JPH0480979A - Gas laser oscillation device - Google Patents
Gas laser oscillation deviceInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、レーザガスを外部よう連続的まだは間欠的に
供給するガスレーザ発振装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a gas laser oscillation device that supplies laser gas externally either continuously or intermittently.
従来の技術
まず従来の一般的なガスレーザ発振装置について説明す
る。Prior Art First, a conventional general gas laser oscillation device will be explained.
従来のガスレーザ発振装置を第３図に示す。図において
、１はガラスなどの誘電体よりなる放電管であシ、２，
３は放電管１の内部に設けられた一対の金属電極である
。４は金属電極２，３に接続された高電圧電源であり、
たとえば３０ＫＶの電圧を金属電極２，３間に印加する
。５は金属電極２，３間に挟まれた放電管１内の放電空
間である。６は全反射鏡、７は部分反射鏡であり、この
全反射鏡６９部分反射鏡７は放電空間５の両端に固定配
置され、光共振器を形成している。８は部分反射鏡７を
通して出力されるレーザビームである。矢印９はレーザ
ガスの流れる方向を示している。１ｏは送気管であり、
１１．１２は放電空間５による放電および送風機により
温度上昇したレーザガスの温度を下げるための熱交換器
、１３は放電空間５にレーザガスを循環させるだめの送
風機である。上述の放電管１．送気管１０．熱交換器１
１．１２および送風機１３よりレーザ発振装置のレーザ
ガス循環系が構成されている。A conventional gas laser oscillation device is shown in FIG. In the figure, 1 is a discharge tube made of a dielectric material such as glass, 2,
3 is a pair of metal electrodes provided inside the discharge tube 1. 4 is a high voltage power supply connected to metal electrodes 2 and 3;
For example, a voltage of 30 KV is applied between the metal electrodes 2 and 3. 5 is a discharge space within the discharge tube 1 sandwiched between the metal electrodes 2 and 3. 6 is a total reflection mirror, and 7 is a partial reflection mirror, and the total reflection mirror 69 and the partial reflection mirror 7 are fixedly arranged at both ends of the discharge space 5 to form an optical resonator. 8 is a laser beam outputted through the partially reflecting mirror 7. Arrow 9 indicates the direction in which the laser gas flows. 1o is an air pipe,
Reference numerals 11 and 12 denote a heat exchanger for lowering the temperature of the laser gas whose temperature has risen due to discharge in the discharge space 5 and the blower, and 13 a blower for circulating the laser gas in the discharge space 5. The above-mentioned discharge tube 1. Air pipe 10. heat exchanger 1
1.12 and the blower 13 constitute a laser gas circulation system of the laser oscillation device.
なお、送風機１３により放電空間５にて約１ｏＯｍ／Ｂ
程度のガス流を得る必要がある。次にその動作について
説明する。In addition, approximately 1oOm/B is generated in the discharge space 5 by the blower 13.
It is necessary to obtain a certain gas flow. Next, its operation will be explained.
まず一対の金属電極２，３に高電圧電源４から高電圧を
印加し、放電空間５にグロー放電を発生させる。放電空
間５を通過するレーザガスは、この放電エネルギーを得
て励起され、その励起されたレーザガスは全反射鏡６お
よび部分反射鏡７により形成された光共振器で共振状態
となり、部分反射鏡７からレーザビーム８が出力される
。このレーザビーム８がレーザ加工等の用途に用いられ
る。First, a high voltage is applied from the high voltage power supply 4 to the pair of metal electrodes 2 and 3 to generate a glow discharge in the discharge space 5. The laser gas passing through the discharge space 5 is excited by obtaining this discharge energy, and the excited laser gas enters a resonant state in the optical resonator formed by the total reflection mirror 6 and the partial reflection mirror 7, and is emitted from the partial reflection mirror 7. A laser beam 8 is output. This laser beam 8 is used for purposes such as laser processing.
第４図は、従来のレーザガス供給系を示す配管系統図で
ある。レーザガスはレーザガフボンベ１４から一次圧力
調整器１５．配管１６．フィルタ１７゜圧力調整器１８
．バルブ１９および２０．急速供給用流量計２１．一定
流量２２を経てレーザ発振装置のレーザガス循環系の送
気管１０に供給される。送気管１ｏ内の圧力は圧力セン
サ２３により測定される。２４はレーザガス排出用の真
空ポンプ、２５は急速排気用パルプ、２６は一定排気用
パルブである。FIG. 4 is a piping system diagram showing a conventional laser gas supply system. The laser gas is supplied from the laser gaff cylinder 14 to the primary pressure regulator 15. Piping 16. Filter 17゜Pressure regulator 18
．． Valves 19 and 20. Rapid supply flow meter 21. It is supplied through a constant flow rate 22 to the air supply pipe 10 of the laser gas circulation system of the laser oscillation device. The pressure inside the air supply pipe 1o is measured by a pressure sensor 23. 24 is a vacuum pump for discharging laser gas, 25 is a pulp for rapid evacuation, and 26 is a pulse for constant evacuation.
第５図に従来のレーザガス供給、排気のシーケンヌを示
す。レーザ装置を起動させた時のガス圧はＡである。ガ
ス圧Ｂになるまではバルブ１９および２ｏは閉、急速排
気用バルブ２５および一定排気用バルブ２６は開となυ
、レーザガス循環系内は真空ポンプにより減圧される。FIG. 5 shows a conventional laser gas supply and exhaust sequence. The gas pressure is A when the laser device is started. Until gas pressure B is reached, valves 19 and 2o are closed, and rapid exhaust valve 25 and constant exhaust valve 26 are open.
The pressure inside the laser gas circulation system is reduced by a vacuum pump.
ガス圧がＢになると、バルブ１９および２Ｑが開、パル
プ２５および２６が閉となり、レーザガスがレーザガス
循環系に供給され、ガス圧がＣとなる。ガス圧がＣにな
ると、パルプ１９が閉、パルプ２６が開となシ、レーザ
ガス循環系内のガス圧はガスレーザ発振装置の運転ガス
圧であるＤとなり、ガス圧りで安定する。When the gas pressure reaches B, the valves 19 and 2Q are opened, the pulps 25 and 26 are closed, the laser gas is supplied to the laser gas circulation system, and the gas pressure becomes C. When the gas pressure reaches C, the pulp 19 is closed and the pulp 26 is opened, and the gas pressure in the laser gas circulation system becomes D, which is the operating gas pressure of the gas laser oscillation device, and becomes stable at the gas pressure.
発明が解決しようとする課題
このような従来のガスレーザ発振装置では、レーザガス
ボンベ１４からガスレーザ発振装置までの間の配管（第
４図の配管１６）に小さなヒンホルがあって、レーザガ
スがリークしていた場合、レーザガスボンベ１４の内部
のガヌが、例えばＣＯ２ガスレーザ発振装置の場合、一
般にはＨｅ 、Ｎ２およびＣＯ２の混合ガスが使用され
るが、例えば、ガスレーザ発振装置の起動待機状態で配
管１ｅ中にレーザガスボンベ１４よりのレーザガスが充
満している場合などには、ピンホールの大キサニよって
はＨｅのみが選択的に漏れ、配管１６の中のガス混合比
が設定の混合比から変化する事態が発生したシ、大幅に
漏れていた場合は逆に配管１６内に空気が混入する場合
もあり、ガスレーザ発振装置の出力が低下したり、時に
はガスレーザ発振装置の破損に至ることもあるという課
題があった。Problems to be Solved by the Invention In such conventional gas laser oscillation devices, there was a small hole in the piping (piping 16 in Figure 4) between the laser gas cylinder 14 and the gas laser oscillation device, causing laser gas to leak. If the gas inside the laser gas cylinder 14 is, for example, a CO2 gas laser oscillation device, generally a mixed gas of He, N2, and CO2 is used, but for example, if the gas inside the laser gas cylinder 14 is in the piping 1e while the gas laser oscillation device is waiting for startup. When the laser gas from the laser gas cylinder 14 is full, only He selectively leaks due to large pinholes, causing a situation where the gas mixture ratio in the pipe 16 changes from the set mixture ratio. However, if there was a significant leakage, air could get into the pipe 16, causing a problem in that the output of the gas laser oscillator would decrease, and in some cases, the gas laser oscillator would be damaged. .
本発明は上記課題を解決するもので、レーザガス供給配
管中においてガス混合比が変化したレザガヌをレーザガ
ス発振装置のガス循環系中に混入させることのない優れ
たガスレーザ発振装置を提供することを目的とする。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide an excellent gas laser oscillation device in which the laser gas whose gas mixture ratio has changed in the laser gas supply piping is not mixed into the gas circulation system of the laser gas oscillation device. do.
課題を解決するだめの手段
本発明は上記目的を達成するために、レーザガスを外部
より連続的または間欠的に供給するガスレーザ発振装置
であって、レーザ起動時にレーザガスを一定量大気中へ
排出する排出用バルブを備えるものである。Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the present invention provides a gas laser oscillation device that continuously or intermittently supplies laser gas from the outside, and which discharges a certain amount of laser gas into the atmosphere when the laser is started. It is equipped with a valve for
作 用
本発明は上記した構成により、レーザ停止時に配管にリ
ークが発生し、配管内の残留ガス成分が変化しても、排
出用パルプを開くことによりレザ起動時に配管内の残留
ガスを一旦排出することによって起動時から正常な成分
のレーザガスをレーザガス循環系に供給でき、安定した
レーザ出力を得ることが可能となる。Effects The present invention has the above-described configuration, so that even if a leak occurs in the piping when the laser is stopped and the residual gas component in the piping changes, the residual gas in the piping can be discharged once when the laser is started by opening the discharge pulp. By doing so, laser gas with normal components can be supplied to the laser gas circulation system from the time of startup, and stable laser output can be obtained.
実施例
以下、本発明の一実施例について第１図および第２図を
参照しながら説明する。本発明のガスレザ発振装置の光
共振部およびレーザガス循環系については第３図に示し
た従来の装置と同様であるので説明を省略する。EXAMPLE Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2. The optical resonator and the laser gas circulation system of the gas laser oscillation device of the present invention are the same as those of the conventional device shown in FIG. 3, so their explanation will be omitted.
第１図は本発明の一実施例のガスレーザ発振装置のレー
ザガス供給系の配管系統図である。図において、２７は
排出用パルプであり、２８は排出用パルプ２７を開閉す
る時間を設定するタイマ（時限装置）である。そして上
記排出用パルプ２７は、レーザガスの供給源であるレー
ザガスボンベ１４とレーザガス発振装置のレーザガス循
環系との間のレーザガス供給用の配管系統中に設けられ
ている。またこの排出用パルプ２７はレーザ発振器の内
部に設けてもよい。その他の１ｏおよび１４〜２６は、
第４図のそれと同様であり説明を省略する。第２図にレ
ーザガス供給、排気ノシケンスを示す。図に示すように
、ガスレーザ発振装置を起動するとタイマ２８で設定さ
れた時間だけ排出用パルプ２７が開となシ、レーザガス
ボンベ１４から供給されたレーザガスが排出される。FIG. 1 is a piping system diagram of a laser gas supply system of a gas laser oscillation device according to an embodiment of the present invention. In the figure, 27 is a discharge pulp, and 28 is a timer (timer) that sets the time for opening and closing the discharge pulp 27. The discharge pulp 27 is provided in a laser gas supply piping system between the laser gas cylinder 14, which is a laser gas supply source, and the laser gas circulation system of the laser gas oscillation device. Moreover, this discharge pulp 27 may be provided inside the laser oscillator. Other 1o and 14-26 are
This is the same as that shown in FIG. 4, and the explanation will be omitted. Figure 2 shows the laser gas supply and exhaust sequence. As shown in the figure, when the gas laser oscillation device is started, the discharge pulp 27 is opened for the time set by the timer 28, and the laser gas supplied from the laser gas cylinder 14 is discharged.
タイマ２８にて設定されていた一定時間が経過すると、
排出用パルプ２７は閉となり、あとは従来例と同じであ
る。なお、タイマ２８の設定時間は、懇定される最も体
積の大きい配管内のガスを十分排出できる時間か、また
は実際の配管体積を算呂し、時間設定すれば実用上十分
である。When the fixed time set by the timer 28 has elapsed,
The discharge pulp 27 is closed, and the rest is the same as in the conventional example. Note that it is practically sufficient to set the time of the timer 28 to a time that can sufficiently exhaust the gas in the pipe with the largest volume, or to a time based on the actual volume of the pipe.
発明の効果
以上の実施例から明らかなように本発明によれば、ガス
レーザ発振装置停止時にレーザガスボンベからガスレー
ザ発振装置までの間の配管に小さなピンホールがあって
、レーザガスがリークしていた場合、レーザガスボンベ
の内部のガスが、例えばＣｏ２レーザ発振器の場合、一
般にはＨｅ。Effects of the Invention As is clear from the above embodiments, according to the present invention, if there is a small pinhole in the piping between the laser gas cylinder and the gas laser oscillation device and the laser gas leaks when the gas laser oscillation device is stopped, For example, in the case of a Co2 laser oscillator, the gas inside the laser gas cylinder is generally He.
Ｎ、Ｃｏ２ の混合ガスが使用されるが、ピンホ−ルの
大きさによってはＨｅのみが選択的に漏れ、配管の中の
ガス混合比が設定の混合比から変化する事態が発生した
り、大幅に漏れていた場合は空気が混入することがあっ
ても、ガスレーザ発振装置起動直前に配管内に残留して
いる所定混合比と異る混合比のレーザガスが排出用パル
プにより大気中へ排出されるので、レーザ出力が低下し
たり、ガスレーザ発振装置の破損に至るということのな
い優れたガスレーザ発振装置を提供することができる０A mixed gas of N and Co2 is used, but depending on the size of the pinhole, only He may leak selectively, causing the gas mixture ratio in the pipe to change from the set mixture ratio, or significantly Even if air may be mixed in if there is a leak, the laser gas with a mixture ratio different from the predetermined mixture ratio remaining in the piping immediately before the gas laser oscillator starts up will be discharged into the atmosphere by the exhaust pulp. Therefore, it is possible to provide an excellent gas laser oscillation device that does not cause a decrease in laser output or damage to the gas laser oscillation device.
第１図は本発明の一実施例のガスレーザ発振装置のレー
ザガス供給系の配管系統図、第２図は同配管系統の各パ
ルプの開閉シーケンス図、第３図は従来のガスレーザ発
振装置の概略断面図、第４図は同じ〈従来の配管系統図
、第５図は同じ〈従来の配管系統の各バルブの開閉シ
ケンス図であ
る。
２７・・・・・・排出用パルプ。Fig. 1 is a piping system diagram of a laser gas supply system of a gas laser oscillation device according to an embodiment of the present invention, Fig. 2 is an opening/closing sequence diagram of each pulp in the piping system, and Fig. 3 is a schematic cross-section of a conventional gas laser oscillation device. 4 are the same (conventional piping system diagram), and FIG. 5 is the same (the opening/closing sequence diagram of each valve in the conventional piping system). 27...Pulp for discharge.
Claims (2)
するガスレーザ発振装置であって、レーザ起動時にレー
ザガスを一定量大気中へ排出する排出用バルブを備えた
ガスレーザ発振装置。(1) A gas laser oscillation device that continuously or intermittently supplies laser gas from the outside and is equipped with an exhaust valve that discharges a certain amount of laser gas into the atmosphere when the laser is activated.
ブの開閉を制御するための時限装置を組み込んだ請求項
１記載のガスレーザ発振装置。(2) The gas laser oscillation device according to claim 1, further comprising a timer for controlling opening and closing of an exhaust valve that discharges a certain amount of laser gas into the atmosphere.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19536190A JPH0821744B2 (en) | 1990-07-23 | 1990-07-23 | Gas laser oscillator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0480979A true JPH0480979A (en) | 1992-03-13 |
| JPH0821744B2 JPH0821744B2 (en) | 1996-03-04 |
Family
ID=16339899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19536190A Expired - Lifetime JPH0821744B2 (en) | 1990-07-23 | 1990-07-23 | Gas laser oscillator |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0821744B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013171951A1 (en) | 2012-05-18 | 2013-11-21 | パナソニック株式会社 | Lasing device |
| DE102015119293A1 (en) | 2014-11-17 | 2016-05-19 | Fanuc Corporation | A gas laser apparatus capable of testing airtightness of a laser gas supply pipe |
| DE102016101072A1 (en) | 2015-01-29 | 2016-08-04 | Fanuc Corporation | GAS LASER DEVICE FOR DETERMINING THE COMPOSITION OF LASERGAS COMPOSITION |
-
1990
- 1990-07-23 JP JP19536190A patent/JPH0821744B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013171951A1 (en) | 2012-05-18 | 2013-11-21 | パナソニック株式会社 | Lasing device |
| US8897331B2 (en) | 2012-05-18 | 2014-11-25 | Panasonic Corporation | Lasing device |
| DE102015119293A1 (en) | 2014-11-17 | 2016-05-19 | Fanuc Corporation | A gas laser apparatus capable of testing airtightness of a laser gas supply pipe |
| JP2016096319A (en) * | 2014-11-17 | 2016-05-26 | ファナック株式会社 | Gas laser device including function of inspecting airtightness of laser gas supply pipe |
| DE102016101072A1 (en) | 2015-01-29 | 2016-08-04 | Fanuc Corporation | GAS LASER DEVICE FOR DETERMINING THE COMPOSITION OF LASERGAS COMPOSITION |
| US9653876B2 (en) | 2015-01-29 | 2017-05-16 | Fanuc Corporation | Gas laser apparatus for determining composition ratio of laser gas |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0821744B2 (en) | 1996-03-04 |
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