JPH04501575A - フルオロベンゼン誘導体および液晶相 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 フルオロベンゼン誘導体および液晶相 本発明は、下記の式Ｉで示される新規なフルオロベンゼン誘導体に関するもので ある： 〔式中、Ｒは■］であり、あるいはＲは、炭素原子１〜１５個を有するアルキル 基またはアルケニル基であり、この基は非置換であるか、あるいは置換基として １個のＣＮまたはＣＦ、を有するか、あるいは置換基として少な（とも１個のハ ロゲンを有しており、これらの基中に存在する１個または２個以上のＣＨ２基は 場合により、また、それぞれ相互に独立して、Ｏ原子が相互に直接に結合しない ものとして、−〇−１−ｓ−１−）−１−ｃｏ−１−ｃｏ−ｏ−１−ｏ−ｃｏ− または−ｏ−ｃｏ−ｏ−により置き換えられていてもよく、＾１および＾２は、 それぞれ相互に独立して、（ａ）トランス−１，４−シクロヘキシレン基（この 基中に存在する１個のＣＬ基または隣接していない２個以上のＣＨ２基はまた、 −〇−および（または＞　−Ｓ−により置き換えられていてもよい）、 （ｂ）　１．４−フェニレン基（この基中に存在する１個または２個のＣＨ基は また、Ｎにより置き換えられていてもよい）、 （ｃ）　１．４−シクロヘキセニレン、１．４−ビシクｏ　Ｉ：２．２．２：１ オクチレン、ピペリジン−１，４−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、デカ ヒドロナフタレン−２，６−ジイルおよび１．２．３．４−テトラヒドロナフタ レン−２，６−ジイルからなる群からの基、 であり、上記の基（ａ）および基（ｂ）は、場合により、ＣＮまたはフッ素によ り置換されていてもよく、ＺｌおよびＺ２は、それぞれ相互に独立して、−ＣＯ −Ｏ−１−Ｏ−ＣＯ−１−ＣＨ２０−１−ｏｃｎ２−１−（４，ＣＨ，−１−Ｃ Ｈ＝ＣＨ−１−ＣｉＣ−または単結合であり、あるいは基Ｚｌおよび基Ｚ２のう ちの一つはまた、−（ＣＨｚ）シまたは−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ，ＣＦ！２−テある こともでき、 Ｌは、ＨまたはＦであり、 ｍは、０．１または２であり、 Ｙは、ＦまたはＣＩであり、そして Ｑは、単結合、−ＣＦ、−１−０ＣＦ２−または−〇Ｃ■Ｆ−である、ただし、 Ｑが単結合である場合には、Ｌｌ；！Ｆである〕。

本発明はさらにまた、液晶相の成分りして、これらの化合物を使用することに関 するものであり、さらにまた、本発明は本発明に係る液晶相を含有する液晶表示 素子および電気光学表示素子に関するものである。

式Ｉで示される化合物は、液晶相の成分として、特にねじれセルの原則、ゲスト −ホスト効果、整列相の変形の効果、あるいは動的散乱の効果にもとづく表示体 用の液晶相の成分として、使用することができる。

本発明の目的は、液晶相の成分として適しており、特に比較的小さい粘度および 比較的大きい誘電異方性を、同時に有する、新規で安定な液晶化合物もしくはメ ソーゲン性化合物を見い出すことにある。

ここに、式■で示される化合物は、液晶相の成分として、格別に適することが見 い出された。特に、これらの化合物は、比較的小さい粘度を有する。これらの化 合物を使用することによって、広いメソフェース範囲を有し、かつまた有利な光 学異方性値および誘電異方性値を有する、安定な液晶相を得ることができる。こ れらの相はさらにまた、非常に良好な低温挙動を有する。

次式で示される液晶は、ＤＥ　３．２０９．１７８にすでに記載さＪＰ　６２／ １．０３．０５７には、下記の式で示される化合物が記載されている： さらにまた、ＪＰ　６３／２１６．８５８には、次式で示される化合物が記載さ れている： 西ドイツ国特許出願公開公報３．０４２．３９１および同３、１３９．１３０に は、下記の式で示される化合物が記載され液晶物性を有し、そして末端結合して いるＣＦ３基を有する、種々の化合物はすでに知られている（米国特許４、３３ ０．４２６、米国特許４，６８４，４７６、Ｊ、Ｃ，Ｉ、ｉａｎｇおよびＳ。

ＫｕｍａｒによるＭｏｌ、　Ｃｒｙｓｔ、Ｌｉｑ、　Ｃｒｙｓｔ、１９８７．　 １４２巻、７７〜８４頁）。しかしながら、これらの化合物は、多くの場合には 、強力なスメクティック形成性特性を有し、かなりの実際の用途にはあまり適当 ではない。

しかしながら、大きい△εを有する、これらの化合物の広範な用途から、特定の 用途に対して、正確に仕立てられた物性を有する、さらに別種の化合物を人手で きることが望まれていた。

さらにまた、式Ｉで示される化合物を提供することによって、種々の工業的適用 の観点から、液晶混合物の調製に適している液晶物質の範囲が、非常に一般的に 、相当に拡大される。

式Ｉで示される化合物は、広い用途範囲を有する。置換基を選択することによっ て、これらの化合物は、液晶相の大部分を構成する基材として使用することがで きる。

しかしながら、式■で示される化合物はまた、他の種類の化合物からの液晶基材 に加えて、このような誘電体の誘電異方性および（または）光学異方性に影響を 与えることができ、そして（あるいは）そのしきい電圧および（または）その粘 度を最適にすることができる。

式Ｉで示される化合物は、純粋な状態で無色であり、電気光学用途に対して好ま しい温度範囲で、液晶メソフＬ−スを形成する。これらの化合物は、化学物質、 熱および光に対して非常に良好な安定性を有する。

従って、本発明は、式■で示される化合物およびこれらの化合物を液晶相の成分 として使用することに関するものである。本発明はさらにまた、式Ｉで示される 化合物の中の少なくとも１種を含有する液晶相およびこのような相を含有する液 晶表示素子、特に電気光学表示素子に関するものである。

簡潔にするために、以下の記載において、Ａ３は式ン基であり、Ｃｈｅは１．４ −シクロへキセニル基であり、Ｄｉｏは１．３−ジオキサン−２，５−ジイル基 であり、Ｄｉｔは１．３−ジチアン−２，５−ジイル基であり、Ｐｈｅは１．４ ７ｚニレン基であり、Ｐｙｄはピリジン−２，５−ジイル基であり、Ｐｙｒはピ リミジン−２，５−ジイル基であり、そしてＢｉはビシクロ（２，２，２）　− オクチレン基であり、Ｃｙｃおよび（または）　Ｐｈｅは、非置換であるか、あ るいは置換基として、１個または２個のＦまたはＣＮを有していてもよい。Ｌは 、好ましくはＦである。Ｙは、好ましくはＦである。

Ａ１およびＡ２は、好ましくはＣｙｃＳＣｈｅ、　ＰｈｅＳＰｙｒ、　Ｐｙｄお よびＤｉｏよりなる群から選ばれ、好ましくは分子中に存在する基＾１および基 Ａ２のうちの一つだけがＣｈｅ、　Ｐｈｅ。

Ｐｙｒ、　ＰｙｄまたはＤｉｏである。

従って、式■で示される化合物は、下記の付属式ＩａおよびＩｂで示される２個 の環を有する化合物：Ｒ−Ａ”−Ａ’−Ｑ−Ｙ　Ｉ　ａ Ｒ−＾ｚ　２２−＾”−Ｑ−ＹＩｂ 下記の付属式Ｉｃ−Ｉｆで示される、３個の環を有する化合物： Ｒ−＾’−Ａ２−Ａ３−Ｑ−Ｙ　Ｉ　ｃＲ−Ａ’−Ｚ’−Ａ”−Ｚ”−Ａ”　− Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｄＲ−Ａ’−Ｚｌ−＾２−＾’−Ｑ−ＹＩｅＲ−ＡＩ−Ａ２−２ ２−Ａ３−　Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｆおよび下記の付属式Ｉｇ〜Ｉｍで示される４個の 環を有する化合物： Ｒ−＾’−ＡＩ−Ａ”Ａ３−Ｑ−Ｙ　１　ｇＲ−ＡＩ−Ｚ’−＾１−＾２−＾３ −Ｑ−Ｙ　ＩｈＲ−Ａ’　−Ａ’−Ｚ’−Ａ２−Ａ’−Ｑ−Ｙ　Ｉ　１Ｒ−Ａ’ −ＡＩ−Ａ２−２’−＾”Ｑ−ＹＩｊＲ−Ａ’−Ｚｌ−Ａ’−Ｚｌ−Ａ”−Ａ３ −Ｑ−Ｙ　Ｉ　ｋＲ−ＡＩ−Ａｔ−Ｚｌ−Ａｔ−Ｚ”−Ａ”−Ｑ−Ｙ　Ｉ　ＩＲ ’−Ａ＝Ｚ’−Ａ１　１＋−＾２−Ｚ２−＾３−Ｑ−ＹＩｍを包含する。

これらの化合物の中で、特に付属式のＩａ、Ｉｂ５Ｉｃ、ＩｄＳＩｅ、Ｉ　ｆ、 Ｉ　ｉおよび１１で示される化合物は好ましい化合物である。

付属式Ｉａで示される化合物の中の好ましい化合物は、下記の付属式Ｉａａ−Ｉ ａｈで示される化合物を包含する：Ｒ−Ｐｈｅ−Ａ３−　Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ａａＲ −Ｐｈｅ−Ａ３＝　Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ａｂＲ−Ｄｉｏ−＾”ＱＹ　１ａｃ Ｒ−Ｐｙｒ−Ａ３−Ｑ−Ｙ　Ｉａｄ Ｒ−Ｐｙｄ−Ａ３−　Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ａｅＲ−Ｃｙｃ−Ａ３−　Ｑ　−Ｙ　Ｉｄ Ｒ−Ｃｙｃ−Ａ３−Ｑ−Ｙ　Ｉａｇ Ｒ−Ｃｈｅ−Ａ３−Ｑ−Ｙ　Ｉａｈ これらの化合物の中では、式Ｉ　ａａ、　Ｉ　ａｂ、　Ｉ　ａｃ、　Ｉ　ａｄ。

ＩａｆおよびＩａｇで示される化合物が特に好ましい。

付属式Ｉｂで示される化合物の中の好ましい化合物としては、下記の付属式Ｉｂ ａおよびＩｂｂで示される化合物が包含される： ＲＣｙｃ　ＣＨｚＣＨ２Ａ’　Ｑ　Ｙ　ＩｂａＲ−Ｃｙｃ−ＣＯＯ−Ａ”　−Ｑ 　−Ｙ　Ｉ　ｂｂ付属式Ｉｃで示される化合物の中の好ましい化合物には、下記 の付属式Ｉ　ｃａ＝　Ｉ　ｃｏで示される化合物が包含される： Ｒ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ａ’　−Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｃａＲ−Ｐｈｅ　−Ｐｈｅ−＾３ Ｑ　Ｙ　ＩｃｂＲ−Ｐｈｅ−Ｄｉｏ−＾３Ｑ　Ｙ　ＩｃｅＲ−Ｃｙｃ　−Ｃｙｃ −＾３Ｑ　Ｙ　ＩｃｄＲ−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−八３　ＱＹ　ＩｃｅＲ−Ｃｙｃ−Ｃ ｙｃ−Ａ’　−Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｃｆＲ−Ｐｙｄ　−Ｐｈｅ−＾’−Ｑ−ＹＩｃｇ Ｒ−Ｐｙｒ−Ｐｈｅ−＾’　Ｑ　Ｙ　ＩｃｈＲ−Ｐｈｅ−Ｐｙｒ−Ａ’　−Ｑ　 −Ｙ　Ｉ　ｃｉＲ−Ｃｙｃ−Ｐｙｒ−Ａ３−　Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｃｊＲ−Ｃｙｃ− Ｐｈｅ−Ａ３−　Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｃｋＲ−Ｃｙｃ　−Ｐｈｅ−＾３Ｑ　Ｙ　Ｉｃ １Ｒ−Ｄｉｏ−Ｐｈｅ−Ａ’　−Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｃｔｓＲ−Ｃｈｅ−Ｐｈｅ−＾ ’−Ｑ−ＹＩｃｎＲ−Ｐｈｅ−Ｃｈｅ　−Ａ３−　Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｃ。

これらの化合物の中では、式Ｉ　ｃａ、　Ｉ　ｃｃ、　Ｉ　ｃｄ、　Ｉ　ｃｅ。

ＩｃｉおよびＴｃｊで示される化合物が特に好ましい。

付属式Ｉｄで示される化合物の中の好ましい化合物には、下記の付属式Ｉｄａ〜 Ｉｄｍで示される化合物が包含さ゛　れる； Ｒ−Ｐｈｅ　−Ｚ’　−Ｐｈｅ　−Ｚ’−＾”−Ｑ−ＹＩｄａＲ−Ｐｈｅ　−Ｚ ’　−Ｐｈｅ　−Ｚ’−＾”−Ｑ−Ｙ　ＩｄｂＲ−Ｐｈｅ−Ｚ’−Ｄｉｏ−Ｚ’ −Ａ’−Ｑ−Ｙ　ＩｄｃＲ−Ｃｙｃ−Ｚ’−Ｃｙｃ−Ｚ’−Ａ３−Ｑ−Ｙ　Ｉｄ ｄＲ−Ｃｙｃ−Ｚ’−Ｃｙｃ−Ｚ’−Ａ”−Ｑ−Ｙ　Ｉ　ｄｅＲ−Ｐｙｄ　−Ｚ ’　−Ｐｈｅ　−Ｚ’−＾３−Ｑ−Ｙ　ＩｄｔＲ−Ｐｈｅ−Ｚ’−Ｐｙｄ−Ｚ’ −Ａ３　Ｑ　Ｙ　ＩｄｇＲ−Ｐｙｒ−Ｚ’−Ｐｈｅ−Ｚ’−Ａ３−　Ｑ　−Ｙ　 Ｉ　ｄｈＲ−Ｐｈｅ−Ｚ’−Ｐｙｒ−Ｚ’−Ａ３−　Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｄｉＲ−Ｐ ｈｅ　−Ｚ’　−Ｃｙｃ　−Ｚ’−＾３−Ｑ−Ｙ　ＩｄｊＲ−Ｃｙｃ−Ｚ’−Ｐ ｈｅ−Ｚ’−Ａ３−　Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｄｋＲ−Ｃｙｃ−Ｚ’−Ｐｈｅ−Ｚ’−Ａ ’　−Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｄｉＲ−Ｄｉｏ　−Ｚ’　−Ｐｈｅ　−Ｚ’−＾”−Ｑ− ＹＩｄｍ付属式Ｉｅで示される化合物の中の好ましい化合物には、下記の付属式 Ｉｅａ−１ｅｔで示される化合物が包含される： Ｒ−Ｐｙｒ　−Ｚ’　−Ｐｈｅ−＾’ＱＹ　ＩｅａＲ−Ｄｉｏ−Ｚ’−Ｐｈｅ− Ａ３−　Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｅｂＲ−Ｐｈｅ−Ｚ’−Ｐｈｅ−Ａ’−Ｑ−Ｙ　Ｉｅｃ Ｒ−Ｃｙｃ　−Ｚ’　−Ｐｈｅ−＾’Ｑ−ＹＩｅｄＲ−Ｃｙｃ−Ｚ’−Ｐｈｅ− Ａ’−Ｑ−Ｙ　ＩｅｅＲ−Ｐｈｅ−Ｚ’−Ｃｙｃ−Ａ３−Ｑ　Ｙ　ＩｅｆＲ−Ｃ ｙｃ−Ｚ’−Ｃｙｃ−Ａ３−　Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｅｇＲ−Ｃｙｃ−Ｚ’−Ｃｙｃ− Ａ’　−Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｅｈＲ−Ｐｈｅ−Ｚ’−Ｄｉｏ−Ａ’−Ｑ−Ｙ　１ｅｔ Ｒ−Ｐｙｄ　−Ｚ’　−Ｐｈｅ−＾’　−Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｅｊＲ−Ｐｈｅ　−Ｚ ’　−Ｐｙｒ−＾３−Ｑ−ＹＩｅｋＲ−Ｃｙｃ−Ｚ’−Ｐｙｒ−Ａ”　−Ｑ　− Ｙ　Ｉ　ｅｌ付属式Ｉｆで示される化合物の中の好ましい化合物には、下記の付 属式Ｉｆａ−１ｆｒで示される化合物が包含される： Ｒ−Ｐｙｒ　−Ｐｈｅ　−Ｚ’−＾’ＱＹ　ＩｆａＲ−Ｐｙｒ　−Ｐｈｅ　−０ ＣＪ−＾’−Ｑ−Ｙ　ＩｆｂＲ−Ｐｈｅ　−Ｐｈｅ　−Ｚ’−＾”−Ｑ　Ｙ　Ｉ ｆｃＲ−Ｐｈｅ　−Ｐｈｅ　−００Ｃ−＾’−Ｑ−Ｙ　ＩｆｄＲ−Ｐｈｅ−Ｐｈ ｅ−Ｚ’−Ａ”　−Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｆｅＲ−Ｃｙｃ　−Ｃｙｃ　−Ｚ’−＾３− Ｑ−ＹＩｆｆＲ−Ｃｙｃ　−Ｃｙｃ　−Ｚ’−＾’−Ｑ−Ｙ　ＩｆｇＲ−Ｃｙｃ −Ｃｙｃ−ＣＪＣＨｚ−Ａ３−Ｑ−Ｙ　Ｉ　ｆｈＲ−Ｐｙｄ−Ｐｈｅ−Ｚ’−Ａ ３−　Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｆｉＲ−Ｄｉｏ　−Ｐｈｅ　−Ｚ’−＾３−Ｑ−ＹＩｆｊ Ｒ−Ｐｈｅ　−Ｃｙｃ　−Ｚ’−＾”−Ｑ−Ｙ　ｘｎＲ−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−Ｚ’ −Ａ３−Ｑ−Ｙ　ＩｆｌＲ−Ｐｈｅ−Ｐｙｄ−Ｚ’−Ａ”−Ｑ−Ｙ　Ｉ　ｆ＋ａ Ｒ，−Ｃｈｅ　−Ｐｈｅ　−Ｚ’−＾”　Ｑ　Ｙ　ＩｆｎＲ−Ｐｈｅ　−Ｃｈｅ 　−Ｚ’−Ａ３　Ｑ−ＹＩｆ。

Ｒ−Ｃｙｃ−Ｐｂｅ−Ｚ’−Ａ”　−Ｑ　−Ｙ　Ｉ　ｆｐＲ−Ｃｙｃ　−Ｐｈｅ 　−００Ｃ−＾’−Ｑ−ＹＩｆｑＲ−Ｃｙｃ−Ｐｈｅ−Ｚ’−Ａ’−Ｑ−Ｙ　Ｉ 　ｆｒ前記および後記に記載の式で示される化合物において、Ｙは、好ましくは Ｆである。

Ｒは、好ましくはアルキルであり、さらにまた、アルコキシである。八１および （または）Ａ２は、好ましくはＰｈｅ。

ＣｙｃＳＣｈｅ、　ＰｙｒまたはＤｉｏである。好ましくは、式Ｉで示される化 合物は、Ｂｉ、、Ｐｙｄ、　Ｐｙｒ、　ＤｉｏまたはＤｉｔの基を、１個より多 くは含有していない。

式■および全部の付属式において、Ａ皿および（または）Ａ２が１，４−フェニ レンであり、この基が、置換基として、１個または２個のＦを有するか、あるい は置換基として、１個のＣＮを有する化合物はまた、好ましい。これらの基は、 特に２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレンお よび３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンならびに２−シアノ−１，４−フ ェニレンおよび３−シアノ−１，４−フェニレンである。特に好ましい態様にお いては、Ａ２は３．５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり、そしてｍは、 １または２である。

ｚｌおよびＺ２ハ、好ましくは単結合、−ＣＯ−Ｏ−１−Ｏ−ＣＯ−および−Ｃ ＬＣＦ！ｚ−であり、二番目に好ましくは、−ＣＨ２０−および−０ＣＲ！−で ある。

基Ｚｌおよび基ｚ２のうちの一つが、−（ＣＨｚ）ｓ−または−ＣＨ＝ＣＨ−ｃ ｎ、ｃｎ、−テある場合には、基ｚＩまタハ基Ｚ”（７）うちの他の一つは（存 在する場合には）、好ましくは単結合である。

この種類の好ましい化合物は、下記の付属式Ｉ′に相当する： 〔式中、ｚ２ハ、−（ＣＨ２）シまり＋１！−ＣＨ＝ＣＦＩ−ＣＨ，Ｃ１１，− テあり、そしてＲ５Ａｔ、Ａ２、ｍ、Ｌ、ＱおよびＹは、式ｌに係り示されてい る意味を有する〕。Ｒ１Ａｌ、　Ａｔ、ｍ、Ｌ、ＱおよびＹに係る好ましい意味 はまた、式■で示される化合物に係る好ましい意味に相当する。

ｍは、好ましくは１または０であり、特に好ましくは、ｍは０である。

アルキル基および（または）アルコキシ基Ｒは、直鎖状または分枝鎖状であるこ とができる。この基Ｒは、好ましくは直鎖状であり、炭素原子２個、３個、４個 、５個、６個または７個を有し、従ってこの基Ｒは、好ましくは、エチル、プロ ピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エトキシ、プロポキシ、ブトキ シ、ペントキシ、ヘキソキシまたはへブトキシでありさらにまた、Ｒは、メチル 、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシ ル、ペンタデシル、メトキシ、オクトキシ、ツノキシ、デクキシ、ウンデクキシ 、ドデクキシ、トリデクキシまたはテトラデシルシである。

オキサアルキルは、好ましくは直鎖状の２−オキサプロピル（＝メトキシメチル ）、２−（＝エトキシメチル）または３−オキサブチル（Ｉ２−メトキシエチル ）、２−１３−または４−オキサペンチル、２−１３−１４−または５−オキサ ヘキシル、２−１３−１４−１５−または６−オキサヘプチル、２−１３−１４ −１５．−１６−または７−オキサオクチル、２−１３−１４−１５−１６−１ ７−または８−オキサノニル、２−１３−１４−１５−１６−１７−１８−また は９−オキサデシルである。

アルキル基Ｒにおいて、この基中に存在する１個のＣＨ２基が、−ＣＩ’［＝Ｃ １１−により置き換えられている基は、直鎖状または分枝鎖状であることができ る。この基は、好ましくは直鎖状であり、炭素原子２〜ＩＯ個を含有する。従っ て、この基は、特にビニル、プロプ−１−１またはプロプ−２−ノニル、ブドー １−、ブドー２−またはブドー３−ノニル、ベント−１−、ベント−２−、ベン ト−３−またはベント−４−ノニル、ヘキス−１−、ヘキス−２−、ヘキス−３ −、ヘキス−４−またはへキス−５−ノニル、ヘプト−１−、ヘプト−２−、ヘ プト−３−、ヘプト−４−、ヘプト−５−またはヘプト−６−ノニル、オクト− １−、オクト−２−、オクト−３−、オクト−４−、オクト−５−、オクト−６ −またはオクト−７−ノニル、ノン−１−、ノン−２−、ノン−３−、ノン−４ −、ノン−５−、ノン−６−１５ノン−７−またはノン−８−ノニル、デク−１ −、デク−２−、デク−３−、デク−４−、デク−５−、デク−６−、デク−７ −、デク−８−またはデク−９−ノニルである。

アルキル基Ｒにおいて、この基中に存在する１個のＣＩ２基が一〇−により置き 換えられている基、および−〇〇−により置き換えられている基において、これ らの基は、好ましくは隣接している。従って、これらの基は、１個のアシルオキ シ基−ＣＯ−０−または１個のオキシカルボニル基−０−ＣＯ−を含有する。好 ましくは、これらの基は、直鎖状であり、炭素原子２〜６個を有する。従って、 これらの基は特に、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ペ ンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、アセチルオキシメチル、プロピオニル オキシメチル、ブチリルオキシメチル、ペンタノイルオキシメチル、２−アセチ ルオキシエチル、２−プロピオニルオキシエチル、２−ブチリルオキシエチル、 ３−アセチルオキシプロピル、３−プロピオニルオキシプロビル、４−アセチル オキシブチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ ル、ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、メトキシカルボニルメチル、 エトキシカルボニルメチル、プロポキシカルボニルメチル、ブトキシカルボニル メチル、２−（メトキシカルボニル）エチル、２−（エトキシカルボニル）エチ ル、２−（プロポキシカルボニル）エチル、３−（メトキシカルボニル）プロピ ル、３−（エトキシカルボニル）プロピル、４−（メトキシカルボニル）ブチル である。

アルキル基Ｒにおいて、この基中に存在する１個のＣ１１２基が、非置換の−Ｃ Ｈ＝ＣＴｌ−により、あるいは置換基を有する一ｃｎ＝ｃｎ−により置き換えら れており、かつまた隣接する１個（７）ＣＨ？基が、−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ −または−〇−ＣＯ−＋：より置き換えられている基は、直鎖状または分枝鎖状 であることができる。この基は、好ましくは直鎖状であり、炭素原子４〜１３個 を有する。従って、この基は、特にアクリロイルオキシメチル、２−アクリロイ ルオキシメチル、３−アクリロイルオキシプロピル、４−アクリロイルオキシブ チル、５−アクリロイルオキシペンチル、６−アクリロイルオキシヘキシル、７ −アクリロイルオキシヘプチル、８−アクリロイルオキシオクチル、９−アクリ ロイルオキシノニル、１０−アクリロイルオキシデシル、メタアクリロイルオキ シメチル、２−メタアクリロイルオキシノニル、３−メタアクリロイルオキシプ ロピル、４−メタアクリロイルオキシブチル、５−メタアクリロイルオキシペン チル、６−メタアクリロイルオキシヘキシル、７−メタアクリロイルオキシヘプ チル、８−メタアクリロイルオキシオクチル、９−メタアクリロイルオキシノニ ルである。

アルキル基またはアルケニル基Ｒにおいて、この基が１個のＣＮまたは１個のＣ Ｆ３により置換されている場合には、この基は好ましくは直鎖状基であり、ＣＮ またはＣＦ３はω位置に置換されている。

アルキル基またはアルケニル基Ｒにおいて、この基が少なくとも１個のハロゲン で置換されている場合には、この基は、好ましくは直鎖状基であり、そしてハロ ゲンは、好ましくはＦまたはＣＩである。複数個の置換基を有する場合には、ハ ロゲンは、好ましくはＦであ・る。生成する基はまた、過フッ素化基を包含する 。

１個の置換基を有する場合には、フッ素または塩素置換基がいずれか所望の位置 に存在できるが、好ましくはω−位置に存在する。

重合反応に適する側鎖基Ｒを有する式■で示される化合物は、液晶ポリマーの製 造に適している。

側鎖基Ｒを有する、式Ｉで示される化合物は、これらが慣用の液晶基材中で良好 な溶解性を有することから、場合によって、重要でありうるが、特に、これらが 光学活性である場合には、カイラルドーピング物質として重要でありうる。この 種のスメクティック化合物は、強誘電性材料用の成分として適している。

８相を有する式■で示される化合物は、たとえば熱により駆動される表示体に、 適している。

この種の分枝鎖状基は、一般に１個よりは多くない鎖分枝を有する。好適な分枝 鎖状基Ｒは、イソプロピル、２−ブチル（＝１−メチルプロピル）、イソブチル （Ｉ２−メチルプロピル、２−メチルブチル、イソペンチル（＝３−メチルブチ ル）、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−エチルヘキシル、２−プ ロピルペンチル、イソプロポキシ、２−メチルプロポキシ、２−メチルブトキシ 、３−メチルブトキシ、２−メチルベントキシ、３−メチルペントキシ、２−エ チルヘキソキシ、１−メチルヘキソキシ、１−メチルへブトキシである。

アルキル基Ｒにおいて、この基中に存在する２個または３個以上のＣＩＴ、基が 一〇−および（または）　−Ｃｏ−０−により置き換えられている場合には、こ の基は、直鎖状または分枝鎖状であることができる。この基は、好ましくは分枝 鎖状であり、炭素原子３〜１２個を有する。従って、この基は、特にビス（カル ボキシ）メチル、２．２−ビス（カルボキシ）エチル、３．３−ビス（カルボキ シ）プロピル、４．４−ビス（カルボキシ）ブチル、５，５−ビス（カルボキシ ）ペンチル、６．６−ビス（カルボキシ）ヘキシル、７，７−ビス（カルボキシ ）へブチル、８，８−ビス（カルボキシ）オクチル、９，９−ビス（カルボキシ ）ノニル、１０．１０−ビス（カルボキシ）デシル、ビス（メトキシカルボニル ）メチル、２．２−ビス（メトキシカルボニル）エチル、３，３−ビス（メトキ シカルボニル）プロピル、４，４−ビス（メトキシカルボニル）ブチル、５．５ −ビス（メトキシカルボニル）ペンチル、６．６−ビス（メトキシカルボニル） ヘキシル、７，７−ビス（メトキシカルボニル）へブチル、８．８−ビス（メト キシカルボニル）オクチル、ビス（エトキシカルボニル）メチル、２．２−ビス （エトキシカルボニル）エチル、３．３−ビス（エトキシカルボニル）プロピル 、４．４−ビス（エトキシカルボニル）ブチル、５．５−ビス（エトキシカルボ ニル）ヘキシルである。

重縮合に適する側鎖基Ｒを有する式Ｉで示される化合物は、液晶重縮合生成物の 製造に適している。

式Ｉは、これらの化合物のラセミ体ばかりでなく、またその光学対掌体およびそ の混合物を包含する。

式Ｉおよびそれらの付属式で示される化合物の中では、その分子中に含まれてい る基のうちの少な（とも一つが、前記の好ましい意味のうちの一つを有する化合 物が好ましい。

式■で示される化合物において、その分子中に存在する環のＣｙｃおよびピペリ ジンが、トランス−１，４−ジ置換されている立体異性体が好ましい。前記諸式 で示され、Ｐｙｄ、　Ｐｙｒおよび（または）　Ｄｉｏのうちの１個または２個 以上の基を含有する化合物は、その２．５位置において、２種の異性体をそれぞ れ、包含する。

数種の非常に特に好ましい化合物の小さいグループは、下記の付属式１１〜Ｉｌ ｌで示される：この１．４−シクロヘキセニレン基は好ましくは、次の構造を有 する： 式■で示される化合物は刊行物〔たとえばＢｏｕｂｅｎ−ＷｅｙｌによるＭｅｔ ｈｏｄｅｎ　ｄｅｒ　Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ　Ｃｈｃｖｉｅ（有機化学の方法 ）　（Ｇｅｏｒｇ−Ｔｈｉｅｍｅ出版社、　Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ市）、ＩＸ巻、 ８６７頁以降のような標準的学術書〕に記載されているようなそれ自体既知の方 法により、あげられている反応に適する既知の反応条件の下で製造される。

それ自体既知であって、ここでは詳細に説明されていない変法も使用することが できる。

従って、本発明に係る化合物は、例えば下記の反応経路に従い、式■ （式中、Ｒ１＾１１＾２、Ｚｌ、　１２およびｍは、前記の意味を有する）で示 される化合物を金属化し、次いで生成物を、適当な電子性化合物と反応させるこ とによって、製造することができる： 合成経路Ｉ ＱがＯＣＦ　、または０ＣＨＦである目的化合物は、生成されるフェノール化合 物から、公知の方法によって、たとえばクロロジフルオロメタンまたは四塩化炭 素／ＨＦとの反応によって、得ることができる。

さらに別の合成方法は、当業者にとって自明である。

たとえば、５位置に相応する置換基を有する１、３−ジフルオロベンゼン化合物 またはそのモノフッ素化同族体（Ｉ、＝１１）は、上記合成経路に従い、２−　 ＯＣＦ、Ｙ−１，３−ジフルオロ化合物に、またはそのモノフッ素化同族体（Ｌ 　＝　Ｈ’）に変換することができ、次いで液晶化学で慣用の反応〔たとえば、 Ｅ、　ＰｏｅｔｓｃｈによりＫｏｎｔａｋｔｅ（Ｄａｒｖｓ−ｔａｄｔ）、　１ ９８８　（２）、　１５頁に記載されているような、エステル化、エーテル化ま たはカップリング反応）により、基Ｒ−（Ａ’−Ｚ’）ｌｌｌ−＾２−２２を導 入することができる。

合成経路２ ルビリジニウムトリフレート ＴＨＦ／−６０゜ さらに別の合成方法も、当業者にとって自明である。

たとえば、５位置が相応して置換されている１、３−ジフルオロベンゼン化合物 は、上記合成経路に従い、２−Ｙ−１，３−ジフルオロ化合物に変換することが でき、次いで液晶化学で慣用の反応〔たとえば、Ｅ、　Ｐｏｅｔｓｃｈにより、 Ｋｏｎｔａｋｔｅ　（Ｄａｒｍｓｔａｄｔ）　１９８８（２）、　１５頁に記載 されているようなエステル化、エーテル化またはカップリング反応など〕により 、基Ｒ−（＾’　−Ｚ’　）ｌ、ｌ−Ａ　”−Ｚ２を導入することができる。

式Ｉにおいて、ＬがＦであり、モしてＱ−ＹがＣＦ、である、本発明による化合 物は、下記の合成経路に従い、非置換の３．５−ジフルオロフェニル化合物をｎ 　−ＢｕＬｉテ金属化し、次いでヨー素と反応させ、次いでこのヨー素化合物を 三フッ化酢酸ナトリウムと反応させることによって製造することができる： 本発明による化合物において、ＬがＨあり、そしてＱ−ＹがＣＦ３である化合物 は、３−フルオロ−４−ヨードブロモベンゼンをＣＦ３ＣＯ０Ｎａによってペン シトリフルオライド化合物に変換し、次いで、たとえば慣用のカップリング反応 によって、基Ｒ−（ＡＩ−Ｚｌ）□を導入することによって製造することができ る： 式■で示される化合物は、たとえば次の諸合成経路に従い、製造することができ る： 合成経路３　ｆＡ　舅−（−＜ＥＥ＞−Ｚｌ＋＠−＜Ｅ＞−／　２２　！　−Ｃ Ｈ２ＣＨ２−１↓ ↓　Ｐｄ−触媒 ＣＩ（ｌＯＥｔｌ 直 ↓ これらの出発物質は公知であるか、または公知化合物と同様にして製造すること ができるかのどちらかである。

式■で示されるエステル化合物はまた、相当するカルボン酸化合物（またはその 反応性誘導体）をアルコール化合物またはフェノール化合物（あるいは、その反 応性誘導体）でエステル化することにより、あるいはＤＣＣ法（ＤＣＣ＝ＣＣニ ジシクロルカルボジイミド）により、得ることもできる。

相当するカルボン酸化合物、ならびにアルコール化合物およびフェノール化合物 は、公知であるか、あるいは公知の方法と同様にして、製造することができる。

若干の特に好ましい化合物の合成を以下に詳細に説明する： （Ｘ　＝　ＯＯ［Ｆ２．−０ＣＣＩＦ２または一〇ＣＦ、）合成経路９ 合成経路１０ 合成経路の８．９および１０において、ｍは、好ましくけ０合成経路１１ ｔＸ　＝　０ＣＨＦ２．　ＯＣＦ、Ｃ１又は　０ＣＦ３１ｆＸ　−００（Ｆ２． 　ＯＣＦ、　又はＯＣ”Ｆ２Ｃ１，Ｌ’　＝　Ｈ又は　Ｆ）合成経路１３ Ｎ−フルオロトリメチルピリジニ ウムトリフＶ−ト ゛合成経路１５ ３　ＣＦｓｃｃ）’ＤＮａ 合成経路１８ ｌｅ 合成経路２１ （Ａ’１ｍ七町％　、　ｈ、　＋（：Ｈ２Ｃ’Ｈ２−、８■−である。

式Ｉで示されるエステル化合物はまた、相当するカルボン酸化合物（またはそれ らの反応性誘導体）を、アルコール化合物またはフェノール化合物（またはそれ らの反応性誘導体）によりエステル化することにより、あるいはＤＣＣ法（ＤＣ Ｃ＝ＣＣニジシクロルカルボジイミド）により、得ることもできる。

これらの相当するカルボン酸化合物、ならびにアルコール化合物またはフェノー ル化合物は、公知であるか、あるいは公知方法と同様にして、製造することがで きる。

式■で示される化合物を製造するための、もう一つの方法では、アリールハライ ド化合物を、三級アミンおよびパラジウム触媒の存在の下に、オレフィンと反応 させる（ＲｏＦ、　ＨｅｃｋによるＡｃｃ、　Ｃｈｅｔ　Ｒｅｓ、１２　（１９ ７９）　１４６頁参照）。適当なアリールハライドの例は、クロライド、ブロマ イドおよびヨーダイトであり、特にブロマイドおよびヨーダイトである。このカ ップリング反応の成功には、三級アミン、たとえばトリエチルアミンが必要であ り、このアミンはまた、溶媒としても適している。適当なパラジウム触媒の例に は、パラジウム塩、特に酢酸Ｐｄ（ｎ）であり、これは有機リン（ＩＩＩ）化合 物、たとえばトリアリールホスファン類などとともに使用する。この反応は、不 活性溶媒の存在または不存在の下に、約０゜〜１５０°、好ましくは２０°〜１ ００°の温度で行なうことができる。適当な溶媒の例には、ニトリル類、たとえ ばアセト巳トリル、あるいは炭化水素類、たとえばベンゼンまたはトルエンがあ る。出発物質として使用するアリールハライド化合物およびオレフィンは、大多 数が市販されており、または刊行物から知られている方法によって、たとえば相 当する親の化合物のハロゲン化によって、あるいは相当するアルコール化合物ま たはハライド化合物に対して行なわれる脱離反応によって、製造することができ る。

この方法によって、たとえばスチルベン誘導体を製造することができる。このス チルベン化合物はまた、４−置換ベンズアルデヒド化合物を、Ｗｉｔｔｉｇ法に 従い、相当するリンイリド化合物と反応させることによっても製造することがで きる。しかしながら、式！で示されるトラン化合物はまた、オレフィンの代りに 、モノ置換アセチレン化合物を使用することにより、製造することもできるＩ： ５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　６２７　（１９８０）、またはＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　 Ｌｅｔｔ、Ａ″７．１１７１　（１９８６））。

さらにまた、芳香族化合物をカップリングさせるためには、アリールハライド化 合物を、アリールスズ化合物と反応させることができる。これらの反応は、好ま しくは不活性溶媒、たとえば炭化水素類などの中で、触媒、たとえばパラジウム （０）錯体などを添加し、高められた温度、たとえば沸騰キシレン中において、 不活性気体の存在の下に行なう。

アルキニル化合物とアリールハライド化合物とのカップリング反応は、Ａ、Ｏ， Ｋｉｎｇ、Ｅ、Ｎｅｇｉｓｈｉ、Ｆｊ。

ＶｉｌｌａｎｉおよびＡ、５ｉｌｖｅｉｒａによりＪ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｖ、４３ ゜３５８　（１９７８）に記載されている方法と同様に、行なうことができる。

式Ｉで示されるトラン化合物はまた、Ｆｒｉｔｓｃｈ−Ｂｕｔｔｅｎｂｅｒｇ− １ｉｅｃｈｅ１１転位（＾ｎｎ、　２７９．３１９．１９８４）により、製造す ることもでき、この方法では、１．１−ジアリール−２−ハロゲノエチレン化合 物を、強塩基の存在の下に、ジアリールアセチレン化合物に転位させる。

式Ｉで示されるトラン化合物はまた、相当するスチルベン化合物を臭素化し、次 いで生成物を脱ハロゲン化水素することによって製造することもできる。この反 応にはまた、ここではさらに詳細にあげられていない、それ自体既知の変法を使 用することもできる。

式■で示されるエーテル化合物は、相当するヒドロキシ化合物、好ましくは相当 するフェノール化合物をエーテル化することによって得ることができる。この方 法では、ヒドロキシ化合物を、好ましくは先ず、相当する金属誘導体に変換し、 たとえばＮａｐ、　ＮａＮｎ２、ＮａＯＨ１ＫＯ１’ｌ。

Ｎａ２ＣＯ３またはに、ＣＯ３で処理することによって、相当するアルカリ金属 アルコレートまたはアルカリ金属フェルレートに変換する。この誘導体を次いで 、約２０〜１００°の温度において、好ましくは不活性溶媒、たとえばアセトン 、１．２−ジメトキシエタン、ＤＭＦまたはジメチルスルホキシド中で、相当す るアルキルハライド、アルキルスルホネートまたはジアルキルサルフェートと反 応させることができ、あるいは過剰量の水性または水性−アルコール性のＮａＯ ＨまたはＫＯＪＩとさえも反応させることができる。

これらの出発物質は、公知であるか、あるいは公知化合物と同様にして製造する ことができるかのどちらかである。

弐■′において、Ｚ　”　＝　−（ＣＨ２）　ｓ　−テア６　化合物ハ、次の合 成経路によって製造することができる：Ｒ−（Ａ’）１−Ａ２−ＣＨ２ＣＨ２− ＢｒＲ（Ａ’）ｍ−−＾２−　（ＣＨ２）、−Ｂｒ［Ｒ−（Ａ’）＠−Ａ’−（ ＣＨ２）、１２−Ｚｎこのｐｄ（ＩＩ）を触媒とするカップリング反応によって 、目的生成物■′が、直接に生成されるか、または前駆化合物が生成される。こ の前駆化合物には、式Ｉで示される化合物について前記した方法と全く同一の方 法により、基−Ｑ−Ｙ−を導入する。

弐Ｉ′において、ｚ”＝−ｃｎ＝ｃｎ−ｃｏ２ｃＨ２−’ｔ’ある化合物は、次 の合成経路に示されているように、Ｗｉｔｔｉｇ法によって製造することができ る： Ｒ−（＾す、−＾”−ＣＨ２−Ｐ＠Ｐｈ、Ｂｒｅ好ましいトランス異性体は、刊 行物から知られている異性化方法によって製造することができる。得ることがで きるＲＯ＝Ｈである前駆化合物は、式Ｉで示される化合物の前駆化合物の場合と 全（同様に、基−Ｑ−Ｙ−を導入することによって、式Ｉ′で示される化合物に 変換することができる。

アルデヒド化合物は、相応して置換されている１−ブロモ−３−フルオロベンゼ ン誘導体とアリルアルコールとのｎｅｃｋの反応によって、得ることができる。

本発明によるこれらの液晶相は、本発明に係る化合物の１種または２種以上に加 えて、追加の成分として、好ましくは２〜４０種、特に４〜３０種の成分を含有 する。こ゛れらの相は、非常に特に好ましくは、本発明に係る化合物の１種また は２種以上に加えて、７〜２５種の成分を含有する。これらの追加の成分は、好 ましくはネマティックまたはネマティック形成性（単変性または等方性）物質、 特にアゾキシベンゼン化合物、ベンジリデンアニリン化合物、ビフェニル化合物 、ターフェニル化合物、フェニルまたはシクロへキシルベンゾエート化合物、シ クロヘキサンカルボン酸のフェニルまたはシクロヘキシルエステル化合物、シク ロヘキシル安息香酸のフェニルまたはシクロヘキシルエステル化合物、シクロヘ キシルシクロヘキサンカルボン酸のフェニルまたはシクロヘキシルエステル化合 物、安息香酸のシクロへキシルフェニルエステル化合物、シクロヘキサンカルボ ン酸のシクロへキシルフェニルエステル化合物、シクロヘキシルシクロヘキサン カルボン酸のシクロへキシルフェニルエステル化合物、フェニルシクロヘキサン 化合物、シクロへキシルビフェニル化合物、フェニルシクロへキシルシクロヘキ サン化合物、シクロへキシルシクロヘキサン化合物、シクロへキシルシクロへキ シルシクロヘキセン化合物、１．４−ビス（シクロヘキシル）ベンゼン化合物、 ４．４’−ビス（シクロヘキシル）ビフェニル化合物、フェニル−またはシクロ へキシルピリミジン化合物、フェニル−またはシクロへキシルピリジン化合物、 フェニル−またはシクロへキシルジオキサン化合物、フェニル−またはシクロへ キシル−１，３−ジチアン化合物、１．２−ジフェニルエタン化合物、１，２− ジシクロヘキシルエタン化合物、１−フェニル−２−シクロヘキシルエタン化合 物、１−シクロへキシル−２−（４−フェニルシクロヘキシル）エタン化合物、 １−シクロへキシル−２−ビフェニリルエタン化合物、１−フェニル−２−シク ロへキシルフェニルエタン化合物、ハロゲン化されているか、またはハロゲン化 されていないスチルベン化合物、ベンジルフェニルエーテル化合物、トラン化合 物および置換ケイ皮酸化合物の群からの物質から選択される。これらの化合物中 に存在する１、４−フェニレン基はまた、フッ素化されていてもよい。

本発明による相の追加の成分として適する最も重要な化合物は次式の１．２．３ ．４および５で示すことができる特徴を有する： Ｒ’−Ｌ−Ｅ−Ｒ’　Ｉ Ｒ’−Ｌ　−ＣＯＯ−Ｅ−Ｒ’　２ Ｒ’−Ｌ　−００Ｃ−Ｅ　−Ｒ’　３ Ｒ’　−Ｌ　−ＣＩ、Ｃ１１２−Ｅ　−Ｒ’　４Ｒ’−Ｌ−Ｃ＝Ｃ−Ｅ−Ｒ’　 ５ 式１、式２、式３、式４および式５においで、ＬおよびＥは同一または異なるこ とができ、相互に独立して、それぞれ、−Ｐｈｅ−１Ｃｙｃ−１−Ｐｈｅ−Ｐｈ ｅ−１−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−１−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−１−Ｐｙｒ−１−Ｄｉｏ−１− Ｇ−Ｐｈｅ−および−Ｇ−Ｃｙｃ−ならびにそれらの鏡像基からなる群からの二 価の基であり、Ｐｈｅは１，４−フェニレンであり（この基は非置換であるか、 またはフッ素で置換されている）　、Ｃｙｃはトランス−１，４−シクロヘキシ レンまたは１．４−シクロヘキセニレンであり、Ｐｙｒはピリミジン−２，５− ジイルまたはピリジン−２，５−ジイルであり、Ｂｉｏは１．３−ジオキサン− ２，５−ジイルであり、そしてＧは２−（トランス−１，４−シクロヘキシル） −エチル、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイルまたは１， ３−ジオキサン−２，５−ジイルである。

好ましくは、基りおよび基Ｅのうちの一つはＣｙｃＳＰｈｅまたはＰｙｒである 。Ｅは好ましくは、Ｃｙｃ、ＰｈｅまたはＰｈｅ−Ｃｙｃである。本発明による 相は、好ましくは、式１、式２、式３、式４および式５において、その分子中に 存在する基りおよび基ＥがＣｙｃＳＰｈｅおよびＰｙｒからなる群から選ばれる 相当する化合物から選択される成分の一種または二種以上と、同時に、式１、式 ２、式３、式４および式５において、その分子中に存在する基りおよび基Ｅのう ちの一つがＣｙｃ、　ＰｈｅおよびＰｙｒからなる群から選ばれ、そして基りお よび基Ｅのうちの他の一つが−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−１−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−１−Ｃｙ ｃ−Ｃｙｃ−１−Ｇ−Ｐｈｅ−および−Ｇ−Ｃｙｃ−からなる群から選ばれる相 当する化合物から選択される成分の一種または二種以上、および所望により、式 １、式２、式３、式４および式５において、その分子中に存在する基りおよび基 Ｅが−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−１−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−１−Ｇ−Ｐｈｅ−および−Ｇ−Ｃ ｙｃ−からなる群から選ばれる相当する化合物から選択される成分の一種または 二種以上を含有する。

式１、式２、式３、式４および式５で示される化合物の中の小さいサブグループ においては、Ｒ′およびＲ“は相互に独立して、それぞれ、８個までの炭素原子 を有するアルキル、アルケニル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルケニル オキシまたはアルカノイルオキシである。

以下の記載において、この小さいサブグループをグループＡと称し、これらの化 合物を付属式の１ａ、２ａ、３ａ　ｓ　４　ａおよび５ａで表わされるものとす る。これらの化合物の大部分において、Ｒ′およびＲ′は相互に異なっており、 これらの基のうちの一つは、通常、アルキル、アルケニル、アルコキシまたはア ルコキシアルキルである。

式１、式２、式３、式４および式５で示される化合物のもう一つの小さいサブグ ループをグループＢと称する。

この小さいグループＢにおいて、Ｒ′は、−Ｆ、　−ＣＩ、　−ＮＣ３または− （０）　＋ＣＨｓ　−＜ｋ弓、　ＦＫＣｌｔｔ　（式中、ｉは、０または１であ り、そしてに＋１は、１．２または３である）である。

Ｒ′がこの意味を有する化合物は、付属式のｌｂ、２ｂ。

３ｂ、４ｂおよび５ｂで表わされるものとする。特に好ましい化合物は、付属式 のｌｂ、２ｂ、３ｂ、４ｂおよび５ｂにおいて、Ｒ’ｂ＜−Ｆ、　−ＣＩ、　− ＮＣ８，−ＣＦ３、−０ＣｔｌＦ！または一０ＣＦ３を意味する化合物である。

付属式の１ｂ１２ｂ１３ｂ、４ｂおよび５ｂで示される化合物において、Ｒ′は 付属式１ａ〜５ａで示される化合物について前記した意味を有し、好ましくはア ルキル、アルケニル、アルコキシまたはアルコキシアルキルである。

式１、式２、式３、式４および式５で示される化合物のもう一つの小さいサブグ ループにおいて、Ｒ″は−ＣＮである。このサブグループを以下の記載において 、グループＣで表わし、このサブグループの化合物を相応して、付属式の１　ｃ 、２ｃ、３ｃ、４ｃおよび５ｃで表わされるものとする。付属式のｉｃ、２ｃ、 ３ｃ、４ｃおよび５ｃで示される化合物において、ｋ′は、付属式１３〜５ａで 示される化合物に係り前記した意味を有し、好ましくはアルキル、アルコキシま たはアルケニルである。

グループＡ１グループＢおよびグループＣで示される好ましい化合物に加えて、 提案されている、その他の種種の置換基を有する、式１、式２、式３、式４およ び式５で示される、その他の化合物もまた、慣用である。これらの物質はいずれ も、刊行物から知られている方法またはその類似方法によって得られる。

本発明による相は好ましくは、本発明に係る式Ｉで示される化合物に加えて、グ ループＡおよび（または）グループＢおよび（または）グループＣから選ばれる 化合物の中の１種または２種以上を含有する。本発明による相中の、これらのグ ループの中の化合物の重量割合は、好ましくは、以下のとおりであるニ ゲループＡ：　０〜９０％、好ましくは２ｏ〜９０％、特に３０〜９０％ グループＢ：　０〜８０％、集子ましくは１０〜８０％、特に１０〜６５％ グループＣ：　０〜８０％、好ましくは５〜８０％、特に５〜５０％ 本発明による各相中に含有される、グループＡおよび（または）グループＢおよ び（または）グループＣの中の化合物の重量割合の合計は、好ましくは５％〜９ ０％、特に１０％〜９０％である。

本発明による相は好ましくは、本発明に係る化合物を１〜４０％、特に好ましく は、５〜３０％含有する。本発明に係る化合物を、４０％より多い量、特に４５ 〜９０％の量で含有する相はまた、好ましい。本発明による相は、好ましくは３ 種、４種または５種の本発明に係る化合物を含有する。

本発明による相はそれ自体慣用の方法で調製される。

一般に、諸成分を相互に、好ましくは高められた温度で溶解させる。本発明によ る液晶相は適当な添加剤を使用することにより、これらを従来公知のタイプの全 部の液晶表示素子で使用することができるように変性することができる。この種 の添加剤は当業者にとって既知であり、文献（Ｈ，Ｋｅｌｋｅｒ／Ｒ，Ｈａｔｚ によるＨａｎｄｂｏｏｋ　ｏｆＬｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌｓ、Ｖｅｒｌａｇ 　Ｃｈｅａ＋ｉｅ、Ｗｅｉｎｈｅｉｍ、１９８０年）に詳細に記載されている。

たとえば、着色ゲスト−ホスト系を生成するために多色性染料を添加することが でき、あるいは誘電異方性、粘度および（または）ネマティック相の配向を変え るための物質を添加することができる。

以下の例は、本発明を説明のために示すものであって、本発明を制限しようとす るものではない。上述のおよび後述の記載において、示されているポテンシスは 、すべて重量による。温度は摂氏度で示されている。ｍ、　ｐ、は融点を表わし 、モしてｃ、　ｐ、は透明点を表わす。さらにまた、Ｃは結晶状態を表わし、Ｎ −ネマティック相、Ｓ＝スメクティック相モして■＝等方性相である。２種のこ れらの記号間の数字は、転移温度である。△ｎは、光学異方性であり（５８９ｎ ｍ、　２０℃）そして粘度（■２／秒）は、２０℃で測定した。

本明細書および以下の例の記載において、液晶化合物の構造を、頭字語で示す。

化学式への変換は、下記の表Ａおよび表Ｂに従って行なう。基Ｃｒｌ　Ｈ２ｎ　 ＋　＋および基Ｃｙ　Ｈ２ｍ　＋　ｒはいずれも、ｎ個またはｍ個のＣ原子を有 する直鎖状アルキル基である。表Ｂによるコードは自明である。表Ａにおいては 基本構造の頭字語だけが示されている。これらの各場合において、基本構造を示 す頭字語から離して記載されている置換基のＲ１、Ｒ２、ＬｌおよびＬ２に係る コード記号を以下に示す： Ｒ１，Ｒ２、 ｎｆｆ１　ＣＪｚｎ＋＋　ＣｍＨ２，ｌｌ＋Ｉ　ＨＨｎＯｍ　ＣＪｚｎ＋Ｉ　ｏ ｃｍｌＴｌ１ｍ＋ｌ　ＨＨｎＯ，ｍ　ＱＣ（ＪＩ２ｎ＋　ｌＣｍ１１２ｍ＋　Ｉ 　ＨＨｎＴ　ＣｎＨ２ｎ＋Ｉ　ＣＮ　ＨＨ ｎＮ、Ｆ　ＣＪｚｎ＋Ｉ　ＣＮ　ＨＦ ｎＦ　ＣｎＨ２ｎ１＋　Ｆ　ＨＨ ｎＯＦ　０ＣｎＨｚｎ＋＋　Ｆ　ＨＨ ｎｃｌ　ＣｎＨ２ｎ１　ＣＩ　ＨＨ ｎＦ、Ｆ　ＣＪ２ｎ＋Ｉ　Ｆ　ＨＦ ｎｏｍＦＦ　ＣＪ２ｎ＋１　０ｃｍｌ’１Ｈｙ１＋Ｉ　Ｆ　ＦｎｍＦ　ＣＨＨ２ ｎ＋＋　ＣｍＨｚｗ＊＋＋　Ｆ　ＨｎＣＦ３　ＣｎＨ！ｎ＋Ｉ　Ｃ，Ｒ３ＨＨｎ ＯｃＦ３　ｃｎｎ２ｎ＋Ｉ　０ＣＦ３　ＨＨｎＯｃＦ２　ｃｎｎ２ｎ＋Ｉ　０Ｃ ＨＦ２　ＨＨｎＳ　Ｃｎ■２ｎ＋＋　ＮＣ３ＨＨ ｒＶｓＮ　ＣＪｚｒ＋Ｉ　ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｒ、■２．ｉ−ＣＮ　ＨＨｒＥｓＮ　 ＣＪ２ｒ＋＋−０−ＣｓＨｚｓ−ＣＮ　ＨＨｎＮＦ　ｃｎａ２ｎ＋Ｉ　ＣＮ　Ｆ 　ＨｎＡ＋ｉ　ＣｎＨ２ｎ＋Ｉ　ＣＯＯＣＣ００Ｃ＋ｔ　ＨＨ表λ： ＰＹＰ　ＰＹＲＰ ８０（ＣＢＣ Ｃｏｔ　ＣＣＰ ｃｐ　ｔｙｒｐ ＣＥＦｒＰ　Ｄ Ｅα？Ｐ　ＣＥＣＰ ＥＰＣＨ）ＩＰ ）４Ｅ　ＰＯ（ ＰＤＸ　ＰＴＰ ＢＥＣＨ日Ｘ丁 ＰＣ 表Ｂ： Ｔ１５　Ｋ３ｎ Ｍ３ｎ　ＢＣＨ−ｎ、Ｆｍ Ｉｎｍ　Ｃ−ｎｍ Ｃｌ３　ＣＢ１５ Ｎ Ｑ）Ｊ−ｎｍ ＣＣＰＣ−ｎｍ （）ｌ−ｎｍ　）ｒＤ−ｎｍ Ｎ Ｈ）（−ｎ＋ｎ　ＮＣＢ−ｎｍ α辷ｒａｍ　ＣＨＥ ＥＣＢＣ−ｎｍ ＥＣＯ（−ｎｍ　α］（−ｎｌＥｍ −ｎＦｎ ＥＣ０ｆ−ｒｕｔ＋ Ｃ０Ｉ−ｎｌＥＩ！Ｉ α：Ｈ−ｎ２ＣＦ αアーｎＦ、Ｆ、Ｆ。

ＢＯ（−ｒＬＦ’、Ｆ、Ｆ 「通常の方法で仕上げ処理する」の用語は次の意味を有するものとする：必要に 応じて、水を加え、生成物を塩化メチレン、ジエチルエーテルまたはトルエンで 抽出し、有機相を分離し、乾燥させ、蒸発させ、次いで生成物を減圧の下に蒸発 させる、結晶化する、および（または）クロマトグラフィ処理することにより精 製する。下記の略語を使用する： ＤＡＳＴ　ジエチルアミノサルファートリフルオライドＤＣＣジシクロへキシル カルボジイミドＤＤＱ　ジクロロジシアノベンゾキノンＤＩＢＡＬＨ水素化ジイ ソブチルアルミニウムＫＯＴ　カリウムｔｅｒｔ、−ブトキシドＴＨＦ　テトラ ヒドロフラン ｐｒｓｏｎ　ｐ−トルエンスルホン酸 ＴＭＥＤＡ　テトラメチルエチレンジアミン例Ｉ ＴＨＦ　３００翼ｌ中の、１−トランス−４−（トランス−４−ｎ−プロピルシ クロヘキシル）シクロへキシル−２−（３，５−ジフルオロフェニル）エタン０ ．１モル（この化合物は、合成経路１に従って製造される）およびＴＭＥＤＡ　 ０．１モルの溶液に、約−６５℃で、ｎ　−ＢｕＬｉ（ヘキサン中１．５Ｍ　） ０．１モルを滴下して加える。この温度でさらに３０分間撹拌を続け、この混合 物に、−６０〜−７０’Ｃテ、Ｂ（ＯＣＲｓ）ｓＯ８１モルを加える。さらに３ ０分間、撹拌を続ける。Ｈ２Ｏ。

（３０％）０．３モルを滴下して加える。この添加期間中は、温度は＋４０℃を 越えてはならない。抽出により仕上げ処理し、フェノール化合物を得る。この生 成物は、結晶化または蒸留によって精製することができる。

このフェノール化合物から、そのフェルレートのＴ旧情液中にＣＨＣＩＦ、を導 入することによって、０ＣＨＦ２誘導体が得られる。抽出により仕上げ処理し、 次いで慣用の方法で精製し、１−〔トランス−４−（トランス−４−ｎ＝プロピ ルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−２−（４−ジフルオロメトキシ−３，５ −ジフルオロフェニル）エタンを得る。

例２〜２３ 同様にして、式■で示される相当する前駆化合物から下記の本発明による化合物 が得られる：ＲｆＡｌ−Ｚｌ）、、−Ａ２−Ｚ２−　Ｑ−Ｙ　Ｌ゛　例２４ ０℃にまで冷却させたオートクレーブ中に、無水フッ化水素酸２モルを注ぎ入れ る。四塩化炭素０．１８モルと１−〔トランス−４−（トランス−４−ｎ−プロ ピルヘキシル）シクロヘキシル）−２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジフルオロ フェニル）エタン０．０６モル（例１）との混合物を次いで加える。この混合物 を、１５ｏ０で約８時間撹拌し、冷却させ、氷水中に注ぎ入れ、次いでこのオー トクレーブをエーテルで洗出する。これらの２相を集め、約３０分間撹拌し、分 離させ、そのエーテル溶液を、アルカリ性になるまで、５％ＫＯ■溶液で洗浄す る。有機相を乾燥させ、濾過し、蒸発させ、次いで残留物を精製し、１−〔トラ ンス−４−（トランス−４−ｎ−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル〕− ２−（４−）リフルオロメトキシ−３，５−ジフルオロフェニル）エタンを得る 。

例２５〜例４５ 同様にして、式■で示される相当する前駆化合物から、下記の化合物が得られる ： Ｒ（ＡＩ−Ｚｌ）−Ａ２−Ｚ２−　Ｑ−Ｙ　Ｌ例４６ ２−フルオロ−４−〔トランス−４−（トランス−４−ｎ−プロピルシクロヘキ シル）シクロヘキシル〕フェノール３１．６９［この化合物は、ビス〔トランス −４−（トランス−４−ｎ−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル〕アニン を４−ブロモ−２−フルオロベンジルフェニルエーテルと交さカップリングさせ ることによって得られる相当するベンジルエーテルから水素添加により得られる 〕および四塩化炭素４９．３９を先ず、Ｈａｓｔｅｌｌｏｙオートクレーブ中に 導入し、ドライアイス／アセトンで冷却させる。

このオートクレーブを脱気させた後に、ＩＩＦ　６６．７９およびＢＦ３１．６ ７９を加える。１５０℃で８時間撹拌した後に、この混合物を室温まで冷却させ 、次いでアスピレータ−を用いて、ＩＦを除去する。残留物を塩化メチレン中に 取り、ＮａＦを加え、残存するＩＦをいずれも、分離する。この混合物を濾過し 、濾液を蒸発させ、残留物をシリカゲル上でクロマトグラフィによって精製し、 次いでヘキサンおよびエタノールから繰返し結晶化させ、２−フルオロ−４−［ ）ランス−４−（トランス−４−ｎ−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル 〕　トリフルオロメトキシベンゼンを得る。

例４７〜６８ 同様にして、相当するフェノール化合物から、下記の化合物が得られる： Ｒ（ＡＩ−Ｚｌ）−Ａ２−２２−　Ｑ−Ｙ　Ｌ例６９〜９１ 例１と同様にして、相当するフェノール化合物から、下記の化合物が得られる： Ｒ（ＡＩ−Ｚｌ）−Ａ２−Ｚ２−　Ｑ−Ｙ　ＬＬ９１）　ｎ−ヘンｆ　ル％　ｏ ＯｔＦ′ｚ　Ｈ’、Ｃ３７ＳＢ（２１１例９９ ＴＩＴＦ　３００ｍ１中の１−〔トランス−４−（トランス−４−ｎ−プロピル シクロヘキシル）シクロヘキシル〕−２−（３，５−ジフルオロフェニル）エタ ン０．１モル（この化合物は、合成経路３に従い製造される）およびＴＭＥＤＡ 　Ｏ，１モルの溶液に、約−６５℃で、ｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン中（７）１．５ Ｍ）０．１モルを滴下して加える。この温度で、撹拌をさらに３０分間続け、次 いでＴＨＦ　７０ｗｒｌ中のＮ−クロロスクシンイミド０．２モルをゆっくり加 える。この添加が完了した後に、この混合物を一２０°まで温め、次いで■２０ により加水分解する。生成物が完全に溶解するまで、ジエチルエーテルを加える 。抽出により仕上げ処理し、次いでクロマトグラフィおよび結晶化により精製し 、１−〔トランス−４−（１−ランス−４−ｎ−プロピルシクロヘキシル）シク ロヘキシル］−２−（４−クロロ−３，５−ジフルオロフェニル）エタンを４６ ゜Ｃ８８Ｎ　１２９１゜例１００〜１４３ 同様にして、式■で示される相当する前駆化合物から、下記の本発明による化合 物が得られる：Ｒ（ＡＩ−Ｚｌ）　−Ａ２−Ｚ２−　Ｑ−Ｙ例１４４ ４−（トランス−４−ｎ−ペンチルシクロヘキシル）−２−フルオロ安息香酸０ ．１モルおよび５Ｆ４０．３モルの混合物を、オートクレーブ中で１３０°にお いて８時間加熱する。得られた粗生成物をペンタン中に取り、抽出により仕上げ 処理する。蒸留および結晶化による慣用の精製によって、４−　（）ランス−４ −ｎ−ペンチルシクロヘキシル）−２−フルオロベンシトリフルオライドが得ら れる。

例１４５ ｎ−ヘキサン１０薦ｌ中の４−（トランス−４−ｎ−プロピルシクロヘキシル） −４’−）リフルオロメチルビフェニル０．０１モルの溶液に、ＴＭＥＤＡ　Ｏ ，０１モルを加える。０〜５℃で、ｎ−ＢｕＬｉ　Ｏ，０１モルを加え、室温で さらに３０分間、次いで４０℃で３０分間撹拌を続ける。この混合物を次いで、 ０℃まで冷却させ、ＴＨＦ　２０ｍ１を加え、次いで合成経路２１に従い、この 温度で、フッ素化剤１−フルオロ−２，４，６−トリメチルピリジニウムトリフ レート（ＴＨＦ中）を滴下して加える。抽出により仕上げ処理し、常法でクロマ トグラフィおよび結晶化を行ない、４−（トランス−４−〇−プロピルシクロヘ キシル）−３′−フルオロ−４′−トリフルオロメチルビフェニルを得る。

例１４６〜１７５ 例１４４または例１４５と同様にして、相当する前駆化合物から、下記の化合物 が得られる： Ｒ（Ａｌ−Ｚｌ）−Ａ２−２２−　Ｑ−Ｙ　Ｌ例１７６ ＣｕＩ　Ｏ，０２５モｋ、ＣＦ、ＣＯＯＮａ　Ｏ，０１２５モルおよびｌ−〔ト ランス−４−（トランス−４−ｎ−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル］ −２−（４−ヨード−３，５−ジフルオロフェニル）エタン０．０１２５モル（ この化合物は、合成経路１５に従い得られる）の混合物を、Ｎ−メチルピロリド ン１００ｍ／中で、撹拌しなから１５ｏ０に加熱する。１時間後に、この混合物 を常法により、抽出仕上げ処理し、次いでクロマトグラフィにより精製した後に 、１−〔トランス−４−（トランス−４−ｎ−プロピルシクロヘキシル）シクロ ヘキシル］　−２−（４−１リフルオロメチル−３，５−ジフルオロフェニル） エタンが得られる。

例１７７〜２０６ 例１７６と同様にして、相当する３、５−ジフルオロフェニル化合物から下記の 化合物が得られる：Ｒ（Ａｌ−Ｚｌ）、−Ａ２−Ｚ２−　Ｑ−Ｙ　Ｌ（１９８） 　ｎ−ブチル％　ＣＦ３　Ｆ例２０７ Ｉ　ＩＩ ■ 化合物Ｉ　３７．１９　（０，１モル）を先ず、ＴＨＦ／　）ルエンの溶媒混合 物（１：４容量比）　１５０ｍ１中に導入し、次いで無水臭化アニン１１．５ｇ を、その後でリチウム顆粒１．４９を加える。この混合物を、０℃〜１０℃で、 アルゴン雰囲気の下に、撹拌しながら、４時間超音波で処理し、化合物■を相当 するジアルキルアニン化合物に変換する。この有機化合物に、化合物Ｕ　２１． １ｇ（０，１モル）および１，１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン −パラジウム（Ｉｆ）ジクロライド（ＰｄＣｌｚ　ｄｐｐｆ）　１．５ｇ（２モ ル％）を加え、次いで超音波浴を取り除きおよび冷却をやめた後に、室温で２４ 時間撹拌する。この混合物を、飽和Ｎ■４ＣＩ！溶液１００１１により撹拌しな がら分解させ、その有機相を分離し、水性相はトルエンで２回抽出する。有機抽 出液を集め、乾燥させ、濃縮し、次いでシリカゲル上でヘキサンを用いてクロマ トグラフィ処理し、化合物■を得る。（化合゛物Ｉは、Ｃ５ｔＬ　ｒ−（）−（ ）−ｃｃｎ、）！−ＣＩ　をマロン酸エステルにより連鎖延長することによって 製造することができる。）化合物Ｉと同様に、下記にあげられているアルキルブ ロマイド化合物を化合物■と反応させることができる： め／〇−＋Ｑ＋。−ｆＯ（ｚ）、−ＢｒＨ３Ｃｏ−（Ｃ１−１２１２−○＊Ｄ簡 ＣＨ２）４−ＢｒＨ５ｃ２ｏ−（Ｏ（２１ｚ−０−＋Ｃ）−ｘ　ＣＨ２）４−８ ｒＨ３ＣＯ−（Ｇ（２１３−○へ）片（ＣＨ２）４−ＢｒＨ３Ｃｏ−（Ｇ（２１ ，−Ｑ−ｆ（）片（ＣＨ２）４−Ｂｒｎ＝ｏ及び１ ｃ５Ｈ，、（）−（Ｏ（２）、−Ｂｒ 及びまた、Ｒ−（（））−０＠　−（Ｏ（□）、−ＢｒＡ−−０−または−ＱＯ −ｎ−０，１ 例２０８ ■ Ｗｉ　ｔｔｉｇ塩化合物Ｉ　５０．９９（０，１モル）およびアルデヒド化合物 １１１７．２ｇ（この化合物は、１−プロモトリフルオロベンゼンとアリルアル コールとのｎｅｃｋ反応によって製造される）に、０℃〜１０℃で、カリウムｔ ｅｒｔ、−ブチレート１１．５９を、少しずつ加える。この添加の後に、混合物 を室温で２４時間撹拌し、水中に注ぎ入れ、中和し、トルエンで抽出し、このト ルエン抽出液を乾燥させ、次いで蒸発させる。この残留物を、ヘキサンを使用し 、シリカゲルに通して濾過する。化合物ｍ　２８９が得られる。

例２０９ Ｆ　Ｆ ｌ　？　旦 １、ＢｕＬｉ、　ＴＨＦ ＣＦ３Ｃｏ□Ｎａ、　Ｃｕ　Ｉ 例２０７と同様にして、化合物２との反応によって、化化合物３　１９．０９　 （４７ミリモル）　、ＴＭＥＤＡ　７．５ｍ／（５０ミリモル）およびＴＲＦ　 １５０謂ｌの混合物に、−６５〜−７０℃で、ｎ−ＢｕＬｉ　（ヘキサン中の１ ５％）　３１ｍ１を滴下して加え、この混合物を引続いて、−７０℃で１時間撹 拌する。ＴＨＦ　２５Ｍ１中のヨー素１２．　ｈ（４７ミリモル）の溶液を次い で、−６５〜−７０℃で滴下して加え、この混合物を引続いて、−７０℃で０． ５時間撹拌する。この混合物を、−３０℃まで温め、水１５ｍ／で加水分解し、 次いで亜硫酸水素ナトリウム溶液１５ｍ１の滴加により、過剰のヨー素を減じる 。慣用の方法で仕上げ処理し、次いでヘキサンから再結晶させ、化合物迭２３． ９９　（４５ミリモル）を得る。化合物４２０．２９　（３８ミリモル）　、Ｋ Ｆ　４．４９（フロミリモル）、三フッ化酢酸ナトリウム２２．８９（１６８ミ リモル）およびＮＩＩＰ　８００ｍ／の混合物から、７０℃および４ミリバール で蒸留することによって、Ｎｉ１Ｐ　４００ｍＪを分離する。この反応混合物に 次いで、乾燥させたＣｕＩ　１４．４ｇ（フロミリモル）を加え、１６０℃で５ 時間撹拌する。次いで、ＮＭＰ約３００８１を蒸留によって分離する。

この混合物を室温まで冷却させ、次いでＭＴＢエーテル３００＋＋Ｊを加える。

この混合物を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４を用いて乾燥させ、濾過し、次いで濃縮 し、残留物を得る。

ヘキサンを使用し、シリカゲル上でクロマトグラフィ処理２１０ レート７．４９およびＴＨＦ　１１０１αの混合物に、−１００℃でｎ−ＢｕＬ ｉ　４（１＋１を滴下して加え、この混合物を引続いて、−１００℃で１時間撹 拌する。ＴＨＦ　６０ｍ１中のヨー素１５．９９の溶液を次いで、−８５〜−９ ０℃で滴下して加える。この混合物を引続いて、−９０℃でさらに０．５時間撹 拌し、−３０℃まで温め、水３０■ｌで加水分解し、次いで濃塩酸で酸性にし、 次いで亜硫酸水素ナトリウム溶液の添加により、過剰のヨー素を減じる。慣用の 方法で仕上げ処理し、次い従い、三フッ化酢酸ナトリウムによる変換によって、 化例２１１ ±　５ ゛　上記合成経路に従い、例２０７と同様に、化合物１を有機アニン化合物に変 換した後に、ＰｄＣＨ）を触媒として、化合物２とカップリング反応させること によって、化合物旦を得る。このベンジルエーテル化合物を水素添加開裂させる と、フェノール化合物４が得られる。

このフェノール化合物４．０９（，０，０１モル）を先ず、ＴＴＩＦ中に導入し 、次いで３２％水酸化ナトリウム溶液３．１ｇおよび硫酸水素テトラブチルアン モニウム０．５９を加え、この混合物を５０℃まで温め、次いでクロロジフルオ ロメタンを撹拌しながら導入し、ドライアイスで冷却されているコンデンサー中 に凝縮させる。冷却後に、傾斜によって、このＴＩＩＦ溶液を沈殿した油状生成 物から分離し、濃縮し、得られた化合物）−をエタノールから再結晶させる。

例２１２ ＴＨＦ　５０＋７！中の４−１）ランス−４−ｎ−プロピルシクロヘキシル）− ２−フルオロ−４′−ブロモビフェニル１５９の溶液に、−７０℃で、ブチルリ チウム（ヘキサン中の１５％）　２５ｍ１を滴下して加え、次いで３０分後に、 ＴＩ’ｌＦ　２５１１１中のＺｎＢｒ２４．５９の冷却した溶液を加える。ＴＨ Ｆ　７５ｍ１中の１−ブロモ−３，４，５−トリフルオロベンゼン８．５ｇおよ びＰｄＣ／！ｚ−ｄｐｐｆ　Ｏ，６９の添加後に、この混合物を室温にする。

２４時間の撹拌の後に、この混合物を飽和Ｎｎ４Ｃｌ溶液１００ｍ／中に注ぎ入 れ、次いで常法により仕上げ処理する。４′−（トランス−４−ｎ−プロピルシ クロヘキシル）−２″、　３．４．５−テトラフルオロターフェニルが得られる 。Ｃ１４８Ｎ　２３３　１０ 同様にして、相当するブロモ芳香族化合物から、下記の化合物が得られる： ４′−ｎ−プロピル−２’、　３．４．５−テトラフルオロターフェニル ４ｌ−ｎ−ベンチルー２’、　３．４．５−テトラフルオロターフェニル ４’−（）ランス−４−メトキシメチルシクロヘキシル）−３，４，５−）リフ ルオロビフェニル例２１３ １−ブロモ−３，４゜５−トリフルオロベンゼン１０．５９、ｐ−エトキシスチ レン７．４ｇ、酢酸Ｐｄ　Ｏ，２５９、トリー〇−トリルホスフィン０．６ｑ、 Ｆリエチルアミン７ｇおよびアセトニトリル１２５ｍ／の混合物を加熱還流させ 、反応を完了させる。慣用の方法で仕上げ処理し、１−（ｐ−エトキシフェニル ）−２−（３，４，５−トリフルオロフェニル）エテノ（Ｃ７６１）を得る。こ の化合物をＴＩＩＦ中において、Ｐｄ−Ｃ（５％）上で水素添加し、１−（ｐ− エトキシフェニル）　−２−（３，４，５−トリフルオロフェニル）エタンを得 る。Ｃ４５Ｎ。

例２１４ 例２１３と同様にして、ｐ−工トキシスチレンおよびｐ−ブロモ−０−フルオロ フェノールのベンジルエーテルから、１−（ｐ−エトキシフェニル）−２−（３ −フルオロ−４−ベンジルオキシフェニル）エテノを得る。ＴＨＦ中において、 Ｐｄ−Ｃ（５％）上で水素添加すると、１−（ｐ−エトキシフェニル）−２−（ ４−ヒドロキシ−３−フルオロフェニル）エタンが得られる。この化合物４１． ３９を硫酸水素テトラブチルアンモニウム５．６ｇとともに、４０℃でＴＨＦ　 ５００＋ｇ／中に溶解する。クロロジフルオロメタン４３９を、少量がドライア イス還流コンデンサー中に凝縮するようにして、この溶液中に導入する。次いで 、Ｎａ０Ｉ（（５０％）３２ｇを、激しく撹拌しながら、１０分間にわたって滴 下して加える３、４０’でさらに１時間撹拌した後に、この混合物を冷却させ、 生成された油状沈殿から溶液を傾斜により分離する。溶媒を蒸発させた後に、残 留物をクロマトグラフィおよび再結晶により精製する。１−　（ｐ−エトキシフ ェニル）−２−（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）エタンが得 られる。Ｃ４３１゜例２１５ Ｂｒ−Ｃ）−０Ｓｉ　（ＣＨ３）　３　Ｚｎ−（−Ｃ）−０Ｓｉ　（ＣＨ３）　 ３）　２ｎＢｒ２ 超音波 ＩＣ２Ｈ５工／ＫＯＨ ↓　２．　Ｈ２／Ｐｄ−Ｃ ＴＨＦ　８０ｗ１中の生成したｐ−（トランス−４−エトキシシクロヘキシル） −〇−フルオロフェノール８．２の溶液に、ＮａＯ［Ｔ（３２％）　ｌ１ｇを加 え、次いでクロロジフルオロメタン１３、８９を導入する（ドライアイス還流コ ンデンサーを使用する）。引続いて、１時間撹拌した後に、傾斜によって、この 溶液を沈殿から分離除去し、次いで濃縮し、残留物を得る。バルブ管蒸留を行な い、ｐ−（トランス−４−エトキシシクロヘキシル）−〇−フルオロジフルオロ メトキシベンゼンを得る。ｂ、ｐ、１〜２２０℃、Ｔｇ−６２°。

例２１６ 例２１４と同様にして、２−ｎ−オクチルオキシ−５，−（３−フルオロ−４− ヒドロキシフェニル）ピリジン〔この化合物は、２．５−ジブロモピリジンをＮ ａＨ／１−オクタツールと反応させ、この２−ｎ−オクチルオキシ−５−ブロモ ピリジンをアニン化合物に変換しくＢｕＬｉ　／　ＺｎＢｒ２／−７０°）、３ −フルオロ−４−アセトキシブロモベンゼンと交さカップリングさせ（ＰｄＣ１ ２ｄｐｐｆ／Ｔｌ１Ｆ）　、次いでそのアセデル基をＫＯＨ／ＭｅＯＨで加水分 解することによって製造される〕から、２−ｎ−オクチルオキシ−５−（３−フ ルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）−ピリジンを得る。Ｃ２９１゜ 同様にして、下記の化合物が製造される：２−ｎ−オクチルー５−（３−フルオ ロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）ピリジン、Ｃ２９１゜ＣＣＰ−５Ｆ、Ｆ 、Ｆ　１２．０も 例Ａ ＰＣＨ−５Ｆ　１０−０％　５４Ｎ　［”Ｃｌ　＜　−４０ＰＣＨ−６Ｆ　７゜ Ｏｌ　透明点　［＠Ｃ］　＋６４ＰＣＢ−７Ｆ　１５．０％　粘度　２０’Ｃ１ ４ＣＣＰ−２０ＣＦ３１０．０ｔ　ａｎ　（５Ｂ９　ｎｍ、　２０°Ｃ）　０． ０８００ＣＣＰ−３０ＣＦ３　１２．０ｔ　ｎ、（５８９ｎｍ、２０’Ｃ）　１ ．５５フロＣＣＰ−４０ＣＦ、　８．０％　Ｖ、。、ｏ、ｚａ）　１．６１ＣＣ Ｐ−５０ＣＦ　１２．０％　Ｖ、３．．２．、　２．０４ＣＣｐ−３Ｆ、Ｆ、Ｆ 　ＬＯ，Ｏｔ　Ｖ、９゜、。５□。、　２．６６８ＣＨ−５Ｆ、Ｆ　１６．０％ 例Ｂ ＰＣＨ−５Ｆ　１２．０％　Ｓ　−Ｎ　［”Ｃｌ　＜　−３０ＰＣ）（−７Ｆ　 ８．０１　透明点　［＠Ｃ］　＋８０ＣＣＰ−２０ＣＦ、１０．０％　粘度２０ °Ｃ−ＣＣＰ−３０ＣＦ、１２．０％　Ａｎ　（５Ｂ９　ｎｍ、　２０”Ｃ）　 ＋０−０７５６ＣＣＰ−４０ＣＦ　８．０＆　ｎ、　（５Ｂ９　ｎｍ、　２０° Ｃ）　１．５４８９ＣＣＰ−５０ＣＦ　１２−０％　Ｖ、、。、ｏ、ｚｏ＞　１ ．６６ＥＣＰ−３Ｆ、Ｆ　１２．（ｎ　Ｖ、、。、２゜、　２．１２ＣＣＰ−３ Ｆ、Ｆ、Ｆ　１４．０％　Ｖ、ｇ、、２．、　２．７３例Ｆ 江区 ＰＣＩ−５Ｆ　１２．０ｔ　Ｓ　−Ｎ　［”ＣｌＰＣＢ−７Ｆ　７．Ｈ透明点　 ［’Ｃ１＋７８ＣＣＰ−２０ＣＦ　１０．（１％　粘度２０’″Ｃ１６ＣＣＰ− ３０ＣＦ　１２．０ｊ　ａｎ　（５Ｂ９　ｎｍ、　２０＠Ｃ）　０．０８４４Ｃ ＣＰ−４０ＣＦ、　８．０％　ｎ、　（５Ｂ９　ｎｍ、　２０°Ｃ）　１．５６ １０ＣＣＰ−５０ＣＦ　１２．０％　Ｖ、１．．２．、　１．６１８ＣＰ−３Ｆ 、Ｆ　Ｂ、０％　ｖ、ｓｏ、ｏ、ｚｏ）　２　、０６８ＣＩ（−５Ｐ、Ｆ　６． ０％　Ｖ、、、、２゜、　２．７２ＣＣＰ−３Ｆ、Ｆ、Ｆ　１３．０％ ＣＣＰ−５Ｆ、Ｆ、Ｆ　１２．０％ 例Ｄ ＰＣＢ−５Ｆ　１２．０も　５４Ｎ　［”Ｃｌ　−ＰＣＨ（−７Ｆ　８．０も　 透明点　じＣｌ　＋７７ＣＣＰ−２０ＣＦ　１０．０隻　粘度２０＠Ｃ−ＣＣＰ −３０ＣＦ、１２．Ｍ　ａｎ　（５８９ｎｍ、　２０”Ｃ１＋０．０８４７ＣＣ Ｐ−４０ＣＦ　８．０ｔ　ｎ、　（５Ｂ９　ｎｍ、　２０＠Ｃ）　１．５６０５ ＣＣＰ−５０ＣＦ３　１２．０％　Ｖ（１，ｏ、、口、　１　°５９ＢＣＰ−３ Ｆ＋Ｆ、？　１４．０％　Ｖ（５ｏ、ｏ、２ｏ、　−ＥＣＣＰ−３Ｆ＋Ｆ　１２ −０％　Ｖｎｏ、ｏ、ｚｏｒＣＣＰ−５Ｆ、Ｆ、Ｆ　、１２．−〇％ＰＣＩ（− ７Ｆ９＋０龜　透明点　［’Ｃ］　＋７５ＣＣＰ−２０ＣＦ　８．０隻　粘度２ ０”Ｃ−ＣＣＰ−３０ＣＦ　１０．０％　ａｎ　（５Ｂ９　ｎｍ、　２０”Ｃ） 　＋０．０８７６ＣＣＰ−４０ＣＦ３７．０％　ｎ、　（５Ｂ９　ｒｕｎ、　２ ０’Ｃ）　１．５６６６ＣＣＰ−５０ＣＦ　］、Ｏ，Ｏ％　Ｖ［Ｘ、、、２．、 　１．５１８ＣＰ−３Ｆ、Ｆ　ｌｏ、０％　Ｖ、、、２ｏ、　１．９５ＢＣＨ− ５Ｆ、Ｆ　１０．０％　、　Ｖ、、、２゜、２．５４ＣＣＰ−３Ｆ、Ｆ、Ｆ　１ ３−０％ ＣＣＰ−５Ｆ、Ｆ、Ｆ　１２．０亀 ＰＣＩ−５Ｆ　１２．０％　Ｓ　、　Ｎ　［”Ｃｌ　−ＰＣＨ−７Ｆ　７．０％ 　透明点［”Ｃ１＋７６ＣＣＰ−２０ＣＦ、　１０．０％　帖　Ｗ　２ｎ”ｒ　 −国際調査報告 国際調査報告

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. １．式Ｉ ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは、Ｈであり、あるいはＲは、炭素原子１〜１５個を有するアルキル 基またはアルケニル基であり、この基は、非置換であるか、あるいは置換基とし て１個のＣＮまたはＣＦ３を有するか、あるいは置換基として少なくとも１個の ハロゲンを有しており、そしてこれらの基中に存在する１個または２個以上のＣ Ｈ２基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、Ｏ原子が相互に直接に結合しな いものとして、−Ｏ−、−Ｓ−、▲数式、化学式、表等があります▼、−ＣＯ− 、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−により置き換えられてい てもよく、 Ａ′およびＡ２は、それぞれ相互に独立して、（ａ）トランス−１，４−シクロ ヘキシレン基（この基中に存在する１個のＣＨ２基または隣接していない２個以 上のＣＨ２基はまた、−Ｏ−および（または）−Ｓ−により置き換えられていて もよい）、 （ｂ）１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個または２個のＣＨ基はま た、Ｎにより置き換えられていてもよい）、 （ｃ）１，４−シクロヘキセニレン、１，４−ビシクロ（２．２．２）オクチレ ン、ピペリジン−１，４−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、デカヒドロナ フタレン−２，６−ジイルおよび１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２ ，６−ジイルよりなる群からの基 であり、上記の基（ａ）および基（ｂ）は、場合によりＣＮまたはフッ素により 置換されていてもよく、Ｚ１およびＺ２は、それぞれ相互に独立して、−ＣＯ− Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ ＣＨ−、−Ｃ■Ｃ−または単結合であり、あるいは基Ｚ１および基Ｚ２のうちの 一つはまた、−（ＣＨ２）４−または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２ＣＨ２−であること ができ、 Ｌは、ＨまたはＦであり、 ｍは、０、１または２であり、 Ｙは、ＦまたはＣｌであり、そして Ｑは、単結合、−ＣＦ２−、−ＯＣＦ２−または−ＯＣＨＦ−である、ただし、 Ｑが単結合である場合には、ＬはＦである〕で示されるフルオロベンゼン誘導体 。
2. ２．液晶相の成分として、式Ｉで示される化合物を使用すること。
3. ３．少なくとも２種の液晶成分を含有する液晶相であって、式Ｉで示される化合 物のうちの少なくとも１種を含有することを特徴とする液晶相。
4. ４．請求項３に記載の液晶相を含有することを特徴とする液晶表示素子。
5. ５．誘電体として、請求項３に記載の液晶相を含有することを特徴とする電気光 学表示素子。