JPH05114568A - 縦型拡散、cvd装置 - Google Patents
縦型拡散、cvd装置Info
- Publication number
- JPH05114568A JPH05114568A JP30236091A JP30236091A JPH05114568A JP H05114568 A JPH05114568 A JP H05114568A JP 30236091 A JP30236091 A JP 30236091A JP 30236091 A JP30236091 A JP 30236091A JP H05114568 A JPH05114568 A JP H05114568A
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- JP
- Japan
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- cassette
- chamber
- wafer
- nitrogen gas
- boat
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Abstract
(57)【要約】
【目的】筐体等を特に耐圧構造にすることなく、窒素ガ
スの置換でウェーハの酸化を防止し、更に大気中での自
然酸化を防止しようとするものである。 【構成】筐体1内に反応炉4、ボート装入装置2、ウェ
ーハ移載機9、カセット収納室10、カセット予備室2
0等を収納し、少なくとも前記筐体、カセット予備室を
常圧気密構造とし、前記筐体、カセット予備室を窒素ガ
スにより置換可能とし、ウェーハの移載、待機中での自
然酸化を防止する。
スの置換でウェーハの酸化を防止し、更に大気中での自
然酸化を防止しようとするものである。 【構成】筐体1内に反応炉4、ボート装入装置2、ウェ
ーハ移載機9、カセット収納室10、カセット予備室2
0等を収納し、少なくとも前記筐体、カセット予備室を
常圧気密構造とし、前記筐体、カセット予備室を窒素ガ
スにより置換可能とし、ウェーハの移載、待機中での自
然酸化を防止する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、シリコンウェーハを処
理して半導体素子を製造する縦型拡散、CVD装置に関
するものである。
理して半導体素子を製造する縦型拡散、CVD装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の縦型拡散、CVD装置は、ロード
ロック室、該ロードロック室の上部に反応炉、ウェーハ
が装填されたカセットを授受し、且一時保持する為のカ
セット棚等からなり、これらは筐体内に収納された構造
となっている。又、前記ロードロック室にはウェーハが
装填されたボートを前記反応炉に装入、取出すボート昇
降装置等のウェーハ搬送装置を内蔵している。
ロック室、該ロードロック室の上部に反応炉、ウェーハ
が装填されたカセットを授受し、且一時保持する為のカ
セット棚等からなり、これらは筐体内に収納された構造
となっている。又、前記ロードロック室にはウェーハが
装填されたボートを前記反応炉に装入、取出すボート昇
降装置等のウェーハ搬送装置を内蔵している。
【0003】斯かる縦型拡散、CVD装置に於いて、前
記反応炉で処理されたウェーハを拡散炉より大気中に取
出した場合、ウェーハが高温の為自然酸化する。従っ
て、従来の縦型拡散、CVD装置では前記ロードロック
室を真空容器とし、該ロードロック室を真空状態として
ウェーハの装入、取出しを行い、更に前記ロードロック
室に窒素ガスを充満させ、ロードロック室を大気圧とし
た後、縦型拡散、CVD装置から外部にウェーハを取出
していた。
記反応炉で処理されたウェーハを拡散炉より大気中に取
出した場合、ウェーハが高温の為自然酸化する。従っ
て、従来の縦型拡散、CVD装置では前記ロードロック
室を真空容器とし、該ロードロック室を真空状態として
ウェーハの装入、取出しを行い、更に前記ロードロック
室に窒素ガスを充満させ、ロードロック室を大気圧とし
た後、縦型拡散、CVD装置から外部にウェーハを取出
していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前記したロードロック
室はウェーハが装填されたボートを前記拡散炉に装入、
取出すボート昇降装置を内蔵する等、比較的大容積であ
り、斯かるロードロック室を真空容器とするには、板厚
の厚い、而も構造上の制約から大型化せざるを得ず、製
作費も高価なものとなっていた。
室はウェーハが装填されたボートを前記拡散炉に装入、
取出すボート昇降装置を内蔵する等、比較的大容積であ
り、斯かるロードロック室を真空容器とするには、板厚
の厚い、而も構造上の制約から大型化せざるを得ず、製
作費も高価なものとなっていた。
【0005】又、上記した従来のものでは、ロードロッ
ク室に移載する前の待機中のウェーハの自然酸化、或は
処理後縦型拡散、CVD装置より搬送する迄の待機中で
の自然酸化を防止することができなかった。
ク室に移載する前の待機中のウェーハの自然酸化、或は
処理後縦型拡散、CVD装置より搬送する迄の待機中で
の自然酸化を防止することができなかった。
【0006】本発明は斯かる実情に鑑み、特に真空容器
を設けることなく、窒素ガスの置換でウェーハの酸化を
防止し、更に大気中での自然酸化を防止しようとするも
のである。
を設けることなく、窒素ガスの置換でウェーハの酸化を
防止し、更に大気中での自然酸化を防止しようとするも
のである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、筐体内に反応
炉、ボート装入装置、ウェーハ移載機、カセット収納
室、カセット予備室等を収納し、少なくとも前記筐体、
カセット予備室を常圧気密構造とし、前記筐体、カセッ
ト予備室を窒素ガスにより置換可能としたことを特徴と
するものである。
炉、ボート装入装置、ウェーハ移載機、カセット収納
室、カセット予備室等を収納し、少なくとも前記筐体、
カセット予備室を常圧気密構造とし、前記筐体、カセッ
ト予備室を窒素ガスにより置換可能としたことを特徴と
するものである。
【0008】
【作用】筐体、カセット予備室内部を窒素ガスにより置
換することで、ウェーハの移載、待機中での自然酸化を
防止できる。
換することで、ウェーハの移載、待機中での自然酸化を
防止できる。
【0009】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。
説明する。
【0010】図1は本発明に係る縦型拡散、CVD装置
の概略図であり、図中1は筐体を示し、該筐体1内部の
上部に常圧環境下で密閉構造となっている反応炉4が設
けられ、該反応炉4の下方にボート装入装置2を設け
る。該ボート装入装置2はボートエレベータ5にウェー
ハを多段に保持するボート6を載置するものである。
の概略図であり、図中1は筐体を示し、該筐体1内部の
上部に常圧環境下で密閉構造となっている反応炉4が設
けられ、該反応炉4の下方にボート装入装置2を設け
る。該ボート装入装置2はボートエレベータ5にウェー
ハを多段に保持するボート6を載置するものである。
【0011】前記ボート装入装置2に対向してウェーハ
移載機9が設けられ、更に該ウェーハ移載機9に隣接し
てカセット収納室10が設けられている。
移載機9が設けられ、更に該ウェーハ移載機9に隣接し
てカセット収納室10が設けられている。
【0012】該ウェーハ移載機9は、昇降可能な昇降ブ
ロック11と該昇降ブロック11に設けられウェーハ1
2を水平方向に移動させる搬送ユニット13とから成
り、該ウェーハ移載機9により前記カセット収納室10
に収納したカセット14からウェーハ12を1枚ずつ前
記ボート6に移載する様になっている。
ロック11と該昇降ブロック11に設けられウェーハ1
2を水平方向に移動させる搬送ユニット13とから成
り、該ウェーハ移載機9により前記カセット収納室10
に収納したカセット14からウェーハ12を1枚ずつ前
記ボート6に移載する様になっている。
【0013】前記筐体1には窒素ガス供給管15が設け
られており、該窒素ガス供給管15は図示しない窒素ガ
ス供給源に接続されている。又、前記筐体1には排気管
16を接続し、該排気管16には開閉弁17を設ける。
られており、該窒素ガス供給管15は図示しない窒素ガ
ス供給源に接続されている。又、前記筐体1には排気管
16を接続し、該排気管16には開閉弁17を設ける。
【0014】又、前記カセット収納室10に隣接してカ
セット予備室20を設け、該カセット予備室20にはシ
ャッタ21を設け、筐体1外部に対して開閉可能となっ
ている。該カセット予備室20には窒素ガス供給管22
を連通し、又排気管23を接続し、該排気管23には開
閉弁24を設ける。
セット予備室20を設け、該カセット予備室20にはシ
ャッタ21を設け、筐体1外部に対して開閉可能となっ
ている。該カセット予備室20には窒素ガス供給管22
を連通し、又排気管23を接続し、該排気管23には開
閉弁24を設ける。
【0015】前記筐体1の前記カセット収納室10に対
峙する位置に、シャッタ18を設け、該シャッタ18の
開閉によりカセット予備室20から前記カセット収納室
10にカセット14を装入、取出しが可能になってい
る。
峙する位置に、シャッタ18を設け、該シャッタ18の
開閉によりカセット予備室20から前記カセット収納室
10にカセット14を装入、取出しが可能になってい
る。
【0016】前記筐体1、カセット予備室20はいずれ
も常圧環境下で密閉構造となっており、筐体1の内部、
カセット予備室20の内部を窒素ガスで置換することで
酸素ガス濃度100〜20ppm の環境を容易に達成で
き、処理前、処理後の待機状態での自然酸化を防止する
ことができる。
も常圧環境下で密閉構造となっており、筐体1の内部、
カセット予備室20の内部を窒素ガスで置換することで
酸素ガス濃度100〜20ppm の環境を容易に達成で
き、処理前、処理後の待機状態での自然酸化を防止する
ことができる。
【0017】以下、作動を説明する。
【0018】ウェーハ12が装填されたカセット14
は、一旦前記カセット予備室20に収納し、前記シャッ
タ21を閉鎖後、該カセット予備室20内部を窒素ガス
に置換して前記カセット収納室10に移載される迄待機
する。
は、一旦前記カセット予備室20に収納し、前記シャッ
タ21を閉鎖後、該カセット予備室20内部を窒素ガス
に置換して前記カセット収納室10に移載される迄待機
する。
【0019】次に、前記シャッタ18を開いてカセット
予備室20からカセット収納室10にカセット14を移
載する。該カセット予備室20を設けてあるので、カセ
ット14を前記カセット収納室10に移載するのに筐体
1の窒素ガス置換が保持され、窒素ガスの使用を低減す
ることができる。カセット収納室10に移載された該カ
セット14から前記ウェーハ移載機9によりウェーハ1
2が順次前記ボート6へ移載され、更にボート装入装置
2によりボート6が前記反応炉4に装入されてウェーハ
12の処理が行われる。
予備室20からカセット収納室10にカセット14を移
載する。該カセット予備室20を設けてあるので、カセ
ット14を前記カセット収納室10に移載するのに筐体
1の窒素ガス置換が保持され、窒素ガスの使用を低減す
ることができる。カセット収納室10に移載された該カ
セット14から前記ウェーハ移載機9によりウェーハ1
2が順次前記ボート6へ移載され、更にボート装入装置
2によりボート6が前記反応炉4に装入されてウェーハ
12の処理が行われる。
【0020】ウェーハ12の処理が終り、ボートエレベ
ータ5で前記ボート6を取出し、所要時間経過した後、
前記ウェーハ移載機9により前記カセット収納室10の
カセット14にウェーハ12を移載する。
ータ5で前記ボート6を取出し、所要時間経過した後、
前記ウェーハ移載機9により前記カセット収納室10の
カセット14にウェーハ12を移載する。
【0021】ウェーハ12の装填が完了したカセット1
4は前記カセット予備室20に移載され、縦型拡散、C
VD装置から外部に搬送される迄、前記カセット予備室
20で待機する。このカセット予備室20での待機中、
該カセット予備室20は窒素ガスで充満しているので自
然酸化が防止される。
4は前記カセット予備室20に移載され、縦型拡散、C
VD装置から外部に搬送される迄、前記カセット予備室
20で待機する。このカセット予備室20での待機中、
該カセット予備室20は窒素ガスで充満しているので自
然酸化が防止される。
【0022】而して、上記一連の動作を繰返せばウェー
ハ12の処理が反復して行われる。
ハ12の処理が反復して行われる。
【0023】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、筐体、
カセット予備室の内部を窒素ガスで置換するので待機
中、移載中のウェーハの自然酸化を防止し得、製品品質
を向上させることができると共に筐体、カセット予備室
を常圧気密構造とするので構造が著しく簡単となり、装
置の製造コストを大幅に低減することができる。
カセット予備室の内部を窒素ガスで置換するので待機
中、移載中のウェーハの自然酸化を防止し得、製品品質
を向上させることができると共に筐体、カセット予備室
を常圧気密構造とするので構造が著しく簡単となり、装
置の製造コストを大幅に低減することができる。
【図1】本発明の一実施例を示す概略説明図である。
1 筐体 2 ボート装入装置 4 反応炉 9 ウェーハ移載機 10 カセット収納室 20 カセット予備室
Claims (1)
- 【請求項1】 筐体内に反応炉、ボート装入装置、ウェ
ーハ移載機、カセット収納室、カセット予備室等を収納
し、少なくとも前記筐体、カセット予備室を常圧気密構
造とし、前記筐体、カセット予備室を窒素ガスにより置
換可能としたことを特徴とする縦型拡散、CVD装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30236091A JPH05114568A (ja) | 1991-10-22 | 1991-10-22 | 縦型拡散、cvd装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30236091A JPH05114568A (ja) | 1991-10-22 | 1991-10-22 | 縦型拡散、cvd装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05114568A true JPH05114568A (ja) | 1993-05-07 |
Family
ID=17907965
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30236091A Pending JPH05114568A (ja) | 1991-10-22 | 1991-10-22 | 縦型拡散、cvd装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05114568A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5788448A (en) * | 1994-12-08 | 1998-08-04 | Tokyo Electron Limited | Processing apparatus |
JP2016509750A (ja) * | 2013-01-15 | 2016-03-31 | ユ−ジーン テクノロジー カンパニー.リミテッド | 基板処理装置 |
-
1991
- 1991-10-22 JP JP30236091A patent/JPH05114568A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5788448A (en) * | 1994-12-08 | 1998-08-04 | Tokyo Electron Limited | Processing apparatus |
JP2016509750A (ja) * | 2013-01-15 | 2016-03-31 | ユ−ジーン テクノロジー カンパニー.リミテッド | 基板処理装置 |
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