JPH0488120A - 真空炉の雰囲気加熱方法 - Google Patents
真空炉の雰囲気加熱方法Info
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- JPH0488120A JPH0488120A JP20165990A JP20165990A JPH0488120A JP H0488120 A JPH0488120 A JP H0488120A JP 20165990 A JP20165990 A JP 20165990A JP 20165990 A JP20165990 A JP 20165990A JP H0488120 A JPH0488120 A JP H0488120A
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- Japan
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- furnace
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- heat insulating
- heating
- gas
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- Pending
Links
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 39
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- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 12
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 7
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Landscapes
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は炉内にN2ガス等の炉内ガスを入れて加熱する
真空炉の雰囲気加熱方法に関するものである。
真空炉の雰囲気加熱方法に関するものである。
真空容器内に断熱室が区画形成され、該断熱室内には発
熱体および処理品が配置され、該断熱室と隣接するよう
に真空容器内にガス冷却器および循環ファンが設けられ
、該循環ファンにより断熱室内の炉内ガスを吸引してガ
ス冷却器に通すことにより冷却し、その冷却された炉内
ガスを断熱室に向けて配管された冷却ガス管路を通して
断熱室に圧送しの処理品に噴射させることで処理品を短
時間で冷却できるようにした噴流冷却式真空炉は本出願
人等によりすでに開発されて来ている。
熱体および処理品が配置され、該断熱室と隣接するよう
に真空容器内にガス冷却器および循環ファンが設けられ
、該循環ファンにより断熱室内の炉内ガスを吸引してガ
ス冷却器に通すことにより冷却し、その冷却された炉内
ガスを断熱室に向けて配管された冷却ガス管路を通して
断熱室に圧送しの処理品に噴射させることで処理品を短
時間で冷却できるようにした噴流冷却式真空炉は本出願
人等によりすでに開発されて来ている。
一方、真空炉では処理品が未だ低温域にあるときは炉内
ガスの対流による熱伝達を促進させて処理品の昇温速度
が速くできるようにすることがなされているが、その場
合、上記噴流冷却式真空炉ではその循環ファンをたとえ
停止させたとしても断熱室内の炉内ガスが高温度になる
と冷却ガス管路を通しての自然対流か起き断熱室内が冷
やされるので温度上昇かにふり、処理品の温度分布も概
略処理品の上下部で20℃以上の温度差が出るなど温度
分布が悪くなるという問題があった。
ガスの対流による熱伝達を促進させて処理品の昇温速度
が速くできるようにすることがなされているが、その場
合、上記噴流冷却式真空炉ではその循環ファンをたとえ
停止させたとしても断熱室内の炉内ガスが高温度になる
と冷却ガス管路を通しての自然対流か起き断熱室内が冷
やされるので温度上昇かにふり、処理品の温度分布も概
略処理品の上下部で20℃以上の温度差が出るなど温度
分布が悪くなるという問題があった。
本発明に係る真空炉の雰囲気加熱方法は上記課題を解決
しようとするもので、真空容器内に断熱室が区画形成さ
れ、該断熱室内には発熱体および処理品が配置され、該
断熱室と隣接するように真空容器内にガス冷却器および
循環ファンが設けられ、断熱室内から吸引し該ガス冷却
器を通すことにより冷却した炉内ガスを冷却ガス管路を
通して該断熱室の処理品に噴射させるようにした噴流冷
却式真空炉において、処理品を雰囲気加熱する間は前記
冷却ガス管路を閉塞し炉内ガスの自然対流を防止するこ
とを特徴としたものである。
しようとするもので、真空容器内に断熱室が区画形成さ
れ、該断熱室内には発熱体および処理品が配置され、該
断熱室と隣接するように真空容器内にガス冷却器および
循環ファンが設けられ、断熱室内から吸引し該ガス冷却
器を通すことにより冷却した炉内ガスを冷却ガス管路を
通して該断熱室の処理品に噴射させるようにした噴流冷
却式真空炉において、処理品を雰囲気加熱する間は前記
冷却ガス管路を閉塞し炉内ガスの自然対流を防止するこ
とを特徴としたものである。
C実施例〕
次に本発明の一実施例を図示した噴流冷却式真空炉につ
いて説明する。
いて説明する。
図において、lは水平に支持された円筒状の真空容器、
2はその一端に気密に密閉し得るように設けられた蓋で
ある。真空容器1内にはカーボン製の断熱板3によって
囲われた断熱室4が形成されている。5は該断熱室4と
隣接するようムこ真空容器1内に設けられたガス冷却器
、6は循環ファンである。断熱室4にはその内周壁に沿
って電気発熱体7が多数本設けられている。8は該断熱
室4内の支台9に支持して配置された処理品である。
2はその一端に気密に密閉し得るように設けられた蓋で
ある。真空容器1内にはカーボン製の断熱板3によって
囲われた断熱室4が形成されている。5は該断熱室4と
隣接するようムこ真空容器1内に設けられたガス冷却器
、6は循環ファンである。断熱室4にはその内周壁に沿
って電気発熱体7が多数本設けられている。8は該断熱
室4内の支台9に支持して配置された処理品である。
前記蓋2の内側に形成されたスペース10にはレール1
2が設けられ該レール12上に支持されたモータ11が
シリンダ13の作動により進退勤し得る。該モータ11
にはファン14が設けられる。
2が設けられ該レール12上に支持されたモータ11が
シリンダ13の作動により進退勤し得る。該モータ11
にはファン14が設けられる。
15は断熱室4の開口16を外部からのレバー(図示せ
ず)操作により開閉し得るように設けられた蓋板で、該
蓋板15の背後に前記ファン14が位置している。そし
て該蓋板15を横にずらしてモータ11を進出動するこ
とにより開口】6からファン14が断熱室4内に挿入で
きるようになっている。一方、17はガス冷却器5側に
ある断熱室4の開口で、該開口17は外部から操作でき
る回転軸18に固着されたアーム19に蓋板20が枢着
され、該蓋板20が開口17を開閉し得るようになって
いる。28はガス冷却器5のWi環マフアン6回転させ
るモータである。循環ファン6は真空容器1内を隔壁2
1によって仕切して形成されたヘッダ22中に設けられ
該循環ファン6が回転すると炉内ガスをガス冷却器5よ
り吸気筒23を通して該ヘッダ22内に吸引する。なお
ガス冷却器5には冷却水が循環している。24は該ヘッ
ダ22と断熱室4とを継ぐ多数本の角バイブからなる冷
却ガス管路で、該冷却ガス管路24の一端は前記隔壁2
1を貫通してヘッダ22内に開口し他端は断熱板3を貫
通する数個のノズル29が断熱室4内に開口するように
設けられている。25はシリンダ26の作動で軸27を
進退勤させることにより冷却ガス管路24の開口端をヘ
ッダ22中から開閉させる盲板である。
ず)操作により開閉し得るように設けられた蓋板で、該
蓋板15の背後に前記ファン14が位置している。そし
て該蓋板15を横にずらしてモータ11を進出動するこ
とにより開口】6からファン14が断熱室4内に挿入で
きるようになっている。一方、17はガス冷却器5側に
ある断熱室4の開口で、該開口17は外部から操作でき
る回転軸18に固着されたアーム19に蓋板20が枢着
され、該蓋板20が開口17を開閉し得るようになって
いる。28はガス冷却器5のWi環マフアン6回転させ
るモータである。循環ファン6は真空容器1内を隔壁2
1によって仕切して形成されたヘッダ22中に設けられ
該循環ファン6が回転すると炉内ガスをガス冷却器5よ
り吸気筒23を通して該ヘッダ22内に吸引する。なお
ガス冷却器5には冷却水が循環している。24は該ヘッ
ダ22と断熱室4とを継ぐ多数本の角バイブからなる冷
却ガス管路で、該冷却ガス管路24の一端は前記隔壁2
1を貫通してヘッダ22内に開口し他端は断熱板3を貫
通する数個のノズル29が断熱室4内に開口するように
設けられている。25はシリンダ26の作動で軸27を
進退勤させることにより冷却ガス管路24の開口端をヘ
ッダ22中から開閉させる盲板である。
このように構成した真空炉では、いま断熱室4内に装入
された処理品8を所期の高温度に加熱するに際し、先ず
真空容器1内をN、ガス等の無酸化性炉内ガスに置換す
る。そしてファン14を断熱室4内に挿入し、開口17
は蓋板20によって閉塞し発熱体7を通電することによ
り処理品8をその炉内ガスの基で雰囲気加熱する。その
際、盲板25により冷却ガス管路24を閉塞する。この
ため処理品8は発熱体7の輻射熱で加熱されるほか断熱
室4内の炉内ガスの対流により加熱される。
された処理品8を所期の高温度に加熱するに際し、先ず
真空容器1内をN、ガス等の無酸化性炉内ガスに置換す
る。そしてファン14を断熱室4内に挿入し、開口17
は蓋板20によって閉塞し発熱体7を通電することによ
り処理品8をその炉内ガスの基で雰囲気加熱する。その
際、盲板25により冷却ガス管路24を閉塞する。この
ため処理品8は発熱体7の輻射熱で加熱されるほか断熱
室4内の炉内ガスの対流により加熱される。
その際冷却ガス管路24は盲板25により閉塞するので
断熱室4内の加熱された炉内ガスがこの冷却ガス管路2
4を通してヘッダ22.ガス冷却器5等へ対流すること
なく断熱室4内の熱の逸散を防ぎ得る。このため処理品
8は短時間で昇温することができると共に、処理品8の
温度分布は温度差が10″C以内におさまるなど大幅に
改善することができる。こうして処理品8が一定温度ま
で昇温できたら真空ポンプにより真空容器1内のガスを
排出し発熱体7の処理品8をさらに必要な高温度まで加
熱する。なお冷却時には再び真空容器1内にN2ガス等
の炉内ガスを導入し、該ガス冷却器5を通水すると共に
循環ファン6を回転させ冷却ガス管路24の盲板25を
開き、さらに断熱室4の開口16.17を開くことによ
って断熱室4内の炉内ガスを循環ファン6の作動でガス
冷却器5に吸引させて冷却ガスをヘッダ22より冷却ガ
ス管路24.ノズル29を通して断熱室4内に噴出させ
処理品8に直接その冷却ガスを噴射することにより急速
冷却が可能なるようにしている。
断熱室4内の加熱された炉内ガスがこの冷却ガス管路2
4を通してヘッダ22.ガス冷却器5等へ対流すること
なく断熱室4内の熱の逸散を防ぎ得る。このため処理品
8は短時間で昇温することができると共に、処理品8の
温度分布は温度差が10″C以内におさまるなど大幅に
改善することができる。こうして処理品8が一定温度ま
で昇温できたら真空ポンプにより真空容器1内のガスを
排出し発熱体7の処理品8をさらに必要な高温度まで加
熱する。なお冷却時には再び真空容器1内にN2ガス等
の炉内ガスを導入し、該ガス冷却器5を通水すると共に
循環ファン6を回転させ冷却ガス管路24の盲板25を
開き、さらに断熱室4の開口16.17を開くことによ
って断熱室4内の炉内ガスを循環ファン6の作動でガス
冷却器5に吸引させて冷却ガスをヘッダ22より冷却ガ
ス管路24.ノズル29を通して断熱室4内に噴出させ
処理品8に直接その冷却ガスを噴射することにより急速
冷却が可能なるようにしている。
このように本発明は、噴流冷却式真空炉においてその噴
流冷却のために設けられた冷却ガス管路を、処理品を雰
囲気加熱する間は閉塞させることにより、雰囲気加熱時
に炉内ガスが自然対流するのを防ぎ断熱室内の熱が外に
無駄に放出されることのないようにしたので、雰囲気加
熱が一層効果的に行なわれるようになり、所要昇温時間
を短縮させて処理能率を高め、さらには均一加熱が可能
で省エネルギー効果もあるなど有益である。
流冷却のために設けられた冷却ガス管路を、処理品を雰
囲気加熱する間は閉塞させることにより、雰囲気加熱時
に炉内ガスが自然対流するのを防ぎ断熱室内の熱が外に
無駄に放出されることのないようにしたので、雰囲気加
熱が一層効果的に行なわれるようになり、所要昇温時間
を短縮させて処理能率を高め、さらには均一加熱が可能
で省エネルギー効果もあるなど有益である。
図面は本発明の一実施例を示したもので、第1図は噴流
冷却式真空炉の縦断面図、第2図はその横断面図である
。 l・・・真空容器、4・・・断熱室、5・・・ガス冷却
室、6・・・循環ファン、7・・・発熱体、8・・・処
理品、21・・・隅壁、22・・・ヘッダ、24・・・
冷却ガス管路、25・・・盲板、 26・・・シリンダ。
冷却式真空炉の縦断面図、第2図はその横断面図である
。 l・・・真空容器、4・・・断熱室、5・・・ガス冷却
室、6・・・循環ファン、7・・・発熱体、8・・・処
理品、21・・・隅壁、22・・・ヘッダ、24・・・
冷却ガス管路、25・・・盲板、 26・・・シリンダ。
Claims (1)
- 真空容器内に断熱室が区画形成され、該断熱室内には発
熱体および処理品が配置され、該断熱室と隣接するよう
に真空容器内にガス冷却器および循環ファンが設けられ
、断熱室内から吸引し該ガス冷却器を通すことにより冷
却した炉内ガスを冷却ガス管路を通して該断熱室の処理
品に噴射させるようにした噴流冷却式真空炉において、
処理品を雰囲気加熱する間は前記冷却ガス管路を閉塞し
炉内ガスの自然対流を防止することを特徴とした真空炉
の雰囲気加熱方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20165990A JPH0488120A (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 真空炉の雰囲気加熱方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20165990A JPH0488120A (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 真空炉の雰囲気加熱方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0488120A true JPH0488120A (ja) | 1992-03-23 |
Family
ID=16444767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20165990A Pending JPH0488120A (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 真空炉の雰囲気加熱方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0488120A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH064057U (ja) * | 1992-06-19 | 1994-01-18 | 武蔵精密工業株式会社 | 熱処理炉 |
WO2008032668A1 (en) * | 2006-09-11 | 2008-03-20 | Ulvac, Inc. | Vacuum evaporation processing equipment |
JP2010107193A (ja) * | 2003-01-31 | 2010-05-13 | Ihi Corp | 熱処理装置 |
CN103162538A (zh) * | 2013-03-22 | 2013-06-19 | 浙江固驰电子有限公司 | 一种整流桥模块烧结设备 |
JP2020085359A (ja) * | 2018-11-27 | 2020-06-04 | 中外炉工業株式会社 | 熱処理炉 |
-
1990
- 1990-07-30 JP JP20165990A patent/JPH0488120A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH064057U (ja) * | 1992-06-19 | 1994-01-18 | 武蔵精密工業株式会社 | 熱処理炉 |
JP2010107193A (ja) * | 2003-01-31 | 2010-05-13 | Ihi Corp | 熱処理装置 |
WO2008032668A1 (en) * | 2006-09-11 | 2008-03-20 | Ulvac, Inc. | Vacuum evaporation processing equipment |
US8375891B2 (en) | 2006-09-11 | 2013-02-19 | Ulvac, Inc. | Vacuum vapor processing apparatus |
JP5159629B2 (ja) * | 2006-09-11 | 2013-03-06 | 株式会社アルバック | 真空蒸気処理装置 |
CN103162538A (zh) * | 2013-03-22 | 2013-06-19 | 浙江固驰电子有限公司 | 一种整流桥模块烧结设备 |
JP2020085359A (ja) * | 2018-11-27 | 2020-06-04 | 中外炉工業株式会社 | 熱処理炉 |
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