JPH0428088A - 半導体集積回路チップ - Google Patents
半導体集積回路チップInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体集積回路チップに係り、特に同種のチッ
プであるか否かをテストを通じて判るための識別回路を
チップ内部に具備した半導体集積回路チップに関するも
のである。
プであるか否かをテストを通じて判るための識別回路を
チップ内部に具備した半導体集積回路チップに関するも
のである。
最近、半導体技術の発展とともに産業の全分野にわたっ
て電子システム化されてゆく傾向である。
て電子システム化されてゆく傾向である。
したがって、各分野の特殊性があるので、適切な電子シ
ステムの特性化が要求されている。
ステムの特性化が要求されている。
ところで、単導体製造業者は使用者の多様の要求に応じ
て製品の多様化に努力している。例えば、最近[)RA
Mの記憶容量がMbit単位に増えることにしたがい、
基本動作モード以外の多様の新しい動作モードの開発が
なされている。
て製品の多様化に努力している。例えば、最近[)RA
Mの記憶容量がMbit単位に増えることにしたがい、
基本動作モード以外の多様の新しい動作モードの開発が
なされている。
すなわち、現在の1Mあるいは4MDRAMでは、出力
されるデータの数によって1bit。
されるデータの数によって1bit。
4bit、8bitなどに分類され、入力される制卸信
号によって高速ページ(Fast Page)モード、
ニブル(Nibble)モード、スタチックコラム(S
tatic Column)モードなどに分類されてい
る。
号によって高速ページ(Fast Page)モード、
ニブル(Nibble)モード、スタチックコラム(S
tatic Column)モードなどに分類されてい
る。
したがって、DRAM供給者は使用者の要求に応じるた
め、DRAMの基本動作モード以外の動作モードを製造
工程段階でオプション処理することによって特定動作モ
ードが行なわれるようにし、いろいろの選択された動作
モードによって互いに異なるモードを行なう多様なりR
AMを提供している。例えば、1つのDRAM製造ライ
ンで^速ベージモードを基本動作モードにし、製造段階
でオプション処理することによってニブルモードもしく
はスタチックコラムモードのDRAMがそれぞれ生産さ
れている。これらのオプション処理はウェハ単位に処理
され各モード別に分類されている。その後、製造後工程
(組立工程)でウェハはスクライビング(scribi
ng)工程を通して個別のダイヤチップ状に分離され、
分離されたダイは特定のパッケージにダイマウンティン
グ、ワイヤボンディングおよびモールディングなどの過
程を経てパッケージングされ、製品検査を通じて製品の
番号、製造日付、製造ラインなどのデータが表記され最
終製品出荷することになる。
め、DRAMの基本動作モード以外の動作モードを製造
工程段階でオプション処理することによって特定動作モ
ードが行なわれるようにし、いろいろの選択された動作
モードによって互いに異なるモードを行なう多様なりR
AMを提供している。例えば、1つのDRAM製造ライ
ンで^速ベージモードを基本動作モードにし、製造段階
でオプション処理することによってニブルモードもしく
はスタチックコラムモードのDRAMがそれぞれ生産さ
れている。これらのオプション処理はウェハ単位に処理
され各モード別に分類されている。その後、製造後工程
(組立工程)でウェハはスクライビング(scribi
ng)工程を通して個別のダイヤチップ状に分離され、
分離されたダイは特定のパッケージにダイマウンティン
グ、ワイヤボンディングおよびモールディングなどの過
程を経てパッケージングされ、製品検査を通じて製品の
番号、製造日付、製造ラインなどのデータが表記され最
終製品出荷することになる。
しかし、前記工程で前述したDRAMの場合においては
、モード別に分離されたダイあるいはチップが同一ライ
ンで生産されるので、ダイ状態に取り扱われる過程で互
いに混ざることも時々発生される。このように混ざる場
合、次の工程のテスト過程で異なる動作モードの製品は
エラー判定を受け、不良処理されるのでかなりの生産収
率を落とす原因となる。また、互いに異なる特性のダイ
が混ざらないようにするためには細かい注意を要するの
で作業能率を落とす。
、モード別に分離されたダイあるいはチップが同一ライ
ンで生産されるので、ダイ状態に取り扱われる過程で互
いに混ざることも時々発生される。このように混ざる場
合、次の工程のテスト過程で異なる動作モードの製品は
エラー判定を受け、不良処理されるのでかなりの生産収
率を落とす原因となる。また、互いに異なる特性のダイ
が混ざらないようにするためには細かい注意を要するの
で作業能率を落とす。
したがって、互いに異なるモードのダイか混ざってパッ
ケージングされるといえども、テスト過程で同種のチッ
プが分類もしくは識別できる技術が要求されている。
ケージングされるといえども、テスト過程で同種のチッ
プが分類もしくは識別できる技術が要求されている。
このような半導体チップ識別技術としては米国特許第4
.150.331号明細書および同第4.510,67
3号明細書等に開示されている。
.150.331号明細書および同第4.510,67
3号明細書等に開示されている。
前記米国特許第4,150,331号明細書には、プロ
グラムできる回路装置をチップ表面に使ってそれぞれの
チップを識別することを開示している。その回路装置は
別途に具備される診断ビンと選択された入出力との間に
ダイオードの形成有無による識別コードをプログラムさ
せるようになっているものである。
グラムできる回路装置をチップ表面に使ってそれぞれの
チップを識別することを開示している。その回路装置は
別途に具備される診断ビンと選択された入出力との間に
ダイオードの形成有無による識別コードをプログラムさ
せるようになっているものである。
これは別途な診断ビンを備えなければならないので、半
導体チップの値段に大きい影響を及ぼすパッケージのサ
イズが大きくなるという短所を有している。
導体チップの値段に大きい影響を及ぼすパッケージのサ
イズが大きくなるという短所を有している。
他方の前記米国特許第4,510.673号明細書紀は
、半導体チップの裏面にレーザーを使って特定識別表示
を記入し、この識別表示をレーザーもしくは光学機構を
使って機械あるいは人間が識別することのできるように
した技術が開示されている。この特許の技術は製造ライ
ン、生産年月日などの特定識別表示をするためには高価
なレーザー装置を備えなければならないという短所を有
する。
、半導体チップの裏面にレーザーを使って特定識別表示
を記入し、この識別表示をレーザーもしくは光学機構を
使って機械あるいは人間が識別することのできるように
した技術が開示されている。この特許の技術は製造ライ
ン、生産年月日などの特定識別表示をするためには高価
なレーザー装置を備えなければならないという短所を有
する。
本発明の目的は、前述のような従来技術の問題点を解決
するために、別途の診断ビンの追加が不要な新たな方式
の識別回路を備えた半導体集積回路チップを提供するこ
とにある。
するために、別途の診断ビンの追加が不要な新たな方式
の識別回路を備えた半導体集積回路チップを提供するこ
とにある。
本発明の他の目的は、半導体チップの識別表示がとても
容易で簡単な識別回路を備えた半導体集積回路チップを
提供することにある。
容易で簡単な識別回路を備えた半導体集積回路チップを
提供することにある。
前記目的を達成するため、請求項第1項の本発明の半導
体集積回路チップは、1対の電源供給端子と入力端子を
有する半導体集積回路チップにおいて、前記いずれか1
つの電源供給端子とひとつの入力端子との閤に識別回路
を具備し、この識別回路は、前記電源供給端子と前記入
力端子との間の入力電位差をリミッティングさせるため
にあらかじめ決定された入力ロジックレベルを有する電
圧リミッタと、この電圧リミッタに直列に連結され、チ
ップ製造段階で電圧リミッタとの電流通路を形成するか
否かによってチップ識別情報を決定するオプション手段
とを具備することを特徴とする。
体集積回路チップは、1対の電源供給端子と入力端子を
有する半導体集積回路チップにおいて、前記いずれか1
つの電源供給端子とひとつの入力端子との閤に識別回路
を具備し、この識別回路は、前記電源供給端子と前記入
力端子との間の入力電位差をリミッティングさせるため
にあらかじめ決定された入力ロジックレベルを有する電
圧リミッタと、この電圧リミッタに直列に連結され、チ
ップ製造段階で電圧リミッタとの電流通路を形成するか
否かによってチップ識別情報を決定するオプション手段
とを具備することを特徴とする。
また、請求項第2項の半導体集積回路チップは、前記電
圧リミッタは、ゲートがドレーンに連結されたMOS
トランジスタを複数個直列に連結して、これらMOSト
ランジスタのゲート対ソースの1稈電圧値の和にリミッ
ティング電圧を設定したことを特徴とする。
圧リミッタは、ゲートがドレーンに連結されたMOS
トランジスタを複数個直列に連結して、これらMOSト
ランジスタのゲート対ソースの1稈電圧値の和にリミッ
ティング電圧を設定したことを特徴とする。
ざらに、請求項第3項の半導体*w4回路チップは、前
記オプション手段をチップ製造工程段階でヒユーズで形
成し、このヒユーズの溶断有無を以てオプション処理が
行なわれることを特徴とする。
記オプション手段をチップ製造工程段階でヒユーズで形
成し、このヒユーズの溶断有無を以てオプション処理が
行なわれることを特徴とする。
さらにまた、請求項第4項の半導体集積回路チップは、
前記オプション手段は、チップ製造工程段階で金属マス
クによる金属配線の形成有無を以てオプション処理が行
なわれることを特徴とする。
前記オプション手段は、チップ製造工程段階で金属マス
クによる金属配線の形成有無を以てオプション処理が行
なわれることを特徴とする。
さらに、請求項第5項の半導体集積回路チップは、前記
オプション手段は、ゲートがドレーンに連結されたMO
Sトランジスタと、このMOSトランジスタに直列に連
結されたヒユーズとの組合わせを複数個並列連結し、前
記ヒユーズの溶断された数によってオプション処理が行
なわれることを特徴とする。
オプション手段は、ゲートがドレーンに連結されたMO
Sトランジスタと、このMOSトランジスタに直列に連
結されたヒユーズとの組合わせを複数個並列連結し、前
記ヒユーズの溶断された数によってオプション処理が行
なわれることを特徴とする。
さらにまた、請求項第6項の半導体集積回路チップは、
1対の電源供給端子と少なくとも3つ以上の入力端子を
有する半導体集積回路チップにおいて、前記いずれか1
つの電源供給端子と前記3つの入力端子のうち3つの入
力端子がそれぞれ連結された識別回路を具備し、この識
別回路は、前記電源供給端子と前記3つの入力端子のう
ちいずれかひとつの入力端子との間の電位差をあらかじ
め決定された入力ロジックレベルに制限させ、このリミ
ッティングされた入力ロジックレベルを分圧して所定レ
ベルの制限電圧を発生するための電圧リミッタと、前記
3つの入力端子のうち残りの2つの入力端子の間の1!
流の流れをチップ製造工程段階で決定するためのオプシ
ョン手段と、前記オプション手段に直列に連結され前記
電圧リミッタから供給される前記制御電圧によりターン
オンされるスイッチ手段とを具備することを特徴とする
。
1対の電源供給端子と少なくとも3つ以上の入力端子を
有する半導体集積回路チップにおいて、前記いずれか1
つの電源供給端子と前記3つの入力端子のうち3つの入
力端子がそれぞれ連結された識別回路を具備し、この識
別回路は、前記電源供給端子と前記3つの入力端子のう
ちいずれかひとつの入力端子との間の電位差をあらかじ
め決定された入力ロジックレベルに制限させ、このリミ
ッティングされた入力ロジックレベルを分圧して所定レ
ベルの制限電圧を発生するための電圧リミッタと、前記
3つの入力端子のうち残りの2つの入力端子の間の1!
流の流れをチップ製造工程段階で決定するためのオプシ
ョン手段と、前記オプション手段に直列に連結され前記
電圧リミッタから供給される前記制御電圧によりターン
オンされるスイッチ手段とを具備することを特徴とする
。
また、請求項第7項の半導体集積回路チップは、前記電
圧リミッタは、ゲートがドレーンに連なるMOSトラン
ジスタのダイオード構成の複数個と、抵抗を直列連結し
て、前記抵抗両端に分圧される電圧を前記スイッチ手段
に供給する制御電圧を発生することを特徴とする。
圧リミッタは、ゲートがドレーンに連なるMOSトラン
ジスタのダイオード構成の複数個と、抵抗を直列連結し
て、前記抵抗両端に分圧される電圧を前記スイッチ手段
に供給する制御電圧を発生することを特徴とする。
さらに、請求項第8項の半導体集積回路チップは、前記
オプション手段は複数個のヒユーズを含み、該各複数個
のヒユーズと直列接続された複数個のMOS トランジ
スタを含み、該MO8)−ランジスタはそのゲートに印
加される制御電圧によってターンオンされ、前記チップ
の識別情報は前記ヒユーズの溶断個数により決定される
ことを特徴とする。
オプション手段は複数個のヒユーズを含み、該各複数個
のヒユーズと直列接続された複数個のMOS トランジ
スタを含み、該MO8)−ランジスタはそのゲートに印
加される制御電圧によってターンオンされ、前記チップ
の識別情報は前記ヒユーズの溶断個数により決定される
ことを特徴とする。
請求項第1項から第8項記載の本発明による半導体集積
回路チップでは、ウェハ製造工程で簡単な回路連結有無
を選択することによって、チップ識別情報を書き込める
し、通常の組立工程のテスト段階でこの識別情報を判読
することによって、同種のチップを識別することができ
る。
回路チップでは、ウェハ製造工程で簡単な回路連結有無
を選択することによって、チップ識別情報を書き込める
し、通常の組立工程のテスト段階でこの識別情報を判読
することによって、同種のチップを識別することができ
る。
これにより、本発明は別途の診断ピンのようなビンの追
加なしにチップの識別回路を採用することができる。
加なしにチップの識別回路を採用することができる。
以下、図面を参照して本発明の望ましい実施例を脱明す
る。
る。
第1図は本発明による一実施例の識別回路を備えた半導
体集積回路チップの構成図である。
体集積回路チップの構成図である。
第1図で通常の集積回路チップ1は内部回路10、入力
保護回路PC1〜PCO1出力バッファ81〜Bn1入
力端子IN1〜■Nn、出力端子0UT1〜0UTn、
電源供給端子vdd、vssを含む。集積回路チップ1
は図示していない動作電源から、たとえば、5vの電圧
が電源供給端子Vddに加わるように連結され、電源供
給端子■SSにはグラウンド電位が加わるように連なり
動作電源を受は入れる。内部回路10は前記電源供給端
子vdd、 Vssから動作電圧の供給を受け、入力端
子INI〜INnに加わる入力信号を受けて与えられた
機能を行って出力端子○LJT1〜0UTnに所定の出
力信号を発生する。前記入力端子IN1〜INnは端子
に加わるサージ等のノイズ電圧から内部回路1oの破損
を防止するための入力保護回路PC1〜PCnを通じて
内部回路1゜とそれぞれ連結されている。出力端子ou
”ri〜0LJTnは出力バッファ81〜Bnを通じて
内部回路10とそれぞれ連結されている。
保護回路PC1〜PCO1出力バッファ81〜Bn1入
力端子IN1〜■Nn、出力端子0UT1〜0UTn、
電源供給端子vdd、vssを含む。集積回路チップ1
は図示していない動作電源から、たとえば、5vの電圧
が電源供給端子Vddに加わるように連結され、電源供
給端子■SSにはグラウンド電位が加わるように連なり
動作電源を受は入れる。内部回路10は前記電源供給端
子vdd、 Vssから動作電圧の供給を受け、入力端
子INI〜INnに加わる入力信号を受けて与えられた
機能を行って出力端子○LJT1〜0UTnに所定の出
力信号を発生する。前記入力端子IN1〜INnは端子
に加わるサージ等のノイズ電圧から内部回路1oの破損
を防止するための入力保護回路PC1〜PCnを通じて
内部回路1゜とそれぞれ連結されている。出力端子ou
”ri〜0LJTnは出力バッファ81〜Bnを通じて
内部回路10とそれぞれ連結されている。
このような集積回路チップ1のいずれが1つの入力端子
IN1と電源供給端子VSSとの間に本発明による識別
回路2C1設けられている。この識別回路20は電圧リ
ミッタ22とオプション手段24を備える。
IN1と電源供給端子VSSとの間に本発明による識別
回路2C1設けられている。この識別回路20は電圧リ
ミッタ22とオプション手段24を備える。
電圧リミッタ22は、入力端子INIと電源供給端子V
ssとの間に加わる入力信号を内部回路10で受は入れ
るあらかじめ決定されたロジックレベルにレベルリミッ
ティングさせるためのものであり、ドレーンにゲートが
つながったMOSトランジスタスタ〜Mnのダイオード
構成を複数個直列に連結して構成されている。これは各
MO8l−ランジスタM1〜Mnの臨界電圧(rhre
sho+dvo+tage)の和に前記あらかじめ決定
されたロジックレベルを設定することができる。例えば
、入力端子にTTLレベルが加わる場合はおよそ2.5
V以上、CMOSレベルが加わる場合はおよそ+3v以
上に設定されるのであろう。ここではMOS t−ラン
ジスタのダイオード連結構成を使用したが、PN接合ダ
イオードもしくはツェナダイオード(Zener Di
ode)などの一方向電流導通素子である臨界電圧をも
つ素子ならば同様にして適用することができる。
ssとの間に加わる入力信号を内部回路10で受は入れ
るあらかじめ決定されたロジックレベルにレベルリミッ
ティングさせるためのものであり、ドレーンにゲートが
つながったMOSトランジスタスタ〜Mnのダイオード
構成を複数個直列に連結して構成されている。これは各
MO8l−ランジスタM1〜Mnの臨界電圧(rhre
sho+dvo+tage)の和に前記あらかじめ決定
されたロジックレベルを設定することができる。例えば
、入力端子にTTLレベルが加わる場合はおよそ2.5
V以上、CMOSレベルが加わる場合はおよそ+3v以
上に設定されるのであろう。ここではMOS t−ラン
ジスタのダイオード連結構成を使用したが、PN接合ダ
イオードもしくはツェナダイオード(Zener Di
ode)などの一方向電流導通素子である臨界電圧をも
つ素子ならば同様にして適用することができる。
オプション手段24は前記電圧リミッタ22を通じて流
れる電流の流れをウェハ製造工程中に決定するためのも
ので、電圧リミッタ22に直列に接続されている。オプ
ション手段24を備えるため、ウェハ製造工程でよく使
われるヒユーズFUもしくは金属配線マスクを通じた配
線形成の有無などの簡単なオプション処理技術が採用さ
れる。
れる電流の流れをウェハ製造工程中に決定するためのも
ので、電圧リミッタ22に直列に接続されている。オプ
ション手段24を備えるため、ウェハ製造工程でよく使
われるヒユーズFUもしくは金属配線マスクを通じた配
線形成の有無などの簡単なオプション処理技術が採用さ
れる。
本実施例ではヒユーズFUを形成してこのヒユーズFU
をそのまま連結状態におくか、それともし−サージvy
ピング(laser zappir+g)工程を通じて
切るかのオプション処理によって同種のチップ識別情報
を記入することになる。例えば、DRAMの製造工程で
前記ヒユーズFUをそのまま連結状態に維持した状態の
チップを高速ベージモード動作用DRAMと規定すれば
、ニブルモード動作用DRAMの場合、前記ヒユーズを
溶解させて断線処理することによって、2つの土−ドの
DRAMの分類・識別ができる。すなわち、このように
識別処理されたチップを組立工程のテスト段階で、前記
入力端子IN1には所定の高電圧源2、例えば+15■
位の電圧源を連結し、電源供給端子VSSには電流計3
を連結してこれを通じて電流の流れの有無をチエツクす
ることによって、電流が流れると高速ベージモード動作
用DRAMであり、電流が流れないとニブルモード動作
用DRAMであることを識別することができる。
をそのまま連結状態におくか、それともし−サージvy
ピング(laser zappir+g)工程を通じて
切るかのオプション処理によって同種のチップ識別情報
を記入することになる。例えば、DRAMの製造工程で
前記ヒユーズFUをそのまま連結状態に維持した状態の
チップを高速ベージモード動作用DRAMと規定すれば
、ニブルモード動作用DRAMの場合、前記ヒユーズを
溶解させて断線処理することによって、2つの土−ドの
DRAMの分類・識別ができる。すなわち、このように
識別処理されたチップを組立工程のテスト段階で、前記
入力端子IN1には所定の高電圧源2、例えば+15■
位の電圧源を連結し、電源供給端子VSSには電流計3
を連結してこれを通じて電流の流れの有無をチエツクす
ることによって、電流が流れると高速ベージモード動作
用DRAMであり、電流が流れないとニブルモード動作
用DRAMであることを識別することができる。
ここで、ニブルモードの場合、ヒユーズが溶断されるの
で、チップの正常の動作時には識別回路20の有無に関
係なく入力信号が内部回路10に伝達されるが、高速ベ
ージモードの場合、もし電圧リミッタ22がなければ入
力端子IN1にはヒユーズFLIを通じていつも論理“
0″の状態となろう。このような状況を電圧リミッタ2
2により防止できる。すなわち、入力端子INIに論理
″0”が加わるときには、内部回路10に識別回路20
の連結の有無に関係なく論理“0”が入力されるが、論
理“1Nが加わるときは、識別回路20を通じて電流が
流れるので電圧リミッタ22で所定電位差を発生させて
、内部回路10に論理“1″状態が入力される。
で、チップの正常の動作時には識別回路20の有無に関
係なく入力信号が内部回路10に伝達されるが、高速ベ
ージモードの場合、もし電圧リミッタ22がなければ入
力端子IN1にはヒユーズFLIを通じていつも論理“
0″の状態となろう。このような状況を電圧リミッタ2
2により防止できる。すなわち、入力端子INIに論理
″0”が加わるときには、内部回路10に識別回路20
の連結の有無に関係なく論理“0”が入力されるが、論
理“1Nが加わるときは、識別回路20を通じて電流が
流れるので電圧リミッタ22で所定電位差を発生させて
、内部回路10に論理“1″状態が入力される。
前記識別回路20は入力保護回路PC1を通じて入力端
子IN1と連結されるのが望ましい。これは外部サージ
などから識別回路20を保護してくれる。
子IN1と連結されるのが望ましい。これは外部サージ
などから識別回路20を保護してくれる。
第2図は第1図の他の実施例で、これは第1図に図示さ
れた実施例とは異なる電源供給端子Vddと入力端子I
NIとの間に識別回路20を連結したもので、その他の
構成は第1図と同一である。
れた実施例とは異なる電源供給端子Vddと入力端子I
NIとの間に識別回路20を連結したもので、その他の
構成は第1図と同一である。
識別テスト時に入力端子IN1に加わる。+15■が供
給電圧Vddから供給される供給電圧+5■よりも高い
電圧値を有するのでその動作原理においても第1図と同
一である。
給電圧Vddから供給される供給電圧+5■よりも高い
電圧値を有するのでその動作原理においても第1図と同
一である。
第3図は二種類以上のチップを識別するためにオプショ
ン手段24を変形させたものである。
ン手段24を変形させたものである。
第3図において、オプション手段24Aはゲートがドレ
ーンに連結されたMOSトランジスタスタ1〜MAnと
、各MOSトランジスタMAI〜MAnに直列にそれぞ
れ連結されたヒユーズFU1〜FUnを組合わせたもの
を互いに並列連結して構成されている。
ーンに連結されたMOSトランジスタスタ1〜MAnと
、各MOSトランジスタMAI〜MAnに直列にそれぞ
れ連結されたヒユーズFU1〜FUnを組合わせたもの
を互いに並列連結して構成されている。
前記のような回路構成によるチップ識別のためにはオプ
ション手段24Aを通過した電流量の大小で、識別情報
を下記の表1のように付与することができる。
ション手段24Aを通過した電流量の大小で、識別情報
を下記の表1のように付与することができる。
第4図は二種類以上のチップを識別するための変形され
た識別回路の実施例を示す。第4図において識別回路3
0には電源供給端子Vssと3つの入力端子IN1〜I
Nnが連結される。この識別回路30は電圧リミッタ3
2、オプション手段34およびスイッチ手段36を具備
する。
た識別回路の実施例を示す。第4図において識別回路3
0には電源供給端子Vssと3つの入力端子IN1〜I
Nnが連結される。この識別回路30は電圧リミッタ3
2、オプション手段34およびスイッチ手段36を具備
する。
電圧リミッタ32は入力端子IN3と電源供給端子VS
Sとの間に加わる入力電位差を内部回路10で受は入れ
るロジックレベルでリミッティングさせ、またこのリミ
ッティングされたロジックレベルを分圧して所定の制御
電圧VRを生ずるように構成する。この電圧リミッタ3
2はゲートをドレーンに連結したMOSトランジスタス
タ1〜MBnのダイオード構成を複数個直列に連結した
ものと、抵抗Rを入力端子IN3と電源供給端子VSs
との間に直列に連結して形成されている。前記抵抗Rの
両端に分配される電圧はスイッチ手段36に制御電圧V
Rとして供給される。
Sとの間に加わる入力電位差を内部回路10で受は入れ
るロジックレベルでリミッティングさせ、またこのリミ
ッティングされたロジックレベルを分圧して所定の制御
電圧VRを生ずるように構成する。この電圧リミッタ3
2はゲートをドレーンに連結したMOSトランジスタス
タ1〜MBnのダイオード構成を複数個直列に連結した
ものと、抵抗Rを入力端子IN3と電源供給端子VSs
との間に直列に連結して形成されている。前記抵抗Rの
両端に分配される電圧はスイッチ手段36に制御電圧V
Rとして供給される。
スイッチ手段36は、入力端子IN3と入力端子IN2
との間に連結されるオプション手段34に直列に連結さ
れ、電流の流れをスイッチングするためのものであって
、前述した電圧リミッタ32の制御電圧VRによってタ
ーンオンされよう連結されている。このスイッチ手段3
6は、ドレーンが入力端子INIに連結され、ゲートに
制御電圧VRが加わりソースが、下記するオプション手
段34の各対応するヒユーズFUA1〜FUAnに連結
されたMOS トランジスタMC1〜MCnにより構成
されている。
との間に連結されるオプション手段34に直列に連結さ
れ、電流の流れをスイッチングするためのものであって
、前述した電圧リミッタ32の制御電圧VRによってタ
ーンオンされよう連結されている。このスイッチ手段3
6は、ドレーンが入力端子INIに連結され、ゲートに
制御電圧VRが加わりソースが、下記するオプション手
段34の各対応するヒユーズFUA1〜FUAnに連結
されたMOS トランジスタMC1〜MCnにより構成
されている。
本実施例ではオプション手段34を複数個のヒユーズF
LIAI〜FLIAnによって構成している。これらの
各ヒユーズFUAI〜FUAnはスイッチ手段36の各
MO8トランジスタMC1〜MCnにそれぞれ連結され
ている。これらの各ヒユーズFUA1〜FUAnとMo
sトランジスタスタ1〜MCnとの直列接続を、入力端
子IN1と入力端子IN2との間に並列接続している。
LIAI〜FLIAnによって構成している。これらの
各ヒユーズFUAI〜FUAnはスイッチ手段36の各
MO8トランジスタMC1〜MCnにそれぞれ連結され
ている。これらの各ヒユーズFUA1〜FUAnとMo
sトランジスタスタ1〜MCnとの直列接続を、入力端
子IN1と入力端子IN2との間に並列接続している。
ここで、オプション手段34の各ヒユーズFtJA1〜
FUAnは、ウェハ製造工程段階で溶断有無を選択する
ことによって所望の識別情報を提供する。
FUAnは、ウェハ製造工程段階で溶断有無を選択する
ことによって所望の識別情報を提供する。
前述した実施例の識別回路を具備したチップを識別する
ため、入力端子IN1には、例えば+5Vの所定の電圧
源■を連結し、入力端子IN2には電流計Aを連結し、
入力端子IN3と電源供給端子Vとの間に、例えば15
Vの高電圧源HVを連結する。このような電源印加時に
、電圧リミッタ32を通じて電流が流れるようになり、
抵抗Rでは所定電圧が分配され制御電圧VRが発1され
る。この制御電圧VRによりスイッチング手段36の各
MOSトランジスタMC1〜MCnがターンオンされる
。
ため、入力端子IN1には、例えば+5Vの所定の電圧
源■を連結し、入力端子IN2には電流計Aを連結し、
入力端子IN3と電源供給端子Vとの間に、例えば15
Vの高電圧源HVを連結する。このような電源印加時に
、電圧リミッタ32を通じて電流が流れるようになり、
抵抗Rでは所定電圧が分配され制御電圧VRが発1され
る。この制御電圧VRによりスイッチング手段36の各
MOSトランジスタMC1〜MCnがターンオンされる
。
一方、入力端子INIと入力端子IN2との間の電流の
流れが電流計Aに表れる。この時ヒユーズFUA1〜F
UAnの溶断処理によって下記の表2のような電流値が
得られる。
流れが電流計Aに表れる。この時ヒユーズFUA1〜F
UAnの溶断処理によって下記の表2のような電流値が
得られる。
したがって、前記電流値によって4つの互いに興なる特
性を有する集積回路チップを識別できる識別情報を、集
積回路チップ上に記入することができる。チップ識別テ
ストを行なわない場合は、前記スイッチング手段36の
各MO8トランジスタMC1〜MCnに抵抗Rを通じて
グラウンド電位がゲートに印加されるので正常動作が維
持される。
性を有する集積回路チップを識別できる識別情報を、集
積回路チップ上に記入することができる。チップ識別テ
ストを行なわない場合は、前記スイッチング手段36の
各MO8トランジスタMC1〜MCnに抵抗Rを通じて
グラウンド電位がゲートに印加されるので正常動作が維
持される。
本発明は前記実施例に限定されるものではなく、必要に
応じて変更することができる。
応じて変更することができる。
すなわち、本発明はMO8集積回路に有用であることを
実施例を通じてわかり、特定用途によっているいろの形
態に適用できるということを留意すべきである。したが
って、本発明は特許請求の範囲に示される本発明の技術
的思想および範囲内でいろいろの変形が可能となる。
実施例を通じてわかり、特定用途によっているいろの形
態に適用できるということを留意すべきである。したが
って、本発明は特許請求の範囲に示される本発明の技術
的思想および範囲内でいろいろの変形が可能となる。
以上説明したように本発明の半導体ll81i回路チッ
プは、ウェハ製造工程で簡単な回路連結有無のオプショ
ン処理工程を通じてチップ識別情報を記入し、この記入
された識別情報を通常の組立工程のテスト段階で判読す
ることによって同様の集積回路チップを識別し分離処理
することができる。
プは、ウェハ製造工程で簡単な回路連結有無のオプショ
ン処理工程を通じてチップ識別情報を記入し、この記入
された識別情報を通常の組立工程のテスト段階で判読す
ることによって同様の集積回路チップを識別し分離処理
することができる。
同種の集積回路チップを識別するための従来の方式とは
異なって、本発明によるI!積回路チップにおいては、
既存の入出力端子および電源供給端子を通じて識別をテ
ストするので、既存半導体集積回路チップの製造システ
ムの変形がほとんどなく最大に活用できて経済的である
。また、別途の診断ビンのようなビンの追加が要らない
し、高価なレーザー装備を設獣する必要もない。
異なって、本発明によるI!積回路チップにおいては、
既存の入出力端子および電源供給端子を通じて識別をテ
ストするので、既存半導体集積回路チップの製造システ
ムの変形がほとんどなく最大に活用できて経済的である
。また、別途の診断ビンのようなビンの追加が要らない
し、高価なレーザー装備を設獣する必要もない。
表
表
第1図は本発明の識別回路を具備した半導体集積回路チ
ップの一実施例を示す構成図、第2図は本発明の実施例
を示す構成図、第3図は第1図および第2図のオプショ
ン手段の他の実施例を示す回路図、第4図は本発明の更
に他の実施例を示す構成図である。 1・・・半導体集積回路チップ、2・・・^電圧源、3
・・・電流計、10・・・内部回路、20・・・識別回
路、22.32・・・電圧リミッタ、24.24A、3
4・・・オプション手段、PC1〜PCn・・・入力保
護回路、INI 〜lNn−・・入力端子、Vdd、
Vss−・・電源供給端子、FU・・・ヒユーズ、M・
・・MOSトランジスタ、R・・・抵抗。 出願人代理人 中 尾 俊 輔第3図 第4図 事件の表示 平成2年特許願第219871、 発明の名称 半導体集積回路チップ 補正をする者 事件との関係 三星
ップの一実施例を示す構成図、第2図は本発明の実施例
を示す構成図、第3図は第1図および第2図のオプショ
ン手段の他の実施例を示す回路図、第4図は本発明の更
に他の実施例を示す構成図である。 1・・・半導体集積回路チップ、2・・・^電圧源、3
・・・電流計、10・・・内部回路、20・・・識別回
路、22.32・・・電圧リミッタ、24.24A、3
4・・・オプション手段、PC1〜PCn・・・入力保
護回路、INI 〜lNn−・・入力端子、Vdd、
Vss−・・電源供給端子、FU・・・ヒユーズ、M・
・・MOSトランジスタ、R・・・抵抗。 出願人代理人 中 尾 俊 輔第3図 第4図 事件の表示 平成2年特許願第219871、 発明の名称 半導体集積回路チップ 補正をする者 事件との関係 三星
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)1対の電源供給端子と入力端子とを有する半導体集
積回路チップにおいて、 前記いずれか1つの電源供給端子とひとつの入力端子と
の間に識別回路を具備し、 この識別回路は、 前記電源供給端子と前記入力端子との間の入力電位差を
リミツティングさせるためにあらかじめ決定された入力
ロジックレベルを有する電圧リミッタと、 この電圧リミッタに直列に連結され、チップ製造段階で
電圧リミッタとの電流通路を形成するか否かによつてチ
ップ識別情報を決定するオプション手段と を具備することを特徴とする半導体集積回路チップ。 2)前記電圧リミッタは、ゲートがドレーンに連結され
たMOSトランジスタを複数個直列に連結して、これら
MOSトランジスタのゲート対ソースの臨界電圧値の和
にリミッティング電圧を設定したことを特徴とする請求
項第1項記載の半導体集積回路チップ。 3)前記オプション手段をチップ製造工程段階でヒュー
ズで形成し、このヒューズの溶断有無を以てオプション
処理が行なわれることを特徴とする請求項第1項記載の
半導体集積回路チップ。 4)前記オプション手段は、チップ製造工程段階で金属
マスクによる金属配線の形成有無を以てオプション処理
が行なわれることを特徴とする請求項第1項記載の半導
体集積回路チップ。 5)前記オプション手段は、ゲートがドレーンに連結さ
れたMOSトランジスタと、このMOSトランジスタに
直列に連結されたヒューズとの組合わせを複数個並列連
結し、 前記ヒューズの溶断された数によつてオプシヨン処理が
行なわれることを特徴とする請求項第1項記載の半導体
集積回路チップ。 6)1対の電源供給端子と少なくとも3つ以上の入力端
子を有する半導体集積回路チップにおいて、 前記いずれか1つの電源供給端子と前記3つの入力端子
のうち3つの入力端子がそれぞれ連結された識別回路を
具備し、 この識別回路は、 前記電源供給端子と前記3つの入力端子のうちいずれか
ひとつの入力端子との間の電位差をあらかじめ決定され
た入力ロジックレベルに制限させ、このリミツティング
された入力ロジックレベルを分圧して所定レベルの制限
電圧を発生するための電圧リミッタと、 前記3つの入力端子のうち残りの2つの入力端子の間の
電流の流れをチップ製造工程段階で決定するためのオプ
ション手段と、 前記オプション手段に直列に連結され前記電圧リミッタ
から供給される前記制御電圧によりターンオンされるス
イッチ手段と を具備することを特徴とする半導体集積回路チップ。 7)前記電圧リミッタは、ゲートがドレーンに連なるM
OSトランジスタのダイオード構成の複数個と、抵抗を
直列連結して、前記抵抗両端に分圧される電圧を前記ス
イッチ手段に供給する制御電圧を発生することを特徴と
する請求項第6項記載の半導体集積回路チップ。 8)前記オプション手段は複数個のヒューズを含み、該
各複数個のヒューズと直列接続された複数個のMOSト
ランジスタを含み、該MOSトランジスタはそのゲート
に印加される制御電圧によってターンオンされ、前記チ
ップの識別情報は前記ヒューズの溶断個数により決定さ
れることを特徴とする請求項第6項記載の半導体集積回
路チップ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019900007481A KR920007535B1 (ko) | 1990-05-23 | 1990-05-23 | 식별회로를 구비한 반도체 집적회로 칩 |
KR7481 | 1990-05-23 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000272748A Division JP3343345B2 (ja) | 1990-05-23 | 2000-09-08 | 半導体集積回路チップ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0428088A true JPH0428088A (ja) | 1992-01-30 |
JPH079753B2 JPH079753B2 (ja) | 1995-02-01 |
Family
ID=19299365
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2219871A Expired - Lifetime JPH079753B2 (ja) | 1990-05-23 | 1990-08-20 | 半導体集積回路チップ |
JP2000272748A Expired - Lifetime JP3343345B2 (ja) | 1990-05-23 | 2000-09-08 | 半導体集積回路チップ |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000272748A Expired - Lifetime JP3343345B2 (ja) | 1990-05-23 | 2000-09-08 | 半導体集積回路チップ |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5103166A (ja) |
JP (2) | JPH079753B2 (ja) |
KR (1) | KR920007535B1 (ja) |
CN (1) | CN1025261C (ja) |
DE (1) | DE4026326C2 (ja) |
FR (1) | FR2662505B1 (ja) |
GB (1) | GB2244339B (ja) |
HK (1) | HK21896A (ja) |
IT (1) | IT1242519B (ja) |
NL (1) | NL194814C (ja) |
RU (1) | RU2034306C1 (ja) |
SE (1) | SE508000C2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP3659981B2 (ja) * | 1992-07-09 | 2005-06-15 | アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド | ダイ特定情報に特徴付けられるダイ上の集積回路を含む装置 |
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US5440230A (en) * | 1993-04-02 | 1995-08-08 | Heflinger; Bruce L. | Combinatorial signature for component identification |
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US5867505A (en) * | 1996-08-07 | 1999-02-02 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for testing an integrated circuit including the step/means for storing an associated test identifier in association with integrated circuit identifier for each test to be performed on the integrated circuit |
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US5927512A (en) | 1997-01-17 | 1999-07-27 | Micron Technology, Inc. | Method for sorting integrated circuit devices |
US6072574A (en) | 1997-01-30 | 2000-06-06 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit defect review and classification process |
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US5915231A (en) | 1997-02-26 | 1999-06-22 | Micron Technology, Inc. | Method in an integrated circuit (IC) manufacturing process for identifying and redirecting IC's mis-processed during their manufacture |
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US5907492A (en) | 1997-06-06 | 1999-05-25 | Micron Technology, Inc. | Method for using data regarding manufacturing procedures integrated circuits (IC's) have undergone, such as repairs, to select procedures the IC's will undergo, such as additional repairs |
US6339385B1 (en) | 1997-08-20 | 2002-01-15 | Micron Technology, Inc. | Electronic communication devices, methods of forming electrical communication devices, and communication methods |
US6049624A (en) | 1998-02-20 | 2000-04-11 | Micron Technology, Inc. | Non-lot based method for assembling integrated circuit devices |
KR100261223B1 (ko) | 1998-05-04 | 2000-07-01 | 윤종용 | 식별 회로를 구비하는 반도체장치 및 그 기능 식별방법 |
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