支持するエレベータ4
5により行い、水平方向への移動はエレベータ45自体
を案内レール49上に沿って移動させることにより行
う。
たならば、次に搬出入室12内に起立させて設けた容器
トランスファ44を駆動し、この屈曲アーム47の先端
に設けたチャック48によりカセット収容容器14の側
壁を挟み込んでこれを保持する。収容容器14を保持し
たならば、再度容器トランスファ44を駆動し、保持し
た収容容器14を容器保管ステージ16の所望の収納棚
部に収納することになる。この場合、容器トランスファ
44の上下方向の移動は、これを支持するエレベータ4
5により行い、水平方向への移動はエレベータ45自体
を案内レール49上に沿って移動させることにより行
う。
【0041】このような一連の搬入操作を繰り返すこと
により、容器保管ステージ16には所定数のカセット収
容容器14を保管することができる。また、上記したと
逆の操作を行うことにより、容器保管ステージ16に保
管してあるカセット収容容器14を装置外へ搬出するこ
とができる。
により、容器保管ステージ16には所定数のカセット収
容容器14を保管することができる。また、上記したと
逆の操作を行うことにより、容器保管ステージ16に保
管してあるカセット収容容器14を装置外へ搬出するこ
とができる。
【0042】次に、カセット収容容器14内のカセット
Cを取り出す場合には、まず、上述のように容器トラン
スファ44を駆動することにより容器保管ステージ16
に保管してあるカセット収容容器14をカセット取り出
しステージ17の天井載置部53A上に載置する。この
状態では、予めカセット取り出し機構63の容器底部載
置台56は最上端に位置されて、カセット挿通孔55を
気密に閉塞しており、比較的クリーン度の低い搬出入室
12内の清浄空気がN2 不活性雰囲気に満たされている
カセット取り出しステージ17の筐体53内に侵入しな
いようになっている。尚、この場合、取り込み手段15
により取り込んだカセット収容容器14を容器保管ステ
ージ16を経ることなく直接、取り出しステージ17に
搬送するようにしてもよい。
Cを取り出す場合には、まず、上述のように容器トラン
スファ44を駆動することにより容器保管ステージ16
に保管してあるカセット収容容器14をカセット取り出
しステージ17の天井載置部53A上に載置する。この
状態では、予めカセット取り出し機構63の容器底部載
置台56は最上端に位置されて、カセット挿通孔55を
気密に閉塞しており、比較的クリーン度の低い搬出入室
12内の清浄空気がN2 不活性雰囲気に満たされている
カセット取り出しステージ17の筐体53内に侵入しな
いようになっている。尚、この場合、取り込み手段15
により取り込んだカセット収容容器14を容器保管ステ
ージ16を経ることなく直接、取り出しステージ17に
搬送するようにしてもよい。
【0043】カセット収容容器14を天井載置部53A
に載置したら、この周辺部に設けた容器ホルダ60を起
こすことによって容器本体32のフランジ部32Aを強
固に固定する(図5参照)。この状態では、この下方に
設置したカセット取り出し機構63の容器底部載置台5
6上にカセット収容容器14の容器底部33が重ね合わ
された状態となっており、載置台56に設けた回転ピン
57を解除方向に回転することにより、これに嵌合して
いる容器底部33の回転リンク機構37を回転させ、容
器底部33とこのフランジ部32Aを連結するロックピ
ン36を解除することによりこれらの係合を断つ。
に載置したら、この周辺部に設けた容器ホルダ60を起
こすことによって容器本体32のフランジ部32Aを強
固に固定する(図5参照)。この状態では、この下方に
設置したカセット取り出し機構63の容器底部載置台5
6上にカセット収容容器14の容器底部33が重ね合わ
された状態となっており、載置台56に設けた回転ピン
57を解除方向に回転することにより、これに嵌合して
いる容器底部33の回転リンク機構37を回転させ、容
器底部33とこのフランジ部32Aを連結するロックピ
ン36を解除することによりこれらの係合を断つ。
【0044】次に、カセット取り出し機構63を駆動し
て、垂直移動アーム59を降下させることにより、容器
本体32を残したまま容器底部33とこの上に載置され
ているカセットCは、容器底部載置台56上に保持され
た状態で沈み込んで筐体53内、すなわちカセット取り
出しステージ17内に取り込む。この時の状態は図1に
て示される。カセット収容容器14から取り出された、
カセット中のウエハWは前述したようにウエハトランス
ファ52によりウエハボート6に移載される。この時、
カセット挿通孔55は、容器底部載置台56に代わって
カセット収容容器14の方形状の容器本体32により気
密に被われているので、搬出入室12の作業空間S内の
比較的クリーン度の低い清浄空気が、このカセット取り
出しステージ17内に流入してくることはなく、しか
も、保持体収容室19側はN2 不活性ガス雰囲気になさ
れているので、ウエハWは酸素を含む酸化性雰囲気に晒
されることがなく、自然酸化膜の成長を大幅に抑制する
ことができる。
て、垂直移動アーム59を降下させることにより、容器
本体32を残したまま容器底部33とこの上に載置され
ているカセットCは、容器底部載置台56上に保持され
た状態で沈み込んで筐体53内、すなわちカセット取り
出しステージ17内に取り込む。この時の状態は図1に
て示される。カセット収容容器14から取り出された、
カセット中のウエハWは前述したようにウエハトランス
ファ52によりウエハボート6に移載される。この時、
カセット挿通孔55は、容器底部載置台56に代わって
カセット収容容器14の方形状の容器本体32により気
密に被われているので、搬出入室12の作業空間S内の
比較的クリーン度の低い清浄空気が、このカセット取り
出しステージ17内に流入してくることはなく、しか
も、保持体収容室19側はN2 不活性ガス雰囲気になさ
れているので、ウエハWは酸素を含む酸化性雰囲気に晒
されることがなく、自然酸化膜の成長を大幅に抑制する
ことができる。
【0045】次のカセットC内のウエハWをウエハボー
トに移載するためには、上述のようなウエハ移載操作に
よりカセットC内が空になったならば、上述したと逆の
操作を行うことによって容器底部載置台56を上昇さ
せ、空のカセットCをカセット収容容器14内に収容し
て容器底部33のロックピン36をロックさせる。そし
て、容器ホルダ60を解除した後、容器トランスファ4
4により空状態のカセット収容容器14を容器保管ステ
ージ16の所定の棚部51に保管する。そして、新たな
未処理のウエハWの入ったカセット収容容器14を容器
トランスファ44により上述したと同様にカセット取り
出しステージ17に搬送し、、カセットCを取り出すこ
とになる。このような一連の操作を繰り返すことによ
り、未処理のウエハWをウエハボート6に移載し、ま
た、ウエハが空になったカセット収容容器14は、ウエ
ハWの処理が終了するまで容器保管ステージ16に保管
されることになる。尚、処理済みのウエハは前述したと
逆の操作を行うことによりカセット収容容器14内に移
載されることになる。
トに移載するためには、上述のようなウエハ移載操作に
よりカセットC内が空になったならば、上述したと逆の
操作を行うことによって容器底部載置台56を上昇さ
せ、空のカセットCをカセット収容容器14内に収容し
て容器底部33のロックピン36をロックさせる。そし
て、容器ホルダ60を解除した後、容器トランスファ4
4により空状態のカセット収容容器14を容器保管ステ
ージ16の所定の棚部51に保管する。そして、新たな
未処理のウエハWの入ったカセット収容容器14を容器
トランスファ44により上述したと同様にカセット取り
出しステージ17に搬送し、、カセットCを取り出すこ
とになる。このような一連の操作を繰り返すことによ
り、未処理のウエハWをウエハボート6に移載し、ま
た、ウエハが空になったカセット収容容器14は、ウエ
ハWの処理が終了するまで容器保管ステージ16に保管
されることになる。尚、処理済みのウエハは前述したと
逆の操作を行うことによりカセット収容容器14内に移
載されることになる。
【0046】このように本実施例においては、カセット
収容容器用ポート13を設けてここに内部雰囲気が例え
ば不活性ガス雰囲気に維持されて外部雰囲気と隔離され
たカセット収容容器14を載置して収容容器毎装置内に
取り込むようにしたので、この装置の外側であってオペ
レータ等が作業する作業領域のクリーン度を、ウエハを
剥出し状態で搬送していた従来の装置の場合と比較して
それ程高くしなくて済む。例えば、従来装置にあっては
作業領域のクリーン度を1にしてウエハ搬送時のパーテ
ィクルの付着を防止しなければならなかったが、本実施
例によればカセット収容容器14内の雰囲気のみをクリ
ーン度1或いは不活性ガス雰囲気にすれば良く、作業領
域の雰囲気はこれよりも低いクリーン度、例えばクリー
ン度1000程度に設定すれば良い。従って、作業領域
の雰囲気のクリーン度を低く設定することができるの
で、その分、クリーンルームの製造コストを削減させる
ことができ、大幅なコストダウンを図ることができる。
収容容器用ポート13を設けてここに内部雰囲気が例え
ば不活性ガス雰囲気に維持されて外部雰囲気と隔離され
たカセット収容容器14を載置して収容容器毎装置内に
取り込むようにしたので、この装置の外側であってオペ
レータ等が作業する作業領域のクリーン度を、ウエハを
剥出し状態で搬送していた従来の装置の場合と比較して
それ程高くしなくて済む。例えば、従来装置にあっては
作業領域のクリーン度を1にしてウエハ搬送時のパーテ
ィクルの付着を防止しなければならなかったが、本実施
例によればカセット収容容器14内の雰囲気のみをクリ
ーン度1或いは不活性ガス雰囲気にすれば良く、作業領
域の雰囲気はこれよりも低いクリーン度、例えばクリー
ン度1000程度に設定すれば良い。従って、作業領域
の雰囲気のクリーン度を低く設定することができるの
で、その分、クリーンルームの製造コストを削減させる
ことができ、大幅なコストダウンを図ることができる。
【0047】更には、従来装置にあっては、ウエハを剥
き出し状態でクリーンルーム内及び装置の搬出入室内に
て比較的長時間待機させられることからケミカルコンタ
ミネーションの発生頻度も高かったが、本実施例ではウ
エハがウエハボートに移載される直前まで高い清浄度の
雰囲気に満たされたカセット収容容器14内に隔離され
ているので、ケミカルコンタミネーションの発生も大幅
に抑制することができる。
き出し状態でクリーンルーム内及び装置の搬出入室内に
て比較的長時間待機させられることからケミカルコンタ
ミネーションの発生頻度も高かったが、本実施例ではウ
エハがウエハボートに移載される直前まで高い清浄度の
雰囲気に満たされたカセット収容容器14内に隔離され
ているので、ケミカルコンタミネーションの発生も大幅
に抑制することができる。
【0048】また、搬出入室12内に取り込まれたカセ
ット収容容器14或いはウエハWが処理のために取り出
されて空になったカセット収容容器14は、搬出入室1
2内の内部の余剰スペースに設けた容器保管ステージ1
6内に収容して保管することができるので、装置外に空
になったカセット収容容器14を保管するための保管ス
ペースを別個確保する必要がなく、従って、クリーンル
ーム内の床スペースをその分だけ少なくすることがで
き、設備コストを削減することができる。
ット収容容器14或いはウエハWが処理のために取り出
されて空になったカセット収容容器14は、搬出入室1
2内の内部の余剰スペースに設けた容器保管ステージ1
6内に収容して保管することができるので、装置外に空
になったカセット収容容器14を保管するための保管ス
ペースを別個確保する必要がなく、従って、クリーンル
ーム内の床スペースをその分だけ少なくすることがで
き、設備コストを削減することができる。
【0049】また、搬出入室12内は、カセット取り出
しステージ17内を除き、区画壁54により区画され
て、不活性ガス雰囲気になされている保持体収容室19
側から分離されており、しかもカセット取り出しステー
ジ17内は常に不活性ガス雰囲気になされているので、
ウエハWを取り囲む雰囲気は常時不活性ガス雰囲気とな
り、従って、ウエハ表面に自然酸化膜が成長することを
大幅に抑制することができる。また、この自然酸化膜の
成長を抑制するためには、カセット収容容器14内にN
2 ガスを充填し、且つカセット取り出しステージ17
内、保持体収容室19内及びロードロック室8内のみを
N2 ガス雰囲気にして搬出入室12内にはN2 ガスを供
給する必要がないので、搬出入室12内もN2 ガスを供
給する場合と比較してN2 ガス使用量も大幅に抑制する
ことができ、ランニングコストを削減することができ
る。
しステージ17内を除き、区画壁54により区画され
て、不活性ガス雰囲気になされている保持体収容室19
側から分離されており、しかもカセット取り出しステー
ジ17内は常に不活性ガス雰囲気になされているので、
ウエハWを取り囲む雰囲気は常時不活性ガス雰囲気とな
り、従って、ウエハ表面に自然酸化膜が成長することを
大幅に抑制することができる。また、この自然酸化膜の
成長を抑制するためには、カセット収容容器14内にN
2 ガスを充填し、且つカセット取り出しステージ17
内、保持体収容室19内及びロードロック室8内のみを
N2 ガス雰囲気にして搬出入室12内にはN2 ガスを供
給する必要がないので、搬出入室12内もN2 ガスを供
給する場合と比較してN2 ガス使用量も大幅に抑制する
ことができ、ランニングコストを削減することができ
る。
【0050】更には、カセット収容容器14を取り込む
取り込み手段15や容器トランスファ44のようにパー
ティクルを発生しやすい可動部分を有する機構を設置し
た搬出入室12内の作業空間Sから、カセットC内のウ
エハWが収容容器から取り出されて剥き出し状態になる
空間を区画したのでウエハWにパーティクルが付着する
可能性を大幅に抑制でき、その分歩留まりも向上させる
ことができる。
取り込み手段15や容器トランスファ44のようにパー
ティクルを発生しやすい可動部分を有する機構を設置し
た搬出入室12内の作業空間Sから、カセットC内のウ
エハWが収容容器から取り出されて剥き出し状態になる
空間を区画したのでウエハWにパーティクルが付着する
可能性を大幅に抑制でき、その分歩留まりも向上させる
ことができる。
【0051】尚、上記実施例におけるカセット収容容器
の構造はこれに限定されず、カセットを収容し得る密閉
構造の容器であればどのようなものでも良い。また、カ
セット収容容器からキャリアCを搬出入させるカセット
取り出し機構63、収容容器14を取り込む取り込み手
段15及び収容容器14を装置内で搬送する容器トラン
スファ44や屈曲アーム47の構造は、それぞれ同様な
機能を発揮し得るならば、その構造は限定されない。
の構造はこれに限定されず、カセットを収容し得る密閉
構造の容器であればどのようなものでも良い。また、カ
セット収容容器からキャリアCを搬出入させるカセット
取り出し機構63、収容容器14を取り込む取り込み手
段15及び収容容器14を装置内で搬送する容器トラン
スファ44や屈曲アーム47の構造は、それぞれ同様な
機能を発揮し得るならば、その構造は限定されない。
【0052】上記実施例では、ローディング室8とし
て、不活性ガスが給排可能になされると共に真空引き可
能になされたいわゆるロードロック室を用いた時の装置
を例にとって説明したが、これに限定されず、清浄度の
高い清浄空気を循環させて常時略常圧になされたいわゆ
る通常のローディング室を用いた装置にも適用し得るの
は勿論である。
て、不活性ガスが給排可能になされると共に真空引き可
能になされたいわゆるロードロック室を用いた時の装置
を例にとって説明したが、これに限定されず、清浄度の
高い清浄空気を循環させて常時略常圧になされたいわゆ
る通常のローディング室を用いた装置にも適用し得るの
は勿論である。
【0053】このような装置例は図7及び図8に示さ
れ、図1に示す装置と同一部分については同一符号が付
されている。この装置にあっては、ローディング室8内
は清浄度の高い、例えばクラス1程度の清浄空気が略大
気圧で常に維持されていることから、保持体収容室19
を仕切ったフロントオートドア20、リアオートドア2
1(図1参照)は不要となり、この保持体収容室19内
はローディング室8内と連通されて一体化される。そし
て、これら両室8、19内及び移載用エレベータ62の
収容室内を仕切る側壁には適当数のフィルタ70、7
0、70を介設した清浄空気導入口72が設けられると
共にこれと対向する他側壁には、同じく適当数のフィル
タ74、74、74を介設した清浄空気排出口76が設
けられ、各室8、19内全体に渡って清浄空気の横流を
形成するようになっている。尚、清浄空気排出口76か
ら排出された清浄空気の一部は清浄空気導入口72側に
戻され、室内に循環させるようになっている。
れ、図1に示す装置と同一部分については同一符号が付
されている。この装置にあっては、ローディング室8内
は清浄度の高い、例えばクラス1程度の清浄空気が略大
気圧で常に維持されていることから、保持体収容室19
を仕切ったフロントオートドア20、リアオートドア2
1(図1参照)は不要となり、この保持体収容室19内
はローディング室8内と連通されて一体化される。そし
て、これら両室8、19内及び移載用エレベータ62の
収容室内を仕切る側壁には適当数のフィルタ70、7
0、70を介設した清浄空気導入口72が設けられると
共にこれと対向する他側壁には、同じく適当数のフィル
タ74、74、74を介設した清浄空気排出口76が設
けられ、各室8、19内全体に渡って清浄空気の横流を
形成するようになっている。尚、清浄空気排出口76か
ら排出された清浄空気の一部は清浄空気導入口72側に
戻され、室内に循環させるようになっている。
【0054】この実施例においては、ローディング室8
内と搬出入室12内とは密閉区画する必要はないことか
ら、カセット取り出しステージ17を形成する筐体53
の側壁は不要となり、例えばカセット取り出し時にカセ
ット収容容器14を載置する天井部78と、垂直移動ア
ーム59の下部を保持する底部80を設ければよく、図
8に示すようにローディング室8内と搬出入室12内は
このカセット取り出しステージ17を介して常時連通さ
れている。この場合、搬出入室12内の清浄度の低い、
例えばクラス1000の清浄空気が、ウエハWが剥き出
しになされているローディング室8内に侵入することを
防止するために、ローディング室8内の圧力を、搬出入
室12内の圧力よりも常時高く、すなわち陽圧状態にな
るように維持しており、ローディング室8内の清浄空気
がカセット取り出しステージ17の部分を介して常時搬
出入室12内側へ流れるようになっている。このような
実施例においても、先に説明したと同様な効果を発揮す
ることができる。
内と搬出入室12内とは密閉区画する必要はないことか
ら、カセット取り出しステージ17を形成する筐体53
の側壁は不要となり、例えばカセット取り出し時にカセ
ット収容容器14を載置する天井部78と、垂直移動ア
ーム59の下部を保持する底部80を設ければよく、図
8に示すようにローディング室8内と搬出入室12内は
このカセット取り出しステージ17を介して常時連通さ
れている。この場合、搬出入室12内の清浄度の低い、
例えばクラス1000の清浄空気が、ウエハWが剥き出
しになされているローディング室8内に侵入することを
防止するために、ローディング室8内の圧力を、搬出入
室12内の圧力よりも常時高く、すなわち陽圧状態にな
るように維持しており、ローディング室8内の清浄空気
がカセット取り出しステージ17の部分を介して常時搬
出入室12内側へ流れるようになっている。このような
実施例においても、先に説明したと同様な効果を発揮す
ることができる。
【0055】尚、以上の実施例にあっては、不活性ガス
の消費量の削減や操作時間の短縮を目的とした保持体収
容室19を設けた装置を例にとって説明したが、これを
設けない装置、例えば図9に示す従来型装置に本発明を
適用してもよい。また、本発明は、縦型CVD装置、酸
化拡散装置のみならず、半導体ウエハ以外のもの、例え
ばガラス基板、LCD基板等の処理装置にも適用するこ
とができる。
の消費量の削減や操作時間の短縮を目的とした保持体収
容室19を設けた装置を例にとって説明したが、これを
設けない装置、例えば図9に示す従来型装置に本発明を
適用してもよい。また、本発明は、縦型CVD装置、酸
化拡散装置のみならず、半導体ウエハ以外のもの、例え
ばガラス基板、LCD基板等の処理装置にも適用するこ
とができる。
【0056】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の処理装置
によれば、次のように優れた作用効果を発揮することが
できる。被処理体の収容されたカセットを納めたカセッ
ト収容容器を設置するためのカセット収容容器用ポート
を搬出入室に設けてカセット収容容器毎装置内に取り込
むようにしたので、被処理体を作業領域の雰囲気に晒す
ことなく搬出入させることができ、従って処理装置の外
側の作業領域の雰囲気のクリーン度を従来装置のように
被処理体を剥き出し状態で搬送していた場合程高くする
必要がない。従って、クリーンルーム内の作業領域のク
リーン度を低くした状態でクリーンルームを形成できる
ので、クリーンルームの製造コスト及びランニングコス
トを大幅に削減することができる。また、空になったカ
セット収容容器を保管する場所を装置内の余剰スペース
に確保するようにしたので、装置外に保管場所を個別に
設ける場合と比較してクリーンルームの床面積を少なく
でき、この点よりも設備コストを削減することができ
る。更に、カセット取り出しステージ内を不活性ガス雰
囲気にすることにより、カセット収容容器内の被処理体
を大気に晒すことなく搬送し、処理することができるの
で自然酸化膜の成長及び雰囲気汚染を大幅に抑制するこ
とができる。
によれば、次のように優れた作用効果を発揮することが
できる。被処理体の収容されたカセットを納めたカセッ
ト収容容器を設置するためのカセット収容容器用ポート
を搬出入室に設けてカセット収容容器毎装置内に取り込
むようにしたので、被処理体を作業領域の雰囲気に晒す
ことなく搬出入させることができ、従って処理装置の外
側の作業領域の雰囲気のクリーン度を従来装置のように
被処理体を剥き出し状態で搬送していた場合程高くする
必要がない。従って、クリーンルーム内の作業領域のク
リーン度を低くした状態でクリーンルームを形成できる
ので、クリーンルームの製造コスト及びランニングコス
トを大幅に削減することができる。また、空になったカ
セット収容容器を保管する場所を装置内の余剰スペース
に確保するようにしたので、装置外に保管場所を個別に
設ける場合と比較してクリーンルームの床面積を少なく
でき、この点よりも設備コストを削減することができ
る。更に、カセット取り出しステージ内を不活性ガス雰
囲気にすることにより、カセット収容容器内の被処理体
を大気に晒すことなく搬送し、処理することができるの
で自然酸化膜の成長及び雰囲気汚染を大幅に抑制するこ
とができる。
【図1】本発明の処理装置の概略断面図である。
【図2】図1に示す装置の前面側を斜す斜視図である。
【図3】処理装置の概略平面図である。
【図4】本発明における保持体収容室の断面図である。
【図5】カセット取り出しステージを示す断面図であ
る。
る。
【図6】カセット収容容器を示す断面構成図である。
【図7】本発明の処理装置の他の実施例を示す概略断面
図である。
図である。
【図8】図7に示す装置の部分水平断面図である。
【図9】従来の処理装置の断面図である。
1 プロセスチューブ(処理室) 6 ウエハボート(保持体) 7 移送機構 8 ロードロック室(ローディング室) 12 搬出入室 13 カセット収容容器用ポート 14 カセット収容容器 15 取り込み手段 16 容器保管ステージ 17 カセット取り出しステージ 18 容器移載手段 19 保持体収容室 31 搬送機構 32 容器本体 44 容器トランスファ 52 ウエハトランスファ 53 筐体 55 カセット挿通孔(開閉部) 56 容器底部載置台 59 垂直移動アーム 63 カセット取り出し機構 72 清浄空気導入口 76 清浄空気排出口 C カセット W 半導体ウエハ(被処理体)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/31 (72)発明者 大蔵 領一 神奈川県津久井郡城山町町屋1丁目2番41 号 東京エレクトロン東北株式会社相模事 業所内
Claims (4)
- 【請求項1】 被処理体に所定の処理を施す処理室と、
この処理室に対して前記被処理体を収容した保持体を挿
脱する移送機構を有するローディング室と、このローデ
ィング室に対して、カセット内に収容されている被処理
体を搬出入する搬出入室とを具備する処理装置におい
て、前記搬出入室は、外部との間で前記カセットを搬出
入するために、内部が清浄空気或いは不活性ガス雰囲気
になされて密閉可能になされた搬送可能なカセット収容
容器を設置するためのカセット収容容器用ポートと、こ
のポートに設置された前記カセット収容容器を前記搬出
入室内に取り込む取り込み手段と、取り込まれた前記カ
セット収容容器を一時的に保管する容器保管ステージ
と、前記カセット収容容器内に収容されたカセットを取
り出すためのカセット取り出しステージと、前記容器保
管ステージと前記取り込み手段と前記カセット取り出し
ステージとの間で前記カセット収容容器の受け渡しを行
う容器移載手段とを備えたことを特徴とする処理装置。 - 【請求項2】 前記ローディング室内は清浄空気が循環
されており、前記搬出入室よりも雰囲気圧力が高く維持
されていることを特徴とする請求項1記載の処理装置。 - 【請求項3】 前記ローディング室は、前記搬出入室か
ら気密に区画可能になされたロードロック室であり、前
記カセット取り出しステージは、前記ロードロック室側
に向けて開放された筐体を有し、この筐体には前記カセ
ットの取り出し時に開閉する開閉部が形成されているこ
とを特徴とする請求項1記載の処理装置。 - 【請求項4】 前記カセット収容容器、前記ローディン
グ室及び前記筐体内は不活性ガス雰囲気または、清浄空
気雰囲気になされていることを特徴とする請求項1また
は3記載の処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10776694A JP3543996B2 (ja) | 1994-04-22 | 1994-04-22 | 処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10776694A JP3543996B2 (ja) | 1994-04-22 | 1994-04-22 | 処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07297257A true JPH07297257A (ja) | 1995-11-10 |
JP3543996B2 JP3543996B2 (ja) | 2004-07-21 |
Family
ID=14467464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10776694A Expired - Fee Related JP3543996B2 (ja) | 1994-04-22 | 1994-04-22 | 処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3543996B2 (ja) |
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0822961A (ja) * | 1994-07-05 | 1996-01-23 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理方法 |
WO1998019334A1 (fr) * | 1996-10-31 | 1998-05-07 | Tokyo Electron Limited | Appareil de traitement thermique |
WO1998019335A1 (fr) * | 1996-10-31 | 1998-05-07 | Tokyo Electron Limited | Appareil de traitement thermique de type vertical |
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