JPH0278284A - Microwave laser device - Google Patents

Microwave laser device

Info

Publication number
JPH0278284A
JPH0278284A JP22840288A JP22840288A JPH0278284A JP H0278284 A JPH0278284 A JP H0278284A JP 22840288 A JP22840288 A JP 22840288A JP 22840288 A JP22840288 A JP 22840288A JP H0278284 A JPH0278284 A JP H0278284A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
discharge
gas
microwave
laser
section
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22840288A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideomi Takahashi
秀臣 高橋
Kiyohisa Terai
清寿 寺井
Akira Ishii
彰 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP22840288A priority Critical patent/JPH0278284A/en
Publication of JPH0278284A publication Critical patent/JPH0278284A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0975Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enable a laser device of this design to start operating at a normal gas pressure by a method wherein a control section is provided to a microwave energy supply system in order to control a discharge starting procedure corresponding to the discharge operation from the time just before the start of discharge to the resting time. CONSTITUTION:Another laser gas is supplied from a gas supply system 22 to a discharge tube 21 at a constant speed, and gas of the same volume as supplied is extracted from the discharge tube 21, and the composition of gas is kept constant. The laser gas is circulated by a blower 23 and cooled down by a heat exchanger 24. And, microwave energy is supplied from a microwave oscillator 25 to the discharge tube 21, and a control section 27 is connected to the supply system. At the start of the discharge, the control section 27 controls an operational procedure from the change of a discharge section 28a from the time directly before the start of discharge to the resting time. By this setup, the oscillator 25 is made to start operating effectively, the start of discharge is made possible at a normal gas pressure, and a constant glow discharge takes place.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、マイクロ波放電励起を行うマイクロ波レーザ
装置に関するもので、特にその運転制御方法に改良を施
したものである。
[Detailed Description of the Invention] [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a microwave laser device that performs microwave discharge excitation, and in particular improves its operation control method. .

〈従来の技術) 一般に、レーザ発振を得るためには、レーザ媒質中で空
間的に均一な放電の生成を必要とするが、特にマイクロ
波を放電励起に用いる場合、このことは非常に重要とな
る。即ち、マイクロ波を通常のレーザ発振で用いられる
圧力(20〜200Torr)で用いると、放電維持電
圧、即ち、定常運転電圧に比べ、放電開始電圧が遥かに
高いため、放電を発生させるに充分な強度のマイクロ波
が放電部に入射すると、入口付近に放電が集中的に生じ
る。そのため、この部分に高密度のプラズマが形成され
、インピーダンスが極端に低下する。その結果、入射マ
イクロ波は放電部に入った途端にほとんど100%が反
射されてしまい、放電室間に有効に電気入力が供給され
ないことになる。
<Prior art> Generally, in order to obtain laser oscillation, it is necessary to generate a spatially uniform discharge in the laser medium, but this is especially important when microwaves are used for discharge excitation. Become. That is, when microwaves are used at the pressure used in normal laser oscillation (20 to 200 Torr), the discharge starting voltage is much higher than the discharge sustaining voltage, that is, the steady-state operating voltage, so it is not enough to generate a discharge. When high-intensity microwaves enter the discharge section, discharge occurs intensively near the entrance. Therefore, high-density plasma is formed in this portion, and the impedance is extremely reduced. As a result, almost 100% of the incident microwave is reflected as soon as it enters the discharge section, and no electrical input is effectively supplied between the discharge chambers.

この様な問題点を解決するために、Apli。In order to solve these problems, we have developed Appli.

Phys、Lett、、37 (8)、l1573(1
980)に、第6図に示した様なマイクロ波レーザ装置
が提案されている。即ら、第6図において、レーザガス
1は放電部の上部人口2より高圧で供給され、誘電体か
ら構成されたノズル3を通過すると共に高速となり、ガ
ス圧力が低下する。
Phys, Lett, 37 (8), l1573 (1
980) proposed a microwave laser device as shown in FIG. That is, in FIG. 6, the laser gas 1 is supplied at high pressure from the upper part 2 of the discharge section, and as it passes through the nozzle 3 made of a dielectric material, the speed increases and the gas pressure decreases.

一方、放電励起に用いられるマイクロ波は、図中左方よ
り導波管5によって供給され、マイクロ波を透過する圧
力隔壁6を通してレーザ放電部11に供給される。
On the other hand, microwaves used for discharge excitation are supplied from the left side in the figure by a waveguide 5, and are supplied to the laser discharge section 11 through a pressure partition 6 that transmits microwaves.

ここで、レーザ放電部11の空間の内、ノズル3の前方
の空間7は高圧力でおるため、空間7においては放電は
発生しない。一方、ノズル3の後方の空間8においては
ガス圧力が低下するので、この部分にマイクロ波放電が
発生する。この部分での放電は低ガス圧中での放電であ
るため一様となり、レーザ放電部11の下流側に配設さ
れた光共振器9により、マイクロ波で励起されたレーザ
ガス中を通るレーザ光が増幅発振される。また、排出ガ
ス10は真空ポンプによって、図中右方へ排出されてい
る。
Here, in the space of the laser discharge section 11, the space 7 in front of the nozzle 3 is under high pressure, so no discharge occurs in the space 7. On the other hand, since the gas pressure decreases in the space 8 behind the nozzle 3, microwave discharge occurs in this area. The discharge in this part is uniform because it is a discharge in a low gas pressure, and the laser beam passes through the laser gas excited by microwaves by the optical resonator 9 disposed downstream of the laser discharge section 11. is amplified and oscillated. Further, the exhaust gas 10 is discharged to the right in the figure by a vacuum pump.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記の様な構成を有する従来のマイクロ
波レーザ装置においては、以下に述べる様な解決すべき
課題があった。
(Problems to be Solved by the Invention) However, in the conventional microwave laser device having the above configuration, there were problems to be solved as described below.

即ち、高圧で供給されたレーザガス1を、ノズル3を通
して断熱膨張させ、そのガス圧力を低下ざぜるため、レ
ーザガスの全量を排気するための真空ポンプが必要とな
る。また、真空ポンプの排気動力が多大となり、装置の
大型化を1Gぎ、全体としてのレーザ発(辰効率が極端
に低下してじまうという欠点があった。
That is, since the laser gas 1 supplied at high pressure is adiabatically expanded through the nozzle 3 and the gas pressure is lowered, a vacuum pump is required to exhaust the entire amount of the laser gas. In addition, the exhaust power of the vacuum pump becomes large, increasing the size of the device by more than 1G, and the laser emission efficiency as a whole is extremely reduced.

また、ノズル3の下流側のガス圧力、即ち、放電部のガ
ス圧力が低くなるので、電力密度を大きくとることがで
きず、レーザ出力も大きくとれないという欠点もあった
。そこで、通常のレーザと同じ運転条件で作動し得るマ
イクロ波レーザ装置の開発が切望されていた。
Furthermore, since the gas pressure on the downstream side of the nozzle 3, that is, the gas pressure in the discharge section, becomes low, there is also a drawback that it is not possible to obtain a large power density and a large laser output. Therefore, there has been a strong desire to develop a microwave laser device that can operate under the same operating conditions as a normal laser.

本発明は以上の欠点を解消するために提案されたもので
、その目的は、通常のガス圧力(20〜200Torr
)及び定常運転電圧で起動が可能で、−様なグロー放電
が得られるマイクロ波レーザ装置を提供することにある
The present invention was proposed to eliminate the above-mentioned drawbacks, and its purpose is to
) It is an object of the present invention to provide a microwave laser device which can be started at a steady operating voltage and which can produce a --like glow discharge.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 請求項1の発明は、真空容器内にレーザ媒質ガスを低ガ
ス圧で封入し、このガスを放電部に循環させ、前記放電
部の外部に配設されたマイクロ波発娠器よりマイクロ波
を供給して前記レーザ媒質ガスを励起するマイクロ波レ
ーザ装置において、放電開始に当たり、その直前の放電
からの休止時間に応じて放電の起動手順を制御すること
のできる制御部を設けたことを特徴とするものである。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The invention of claim 1 is characterized in that a laser medium gas is sealed in a vacuum container at a low gas pressure, this gas is circulated to a discharge part, and the outside of the discharge part is In a microwave laser device that excites the laser medium gas by supplying microwaves from a microwave generator disposed in It is characterized by being provided with a control section that can control the device.

また、請求項2の発明は、放電部内面に蓄積された電荷
を゛測定することにより、放電の起動手順を制御するこ
とのできる制御部を設りたことを特徴とするものである
Further, the invention according to claim 2 is characterized in that a control section is provided which can control the discharge starting procedure by measuring the charge accumulated on the inner surface of the discharge section.

(作用) 本発明のマイクロ波レーザ装置によれば、放電部内面の
電荷の変化に基づいて運転を制御するので、マイクロ波
が放電部に供給される場合に、マイクロ波放電を常に放
電維持電圧で起動することができ、また、マイクロ波エ
ネルギーがその入口付近に集中することを防止できる。
(Function) According to the microwave laser device of the present invention, since the operation is controlled based on the change in the charge on the inner surface of the discharge section, when microwaves are supplied to the discharge section, the microwave discharge is always maintained at the discharge maintenance voltage. It can be activated at

また、マイクロ波の浸透が均一なものとなるので、マイ
クロ波エネルギーが放電部で有効に利用され、レーザガ
スの最適励起が可能となる。
Further, since the penetration of the microwave becomes uniform, the microwave energy is effectively used in the discharge section, and the laser gas can be optimally excited.

(実施例) 以下、本発明の一実施例を第1図乃至第5図に基づいて
具体的に説明する。
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be specifically described based on FIGS. 1 to 5.

■第1実施例 本実施例においては、第1図に示した様に、ガラス管等
で構成された放電管21には、ガス供給系22より一定
速度で新しいレーザガスが補給され、同量のガスが放電
管21より引き汰かれ、レーザガスの組成が常に一定値
に保たれている。このレーザカスは送風機23により循
環駆動され、放電管21を出たレーザガスは熱交換器2
4で冷却され、第1図に示した矢印の方向に循環駆動さ
れている。
■First Example In this example, as shown in FIG. 1, a discharge tube 21 made of a glass tube or the like is replenished with new laser gas at a constant rate from a gas supply system 22, and the same amount of laser gas is Gas is drawn out from the discharge tube 21, and the composition of the laser gas is always kept at a constant value. This laser scum is circulated and driven by a blower 23, and the laser gas exiting the discharge tube 21 is transferred to a heat exchanger 2.
4, and is circulated in the direction of the arrow shown in FIG.

また、前記放電管21には、導波管26を介してマイク
ロ波光(辰器25よりマイクロ波エネルギーが供給され
ている。ざらに、これらの系には制御部27か接続され
、前記マイクロ波発振器25が効果的に起動できるよう
に制御している。また、放電管21の近傍には予備電離
部2Bが設けられている。この予備電離部28は、先端
放電部28aと高電圧電源部28bとから構成され、前
記制御部27の指令によって放電管21を効果的に予備
電離するように構成されている。ざらに、放電管21の
両端には、ブリュースタ窓29a、29bか設けられ、
その外側には出力ミラー30a、全反射ミラー30bが
設けられ、一対の光共振器を構成している。なあ、図中
31は出力レーザ光である。
Further, the discharge tube 21 is supplied with microwave light (microwave energy from a radiator 25) via a waveguide 26.A control unit 27 is also connected to these systems, and the microwave energy is supplied to the discharge tube 21 via a waveguide 26. The oscillator 25 is controlled so that it can be started effectively. Also, a pre-ionization section 2B is provided near the discharge tube 21. This pre-ionization section 28 is connected to a tip discharge section 28a and a high voltage power supply section. 28b, and is configured to effectively pre-ionize the discharge tube 21 according to a command from the control section 27.Roughly speaking, Brewster windows 29a and 29b are provided at both ends of the discharge tube 21. ,
On the outside thereof, an output mirror 30a and a total reflection mirror 30b are provided, forming a pair of optical resonators. Note that 31 in the figure is an output laser beam.

この様な構成を有する本実施例のマイクロ波し一ザ装置
においては、以下に述べるようにして運転が制御される
。なお、本発明者等はマイクロ波放電にd5いては、放
電開始電圧か放電の休止期間に応じて大ぎく変化するこ
とを見出している。この点を第2図に基づいて説明する
。即ち、石英放電管の場合、放電の休止時間が1分程度
の場合(領域■と称す)には、放電開始電圧は放電維持
電圧Aに等しい。また、放電の休止時間が1分を越える
と、放電開始電圧は不安定な遷移領域となる(領域■と
称す)。ざらに休止時間が10分を越えると通常の放電
開始電圧Bとなる(領域■と称す)。これは放電管内面
に蓄積する電荷の多少によるものである。つまり、放電
管内面の電荷は第2図中破線で示した様に、6〜7分の
時定数で減衰する。その結果、放電管内面の電界分布が
変化し、放電の休止時間によって放電開始電圧が前述し
た様に変化すると考えられる。
In the microwave evaporator device of this embodiment having such a configuration, the operation is controlled as described below. The present inventors have discovered that in microwave discharge, d5 varies greatly depending on the discharge start voltage or the discharge pause period. This point will be explained based on FIG. That is, in the case of a quartz discharge tube, when the discharge pause time is about 1 minute (referred to as region 2), the discharge starting voltage is equal to the discharge sustaining voltage A. Further, when the discharge pause time exceeds 1 minute, the discharge start voltage becomes an unstable transition region (referred to as region ①). Roughly speaking, if the pause time exceeds 10 minutes, the normal discharge starting voltage B will be reached (referred to as region 3). This is due to the amount of charge accumulated on the inner surface of the discharge tube. In other words, the charge on the inner surface of the discharge tube decays with a time constant of 6 to 7 minutes, as shown by the broken line in FIG. As a result, the electric field distribution on the inner surface of the discharge tube changes, and it is thought that the discharge starting voltage changes as described above depending on the discharge pause time.

従って、石英放電管においては、放電停止後1分以内で
立上げる場合、第2図中の領域工となるので、直ちに放
電維持電圧Aで立上げることができる。また、放電体止
時間が10分以上の場合には、放電を開始するためには
、そのガスの絶縁破壊電界強度Bが必要となる。
Therefore, in a quartz discharge tube, if the discharge tube is started up within one minute after the discharge is stopped, it will be in the area shown in FIG. 2, so it can be started up at the discharge sustaining voltage A immediately. Further, when the discharge body dwell time is 10 minutes or more, the dielectric breakdown electric field strength B of the gas is required to start the discharge.

また、本発明者等は、第2図中の遷移領域■の内、休止
時間が1〜5分以内の領域fl−aにおいては、放電管
の外部より高電圧パルス(通常、インダクション・コイ
ルによる高電圧パルスを用いる)を印加することにより
予備電離させ、領域工に相当する状態に移行させること
ができることを見出した。ざらに、放電の休止時間が1
0分以上となる場合には、放電開始電界強度が放電維持
電界強度の数倍となるので、このまま放電させることは
不可能であり、仮に放電させたとしてもマイクロ波電界
が定常放電には強すぎるため、マイクロ波が放電部に入
射した場合、入射点に強力なプラズマが形成され、入射
マイクロ波が完全に反射されてしまう。従って、休止時
間が10分以上の場合には、ガス圧力を低下させ放電さ
せて、第2図の領域工の状態に移行させてから放電維持
電圧で放電を開始することができるようにすることが望
ましいと考えられる。
In addition, the present inventors have discovered that in the transition region (2) in FIG. It has been found that by applying a high voltage pulse (using high voltage pulses), it is possible to pre-ionize and transition to a state corresponding to area processing. Roughly speaking, the discharge pause time is 1
If it is longer than 0 minutes, the electric field strength for starting discharge will be several times the electric field strength for sustaining discharge, so it is impossible to continue discharging, and even if discharge is possible, the microwave electric field will be too strong for steady discharge. Therefore, when microwaves are incident on the discharge part, a strong plasma is formed at the point of incidence, and the incident microwaves are completely reflected. Therefore, if the pause time is 10 minutes or more, the gas pressure should be lowered to cause the discharge to shift to the area working state shown in Figure 2, and then the discharge can be started at the discharge maintenance voltage. is considered desirable.

そこで、本実施例においては、制御部27が上述した様
な放電の休止時間に基づいて運転制御を行えるように構
成されている。即ち、第3図に示した様に、時刻tQで
レーザ発系装置の起動指令が来ると、直ちに制御部27
に外部指令32として入力され、ガス供給系22が起動
され、放電管2]を含む真空容器内が排気され、一定時
間T1の間、高真空に維持される。次にレーザガスが注
入され、定格ガス圧力の半分程度、例えば20Torr
にガス詰めがなされ維持される。ここで図中破線で示し
た様にマイクロ波光(辰器25が駆動されて導波管26
を介してマイクロ波電力が放電管21に供給され、放電
が開始する。マイクロ波放電は安定放電であるから、直
ちにガス圧力が定格値、例えば40Torrまで上昇さ
れ、時刻t1で定格運転に入る。そして、時刻で2でレ
ーず発振停止信号が来ると、直ちに発振が停止する。
Therefore, in this embodiment, the control section 27 is configured to perform operational control based on the above-mentioned discharge pause time. That is, as shown in FIG. 3, when a command to start the laser system is received at time tQ, the control section 27 is immediately activated.
is inputted as an external command 32, the gas supply system 22 is activated, the vacuum vessel including the discharge tube 2 is evacuated, and maintained at a high vacuum for a certain period of time T1. Next, the laser gas is injected, and the pressure is about half of the rated gas pressure, for example 20 Torr.
Gas is filled and maintained. Here, as shown by the broken line in the figure, the microwave light (the cylindrical device 25 is driven and the waveguide 26
Microwave power is supplied to the discharge tube 21 via the discharge tube 21, and discharge starts. Since the microwave discharge is a stable discharge, the gas pressure is immediately increased to the rated value, for example 40 Torr, and the rated operation begins at time t1. Then, when a laser oscillation stop signal arrives at time 2, oscillation immediately stops.

また、時刻t3で外部より起動指令が来ると制御部27
は停止時間T2=t3−11zを測定し、この値が第1
の規定値、例えば石英放電管で1分以内で市れば直らに
マイクロ波発(辰器25が駆動されて、マイクロ波電力
か放電部に供給されレーザ発(辰が行われる。そして、
旧び、時刻t4で停止指令が来ると、レー蚤ア発振は直
ちに停止する。また、時刻t5で外部より起動指令が来
ると制御部27は停止時間T3 =t5−t4を測定し
、この値が第2の規定値、例えば石英放電管で1分以上
5分以内でおれば、予備放電装置2Bを時刻t5からt
6まで駆動させて放電管21を予備電離させる。そして
、制御部27は、時刻t6で予備放電装置28を停止さ
せ、マイクロ波発振器25を作動させて定常運転に入る
。ざらに、詩句1し7て停止指令か来るとマイクロ波発
振は直ちに停止する。また、時刻18で4部より起動指
令か来ると制御部27は停止時間T−4=tB−tyを
測定し、この値が第3の規定値、例えば石英放電管で5
分以上である場合は、カス圧力を最初の起動時の圧力、
例えば20Tor rに低下させて起動し、時刻t9で
定常運転に入る。
Furthermore, when a start command is received from the outside at time t3, the control unit 27
measures the stop time T2=t3-11z, and this value is the first
If the specified value of is reached, for example within 1 minute using a quartz discharge tube, the microwave generator 25 is driven and microwave power is supplied to the discharge section to perform laser emission.
When a stop command is received at time t4, the laser oscillation immediately stops. Further, when a start command is received from the outside at time t5, the control unit 27 measures the stop time T3 = t5 - t4, and if this value is a second specified value, for example, for a quartz discharge tube, it is between 1 minute and 5 minutes. , the preliminary discharge device 2B is operated from time t5 to t
6 to pre-ionize the discharge tube 21. Then, the control unit 27 stops the preliminary discharge device 28 at time t6, activates the microwave oscillator 25, and enters steady operation. In general, when a command to stop is received in poems 1 and 7, the microwave oscillation immediately stops. Further, when a start command is received from the fourth section at time 18, the control section 27 measures the stop time T-4=tB-ty, and this value is set to the third specified value, for example, 5 for a quartz discharge tube.
If it is more than 1 minute, change the waste pressure to the pressure at the first start-up,
For example, it is started by lowering the pressure to 20 Torr and enters steady operation at time t9.

この様に、本実施例によれば、放電開始に当たり、その
直前の放電からの休止時間に基づいて、放電の起動手順
を制御することにより、マイクロ波放電を自動的に、ま
た、放電維持電界で行うことができるので、常に−様な
グロー放電を冑ることができる。
In this way, according to this embodiment, when starting a discharge, the discharge starting procedure is controlled based on the pause time from the previous discharge, so that the microwave discharge is automatically started and the discharge sustaining electric field is controlled. Since it can be carried out in a vacuum, negative glow discharge can always be avoided.

■第2実施例 本実施例においては、第4図(A)に示した様に、放電
管21の内面電荷を測定するためのセンサ40が放電管
21の側面に配設され、このセンサ40から放電管21
の内面に蓄積する電荷に応じて電圧出力か制御部41へ
送られるように構成されている。また、前記センサ40
は、第4図(B)の等価回路に示した様に構成されてい
る。
■Second Embodiment In this embodiment, as shown in FIG. From discharge tube 21
It is configured such that a voltage output is sent to the control section 41 depending on the charge accumulated on the inner surface. Further, the sensor 40
is constructed as shown in the equivalent circuit of FIG. 4(B).

この様な構成を有する本実施例のマイクロ波レーザ装置
においては、以下に述べるようにして運転が制御される
。即ち、制御部41においては、センサ40から送られ
る第5図に示した様な電圧出力に基づいて、次に示した
ように起動指令を送出する。
In the microwave laser device of this embodiment having such a configuration, the operation is controlled as described below. That is, in the control section 41, based on the voltage output as shown in FIG. 5 sent from the sensor 40, a starting command is sent out as shown below.

1)V>−V+の場合;放電宣21内の圧力を下げてか
らマイクロ波発振器25を作動させ、次に圧力を上昇さ
せて定格運転に入る。
1) In the case of V>-V+; the microwave oscillator 25 is activated after lowering the pressure inside the discharge lamp 21, and then the pressure is increased to enter rated operation.

2)−V+≧■≧−V2の場合:予備放電装置28を作
動させて、放電管21を予備放電させることにより、放
電管21内の電荷分布を最適化してからマイクロ波発振
器25を起動し定格運転に入る。
2) In the case of -V+≧■≧-V2: The pre-discharge device 28 is activated to pre-discharge the discharge tube 21, thereby optimizing the charge distribution within the discharge tube 21, and then starting the microwave oscillator 25. Enter rated operation.

3)V<−V2の場合;マイクロ波発振器25を直ちに
作動させ、導波管26を介してマイクロ波電力をレーザ
放電管21に供給し、定常マイクロ波放電を発生させて
定格運転に入る。
3) In the case of V<-V2; the microwave oscillator 25 is immediately activated, microwave power is supplied to the laser discharge tube 21 via the waveguide 26, a steady microwave discharge is generated, and rated operation is started.

この様に、本実施例によれば、放電管内面の電荷を随時
センサにより測定し、その値に基づいて放電の起動手順
を制御することにより、第1実施例と同様にマイクロ波
放電を自動的に、また、放電維持電界で行うことができ
るので、常に−様なグロー放電を得ることができる。ま
た、本実施例においては、第1実施例の様に、内面電荷
の減衰時定数を把握しておく必要がないのでより効率的
である。
In this way, according to the present embodiment, the electric charge on the inner surface of the discharge tube is measured by the sensor at any time, and the discharge starting procedure is controlled based on the measured value, thereby automatically starting the microwave discharge as in the first embodiment. Moreover, since it can be carried out using a discharge sustaining electric field, a -like glow discharge can always be obtained. Furthermore, unlike the first embodiment, this embodiment is more efficient because it is not necessary to know the decay time constant of the internal charge.

[発明の効果] 以上述べた様に、本発明によれば、放電の起動手順を制
御することのできる制御部を設けるという簡単な手段に
よって、通常のガス圧力及び定常運転電圧で起動が可能
で、−様なグロー放電が1胃られるマイクロ波レーザ装
置を提供することができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, startup is possible with normal gas pressure and steady operating voltage by the simple means of providing a control unit that can control the discharge startup procedure. It is possible to provide a microwave laser device that can generate glow discharges such as , -.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明のマイクロ波レーザ装置の第1実施例を
示す構成図、第2図は放電管内面の電荷の減衰図及び放
電開始電圧の変化を示す実測例、第3図は本発明の第1
実施例の運転操作状況を示す図、第4図は本発明の第2
実施例の要部を示す構成図、第5図は第2実施例の動作
を示す図、第6図は従来例の主要部を示す断面図である
。 1・・・レーザガス、2・・・上部入口、3・・・ノズ
ル、5・・・導波管、6・・・圧力隔壁、9・・・光共
撮器、10・・・排出ガス、11・・・レーザ放電部、
21・・・放電管、22・・・ガス供給系、23・・・
送風機、24・・・熱交換器、25・・・マイクロ波発
振器、26・・・導波管、27・・・制御部、28・・
・予備電離部、29a、29b・・・ブリュースタ窓、
30a・・・出力ミラー、30b・・・全反射ミラー、
31・・・出力レーザ“光、32・・・外部指令、40
・・・センサ、41・・・制御部。
Fig. 1 is a configuration diagram showing a first embodiment of the microwave laser device of the present invention, Fig. 2 is an actual measurement example showing a charge attenuation diagram on the inner surface of the discharge tube and a change in discharge starting voltage, and Fig. 3 is a diagram showing the present invention. the first of
FIG. 4, which is a diagram showing the driving operation situation of the embodiment, is the second embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a diagram showing the operation of the second embodiment, and FIG. 6 is a sectional view showing the main parts of the conventional example. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Laser gas, 2... Upper inlet, 3... Nozzle, 5... Waveguide, 6... Pressure bulkhead, 9... Optical camera camera, 10... Exhaust gas, 11... Laser discharge section,
21...Discharge tube, 22...Gas supply system, 23...
Blower, 24... Heat exchanger, 25... Microwave oscillator, 26... Waveguide, 27... Control unit, 28...
・Preliminary ionization section, 29a, 29b...Brewster window,
30a...output mirror, 30b...total reflection mirror,
31... Output laser "light," 32... External command, 40
...Sensor, 41...Control unit.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)真空容器内にレーザ媒質ガスを低ガス圧で封入し
、このガスを放電部に循環させ、前記放電部の外部に配
設されたマイクロ波発振器よりマイクロ波を供給して前
記レーザ媒質ガスを励起するマイクロ波レーザ装置にお
いて、 放電開始に当たり、その直前の放電からの休止時間に応
じて放電の起動手順を制御することのできる制御部を設
けたことを特徴とするマイクロ波レーザ装置。
(1) A laser medium gas is sealed in a vacuum container at low gas pressure, this gas is circulated to a discharge section, and a microwave is supplied from a microwave oscillator disposed outside the discharge section to generate the laser medium. A microwave laser device for exciting gas, characterized in that the microwave laser device is provided with a control unit capable of controlling a discharge start-up procedure according to a pause time from a previous discharge when starting the discharge.
(2)真空容器内にレーザ媒質ガスを低ガス圧で封入し
、このガスを放電部に循環させ、前記放電部の外部に配
設されたマイクロ波発振器よりマイクロ波を供給して前
記レーザ媒質ガスを励起するマイクロ波レーザ装置にお
いて、 放電部内面に蓄積された電荷を測定することにより、放
電の起動手順を制御することのできる制御部を設けたこ
とを特徴とするマイクロ波レーザ装置。
(2) A laser medium gas is sealed in a vacuum container at low gas pressure, this gas is circulated to a discharge section, and a microwave is supplied from a microwave oscillator disposed outside the discharge section to generate the laser medium. What is claimed is: 1. A microwave laser device for exciting gas, comprising: a control section that can control a discharge starting procedure by measuring the charge accumulated on the inner surface of the discharge section.
JP22840288A 1988-09-14 1988-09-14 Microwave laser device Pending JPH0278284A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22840288A JPH0278284A (en) 1988-09-14 1988-09-14 Microwave laser device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22840288A JPH0278284A (en) 1988-09-14 1988-09-14 Microwave laser device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0278284A true JPH0278284A (en) 1990-03-19

Family

ID=16875904

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22840288A Pending JPH0278284A (en) 1988-09-14 1988-09-14 Microwave laser device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0278284A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6562464B2 (en) Passive Q-switched laser device
US8391329B2 (en) Gas laser discharge pre-ionization using a simmer-discharge
JPH0278284A (en) Microwave laser device
US6061379A (en) Pulsed x-ray laser amplifier
Lukac Output energy characteristics of optimally pumped rotating mirror Q-switch lasers
US4905248A (en) Metal vapor laser apparatus
JPH08191168A (en) Q switch laser device
JP3014593B2 (en) Pulse laser oscillation device
JPH06151077A (en) Microwave discharge light source device
JPH01262681A (en) Microwave laser apparatus
JPS61228690A (en) Supersonic excimer laser device
Peters et al. Long-pulse ArF and F2 excimer lasers
JPH08335741A (en) Laser output control method
JPH02129979A (en) Microwave laser device
JPH03235386A (en) Microwave laser
US4485482A (en) Apparatus for generating a laser pulse
JPH01262682A (en) Microwave laser apparatus
JP2003086872A (en) Low-voltage axial direction exciting method f2 laser device
Sakai et al. A high-power Q-switched CO2 laser using intense pulsed RF discharge excitation
McClung Jr et al. Operation of a Transverse Mode‐Controlled Hydrogen Stokes Laser Oscillator
JP2693004B2 (en) Gas laser oscillation device
JP3165730B2 (en) Metal vapor laser device
JPH05206552A (en) Gas laser device
JPH0276276A (en) Microwave laser device
Feenstra et al. A long pulse discharge excited ArF laser