JPH04151240A - 蒸着フィルム及びその製造方法 - Google Patents
蒸着フィルム及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH04151240A JPH04151240A JP27600390A JP27600390A JPH04151240A JP H04151240 A JPH04151240 A JP H04151240A JP 27600390 A JP27600390 A JP 27600390A JP 27600390 A JP27600390 A JP 27600390A JP H04151240 A JPH04151240 A JP H04151240A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor
- metal
- deposited
- hydrocarbon
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000011104 metalized film Substances 0.000 title abstract 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 49
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 46
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract description 43
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 42
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 40
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 39
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 39
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 15
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 2
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 abstract description 6
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 abstract description 5
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 abstract description 2
- 239000002120 nanofilm Substances 0.000 abstract 4
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 79
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 41
- 239000000463 material Substances 0.000 description 22
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 7
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 7
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 7
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 6
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 6
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 4
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 4
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000003570 air Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide;molecular oxygen Chemical compound O=O.O=C=O UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 244000025254 Cannabis sativa Species 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N Laurolactam Chemical compound O=C1CCCCCCCCCCCN1 JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000299 Nylon 12 Polymers 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009820 dry lamination Methods 0.000 description 1
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000005003 food packaging material Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000012793 heat-sealing layer Substances 0.000 description 1
- 239000012770 industrial material Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 239000011129 pharmaceutical packaging material Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は蒸着フィルムとその製造方法に関する。
さらに詳しくは、ストレスによる金属蒸着層または金属
酸化物蒸着層の機能の低下のない蒸着フィルムとその製
造方法に関する。
酸化物蒸着層の機能の低下のない蒸着フィルムとその製
造方法に関する。
(従来の技術)
高分子フィルム基材の表面に金属または金属酸化物の蒸
着層を積層した茅着フィムは良く知られている(特開昭
49−15765、特開昭4934984、特開平1−
252768、特開平1255661、特開平12B3
136、特開平2−34330号公報等)。
着層を積層した茅着フィムは良く知られている(特開昭
49−15765、特開昭4934984、特開平1−
252768、特開平1255661、特開平12B3
136、特開平2−34330号公報等)。
金属蒸着層を有するフィルムは、光沢性、意匠性、酸素
等のガス遮断性の点で極めて優れており、この特徴を生
かして食品や医薬品の包装材料、その他の産業資材に広
く用いられている。
等のガス遮断性の点で極めて優れており、この特徴を生
かして食品や医薬品の包装材料、その他の産業資材に広
く用いられている。
また、金属酸化物蒸着層を有するフィルムは一般に透明
であり、電気絶縁性で、酸素等のガス遮断性に優れるこ
とから、やはり食品等の包装材料に使用されており、そ
の用途も拡大が期待されている。
であり、電気絶縁性で、酸素等のガス遮断性に優れるこ
とから、やはり食品等の包装材料に使用されており、そ
の用途も拡大が期待されている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、これらの蒸着層は、ストレスによりクラ
ックを生してその機能が失われる。
ックを生してその機能が失われる。
ストレスは様々な原因で生しるが、例えば、蒸着フィル
ムの屈曲である。また、製袋等のためのヒートシール、
他のフィルムと貼り合わせる際の接着剤の乾燥、印刷の
際の印刷インキの乾燥等、熱を使用する二次加工により
高分子フィルム基体が軟化もしくは収縮する際にも生じ
る。
ムの屈曲である。また、製袋等のためのヒートシール、
他のフィルムと貼り合わせる際の接着剤の乾燥、印刷の
際の印刷インキの乾燥等、熱を使用する二次加工により
高分子フィルム基体が軟化もしくは収縮する際にも生じ
る。
ストレスにより、蒸着層には微小な亀裂(マイクロクラ
ック)が発生し、一般にガス遮断性は失われる。
ック)が発生し、一般にガス遮断性は失われる。
また、金属蒸着層である場合には、蒸着層のマイクロク
ラックより蒸着層が白化したり、クランク端部の光線の
回折により虹模様が発生して、本来の金属光沢が失われ
る。
ラックより蒸着層が白化したり、クランク端部の光線の
回折により虹模様が発生して、本来の金属光沢が失われ
る。
また、ストレスにより蒸着層そのものが高分子フィルム
基体から剥落してしまうこともある。
基体から剥落してしまうこともある。
そこで、本発明は、ストレスによるクランクの発生と、
これに伴う蒸着層の機能低下がなく、高分子フィルム基
体との密着強度の優れた蒸着フィルム及びその製造方法
を提供することを目的とする。
これに伴う蒸着層の機能低下がなく、高分子フィルム基
体との密着強度の優れた蒸着フィルム及びその製造方法
を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
この目的を達成するため、請求項(1ン記載の発明は、
高分子フィルム基体上に、金属または金属酸化物蒸着層
、酸化されたまたは未酸化の炭化水素蒸着層を順次積層
して成る蒸着フィルムを提供する。
高分子フィルム基体上に、金属または金属酸化物蒸着層
、酸化されたまたは未酸化の炭化水素蒸着層を順次積層
して成る蒸着フィルムを提供する。
また、請求項(2)記載の発明は、真空雰囲気中で高分
子フィルム基体を冷却ロールを介して連続的に走行し、
この冷却ロール下方に、高分子フィルム基体の走行方向
に沿って順次配置された金属または金属酸化物のソース
と炭化水素のソースから蒸着物質を1発させ、走行する
高分子フィルム基体に連続的に蒸着することを特徴とす
る蒸着フィルムの製造方法を提供する。
子フィルム基体を冷却ロールを介して連続的に走行し、
この冷却ロール下方に、高分子フィルム基体の走行方向
に沿って順次配置された金属または金属酸化物のソース
と炭化水素のソースから蒸着物質を1発させ、走行する
高分子フィルム基体に連続的に蒸着することを特徴とす
る蒸着フィルムの製造方法を提供する。
(発明の詳細な
説明に係る蒸着フィルム(1)は、第1図の断面口に示
すように、高分子フィルム基体(1a)、金属又は金属
酸化物の蒸着層(1b) 、酸化されたまたは未酸化の
炭化水素蒸着層(1c)とから成る。
すように、高分子フィルム基体(1a)、金属又は金属
酸化物の蒸着層(1b) 、酸化されたまたは未酸化の
炭化水素蒸着層(1c)とから成る。
高分子フィルム基体(la)は蒸着層(1b)(1c)
の支持体であって、ポリエチレン、ポリプロピレン等の
ポリオレフィン:ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート等のポリエステル、ナイロン−6、
ナイロン−12等のポリアミド;ポリカーボネート;ポ
リ塩化ビニル;ポリイミド;ポリスルホン;ポリエーテ
ルイミド;ポリフッ化ビニル等のフィルムが使用できる
。また、これらのフィルムから選ばれる二種以上のフィ
ルムを互いに積層して成る多層フィルムであっても良い
。
の支持体であって、ポリエチレン、ポリプロピレン等の
ポリオレフィン:ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート等のポリエステル、ナイロン−6、
ナイロン−12等のポリアミド;ポリカーボネート;ポ
リ塩化ビニル;ポリイミド;ポリスルホン;ポリエーテ
ルイミド;ポリフッ化ビニル等のフィルムが使用できる
。また、これらのフィルムから選ばれる二種以上のフィ
ルムを互いに積層して成る多層フィルムであっても良い
。
なお、高分子フィルム基体(1a)は、その材質に応し
、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤な
どの添加剤や安定剤を含むものであって良い。
、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤な
どの添加剤や安定剤を含むものであって良い。
高分子フィルム基体(1a)の厚さは任意のもので良い
が、通常6〜200μmのものである。
が、通常6〜200μmのものである。
加工の際の皺の発生がないことや機械的強度等のハンド
リングの点から12〜100μmのものが好ましい。
リングの点から12〜100μmのものが好ましい。
この高分子フィルム基体(1a)は、枚葉状のフィルム
、長尺状のフィルムのいずれでも良いカベ金属または金
属酸化物の薄着層(I b)及び炭化水素の蒸着N (
1c )を連続的に効率良く積層するため、長尺のフィ
ルムが好ましい。
、長尺状のフィルムのいずれでも良いカベ金属または金
属酸化物の薄着層(I b)及び炭化水素の蒸着N (
1c )を連続的に効率良く積層するため、長尺のフィ
ルムが好ましい。
この高分子フィルム基体(1a)は、蒸着層(1b)積
層に先立って、物理的または化学的な表面処理をしてお
くことができる。例えば、コロナ放電処理、火炎処理、
オゾン処理、プラズマ放電処理等である。
層に先立って、物理的または化学的な表面処理をしてお
くことができる。例えば、コロナ放電処理、火炎処理、
オゾン処理、プラズマ放電処理等である。
また、高分子フィルム基体(1a)は、蒸着層(1b)
の積層に先立って、その金属又は金属酸化物の蒸着層(
1b)と高分子フィルム基体(la)の密着力を向上す
るため、アンカーコート層を施しておくことができる。
の積層に先立って、その金属又は金属酸化物の蒸着層(
1b)と高分子フィルム基体(la)の密着力を向上す
るため、アンカーコート層を施しておくことができる。
アンカーコート層としては、ポリエステル、ポリウレタ
ン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
、ニトロセルロース等の熱可塑性樹脂;メラミン樹脂又
は尿素樹脂等の熱硬化性樹脂;ポリウレタンアクリレー
ト、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート
等の紫外線又は電子線硬化型樹脂等が使用できる。
ン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
、ニトロセルロース等の熱可塑性樹脂;メラミン樹脂又
は尿素樹脂等の熱硬化性樹脂;ポリウレタンアクリレー
ト、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート
等の紫外線又は電子線硬化型樹脂等が使用できる。
金属又は金属酸化物の蒸着層(1b)は、蒸着フィルム
(1)本来の機能を負担するものである。
(1)本来の機能を負担するものである。
蒸着層(1b)が金属から成る場合は、酸素や水蒸気等
のガス遮断性、金属光沢、意匠性に優れたy着フィルム
(1)を得ることができる。また、蒸着層(1)が金属
酸化物から成る場合には、透明で、しかも酸素や水蒸気
等のガス遮断性に優れた蒸着フィルムを得ることができ
る。
のガス遮断性、金属光沢、意匠性に優れたy着フィルム
(1)を得ることができる。また、蒸着層(1)が金属
酸化物から成る場合には、透明で、しかも酸素や水蒸気
等のガス遮断性に優れた蒸着フィルムを得ることができ
る。
この蒸着層(1b)を構成する金属としては、アルミニ
ウム、スズ、ジルコニウム、亜鉛、銅、クロム、鉄、コ
バルト、ニッケル、銀、マグネシウム、珪素等が例示で
きる。また、金属酸化物としては、これらの金属の酸化
物が使用できる。好ましい金属はマグネシウム、珪素、
アルミニウム、スズであり、好ましい金属酸化物はその
酸化物である。
ウム、スズ、ジルコニウム、亜鉛、銅、クロム、鉄、コ
バルト、ニッケル、銀、マグネシウム、珪素等が例示で
きる。また、金属酸化物としては、これらの金属の酸化
物が使用できる。好ましい金属はマグネシウム、珪素、
アルミニウム、スズであり、好ましい金属酸化物はその
酸化物である。
この金属または金属酸化物の蒸着層(1b)の厚みは、
蒸着フィルム(1)の使用目的に応して異なるが、酸素
等のガス遮断性を得るためには、およそ500オングス
トロ一ム以上の厚さがあれば良い。通常2000オング
ストローム以下である。
蒸着フィルム(1)の使用目的に応して異なるが、酸素
等のガス遮断性を得るためには、およそ500オングス
トロ一ム以上の厚さがあれば良い。通常2000オング
ストローム以下である。
炭化水素蒸着層(IC)は、ストレスに起因して、金属
または金属酸化物の蒸着層(1b)にクラックが生しる
ことを防くものである。もっともその理由は明らかでは
ない。
または金属酸化物の蒸着層(1b)にクラックが生しる
ことを防くものである。もっともその理由は明らかでは
ない。
炭化水素蒸着層(IC)は、分子量1000〜5000
0の比較的低分子量ポリオレフィンまたは高級パラフィ
ンを、そのソースから蒸着して形成される。例えば、赤
外線吸収ピークとして2900〜2950.1460.
1380.720 cvalにC−H結合または(C−
H)、に起因するビ一りを有する炭化水素である。
0の比較的低分子量ポリオレフィンまたは高級パラフィ
ンを、そのソースから蒸着して形成される。例えば、赤
外線吸収ピークとして2900〜2950.1460.
1380.720 cvalにC−H結合または(C−
H)、に起因するビ一りを有する炭化水素である。
従って、炭化水素基着層(1c)は未酸化の低分子量ポ
リオレフィン又は高級パラフィンから構成されるが、蒸
着の際に酸化されることがある。
リオレフィン又は高級パラフィンから構成されるが、蒸
着の際に酸化されることがある。
かかる酸化によっても、炭化水素蒸着層(lc)の機能
には影響がない。勿論、′意図的に酸化することも可能
である。意図的に酸化するためには、酸化性ガスのフラ
ズマにより炭化水素蒸着層(IC)表面を処理すれば良
い。
には影響がない。勿論、′意図的に酸化することも可能
である。意図的に酸化するためには、酸化性ガスのフラ
ズマにより炭化水素蒸着層(IC)表面を処理すれば良
い。
金属又は金属酸化物の蒸着層(1b)と炭化水素原着層
(1c)は、その境界面が明確であることが望ましいが
、蒸着方法により境界面が明確でないことがある。すな
わち、この場合には、「金属または金属酸化物の蒸着層
(1b) /金属または金属酸化物と炭化水素の混合物
の蒸着N/炭化水素の蒸着層(IC)Jの層構成を有す
ることとなる。このように、境界面が不明確な場合でも
ストスによるクラックが発生しないことは同様である。
(1c)は、その境界面が明確であることが望ましいが
、蒸着方法により境界面が明確でないことがある。すな
わち、この場合には、「金属または金属酸化物の蒸着層
(1b) /金属または金属酸化物と炭化水素の混合物
の蒸着N/炭化水素の蒸着層(IC)Jの層構成を有す
ることとなる。このように、境界面が不明確な場合でも
ストスによるクラックが発生しないことは同様である。
金属または金属酸化物の蒸着層(1b)と炭化水素薄着
層(1c)は、その合計厚みが500〜50000オン
グストロームであれば良い。
層(1c)は、その合計厚みが500〜50000オン
グストロームであれば良い。
かかる金属または金属酸化物の蒸着層(1b)と炭化水
素蒸着層(1c)は、高分子フィルム基体(1a)上に
連続的に形成することができる。
素蒸着層(1c)は、高分子フィルム基体(1a)上に
連続的に形成することができる。
この蒸着フィルム(1)の蒸着面上には、さらに別の樹
脂層を積層して、蒸着面の保護層または製袋の際などの
ヒートシール層とすることができる。樹脂層としては、
ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンが使
用できるや積層は、ウレタン系接着剤等を用いてドライ
ラミネートすれば良い、蒸着面にこれらの樹脂を78融
押出ラミネートして積層することも可能である。
脂層を積層して、蒸着面の保護層または製袋の際などの
ヒートシール層とすることができる。樹脂層としては、
ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンが使
用できるや積層は、ウレタン系接着剤等を用いてドライ
ラミネートすれば良い、蒸着面にこれらの樹脂を78融
押出ラミネートして積層することも可能である。
第2回は、金属または金属酸化物の蒸着層(1b)と炭
化水素蒸着層(1c)を連続的に形成する装置の例を示
す説明図である。
化水素蒸着層(1c)を連続的に形成する装置の例を示
す説明図である。
すなわち、第2図において、高分子フィルム基材(la
)に蒸着層(lb)(lc)を形成するため、装置内部
は10−5〜10−’t o r r、の真空状態に維
持されている必要がある。真空状態に維持するためには
、排気系〔16〕から真空9弓すれば良く、圧力は真空
針(300)により常時測定できる。また、連続的に蒸
着層(lb)−(IC)を形成する必要から高分子フィ
ルム基材(1a)は長尺のもので、巻き出しロール(5
)に巻き取られており、この巻き出しロール(5)から
高分子フィルム基材(1a)は巻き出されて、冷却ロー
ル(7)に抱きつきながらその周囲を通り巻取りロール
(6)に巻き取られる0巻き出しロール(5)と冷却ロ
ール(7)の間には、高分子フィルム基材(1a)の連
続的走行を安定なものにするため、ダンサ−ロール(2
)、ガイドロール(3)、エキスパンダーロール(4)
などヲ装置することが望ましい。また、同様の理由がら
冷却ロール(7)と巻取リール(6)の間にはエキスパ
ンダーロール(4)、ガイドロール(3)、ダンサ−ロ
ール(2)を配置することが望ましい連続的に均一な膜
厚の蒸着層(1b) (1c)を形成するため、高分
子フィルム基材(1a)は巻き出しロール(5)から巻
取りロール(6)まで連続的に走行する必要がある。
)に蒸着層(lb)(lc)を形成するため、装置内部
は10−5〜10−’t o r r、の真空状態に維
持されている必要がある。真空状態に維持するためには
、排気系〔16〕から真空9弓すれば良く、圧力は真空
針(300)により常時測定できる。また、連続的に蒸
着層(lb)−(IC)を形成する必要から高分子フィ
ルム基材(1a)は長尺のもので、巻き出しロール(5
)に巻き取られており、この巻き出しロール(5)から
高分子フィルム基材(1a)は巻き出されて、冷却ロー
ル(7)に抱きつきながらその周囲を通り巻取りロール
(6)に巻き取られる0巻き出しロール(5)と冷却ロ
ール(7)の間には、高分子フィルム基材(1a)の連
続的走行を安定なものにするため、ダンサ−ロール(2
)、ガイドロール(3)、エキスパンダーロール(4)
などヲ装置することが望ましい。また、同様の理由がら
冷却ロール(7)と巻取リール(6)の間にはエキスパ
ンダーロール(4)、ガイドロール(3)、ダンサ−ロ
ール(2)を配置することが望ましい連続的に均一な膜
厚の蒸着層(1b) (1c)を形成するため、高分
子フィルム基材(1a)は巻き出しロール(5)から巻
取りロール(6)まで連続的に走行する必要がある。
冷却ロール(7)は、ソース(9)(10)から蒸発し
た蒸着物質、すなわち金属または金属酸化物(12)、
炭化水素(13)が良好に高分子フィルム基材(1a)
に付着してしかも高分子フィルム基材(1a)の熱によ
る損傷を防ぐためのもので、このため、金属または金属
酸化物(12)のソース(9)及び炭化水素(13)の
ソース(10)は、いずれもこの冷却ロール(7)の下
方に配置される必要がある。また、金属または金属酸化
物の蒸着層(1b)をまず高分子フィルム基材(1a)
上に形成し、次いで炭化水素の蒸着層(1c)を形成す
るため、高分子フィルム基材(1a)の走行方向に沿っ
て金属または金属酸化物(12)のソース(9)と炭化
水素(13)のソース(10)を順次配置する必要があ
る。蒸着は任意の方法で可能であるが、例えば、抵抗加
熱法によりできる。(8)(80)は、それぞれ、金属
または金属酸化物(12)のソース(9)。
た蒸着物質、すなわち金属または金属酸化物(12)、
炭化水素(13)が良好に高分子フィルム基材(1a)
に付着してしかも高分子フィルム基材(1a)の熱によ
る損傷を防ぐためのもので、このため、金属または金属
酸化物(12)のソース(9)及び炭化水素(13)の
ソース(10)は、いずれもこの冷却ロール(7)の下
方に配置される必要がある。また、金属または金属酸化
物の蒸着層(1b)をまず高分子フィルム基材(1a)
上に形成し、次いで炭化水素の蒸着層(1c)を形成す
るため、高分子フィルム基材(1a)の走行方向に沿っ
て金属または金属酸化物(12)のソース(9)と炭化
水素(13)のソース(10)を順次配置する必要があ
る。蒸着は任意の方法で可能であるが、例えば、抵抗加
熱法によりできる。(8)(80)は、それぞれ、金属
または金属酸化物(12)のソース(9)。
炭化水素(13)のソース(10)を加熱するための蒸
発源パワーを示している。
発源パワーを示している。
ソース(9)及びソース(1o)は、互いに仕切りなし
に配置することも可能であるが、金属または金属酸化物
の蒸着層(1b)と炭化水素の蒸着層(1c)を両者の
境界面を明確にして形成するため、ソース(9)及びソ
ース(1o)の間に仕切り板(200)を設けることが
望ましい。仕切り板(200)は、高分子フィルム基材
(1a)に接触する高さまで設けることが望ましいが、
接触すれば高分子フィルム基材(1a)のスムーズな走
行を妨害することがあるから、高分子フィルム基材(1
a)の走行を妨害しない程度に離れていても良い、高分
子フィルム基材(1a)と仕切り板(200)の間隙か
ら、金属または金属酸化物の蒸気と炭化水素の蒸気が混
合する結果、高分子フィルム基材(1a)上に、「金属
または金属酸化物の蒸着層(lb)/金属または金属酸
化物と炭化水素の混合物の蒸着層/炭化水素の蒸着層(
I C)Jの層構成の蒸着層が形成されることとなる。
に配置することも可能であるが、金属または金属酸化物
の蒸着層(1b)と炭化水素の蒸着層(1c)を両者の
境界面を明確にして形成するため、ソース(9)及びソ
ース(1o)の間に仕切り板(200)を設けることが
望ましい。仕切り板(200)は、高分子フィルム基材
(1a)に接触する高さまで設けることが望ましいが、
接触すれば高分子フィルム基材(1a)のスムーズな走
行を妨害することがあるから、高分子フィルム基材(1
a)の走行を妨害しない程度に離れていても良い、高分
子フィルム基材(1a)と仕切り板(200)の間隙か
ら、金属または金属酸化物の蒸気と炭化水素の蒸気が混
合する結果、高分子フィルム基材(1a)上に、「金属
または金属酸化物の蒸着層(lb)/金属または金属酸
化物と炭化水素の混合物の蒸着層/炭化水素の蒸着層(
I C)Jの層構成の蒸着層が形成されることとなる。
また、蒸着の行なわれる領域を特定して、膜厚みのコン
トロールを容易にするため、ソース(9)(10)の周
囲には、遮蔽マスク(11)が設けられている。
トロールを容易にするため、ソース(9)(10)の周
囲には、遮蔽マスク(11)が設けられている。
なお、図に示す例では、金属または金属酸化物の蒸着速
度及び炭化水素の蒸着速度を検知するため、蒸発速度モ
ニター(14)(15)が設けられている。このモニタ
ー(14)(15)により蒸着速度を検知し、高分子フ
ィルム基材(la)の走行速度や蒸発速度をコントロー
ルすることにより、金属または金rI4酸化物の蒸着層
(1b)の膜厚、炭化水素蒸着層(1c)の膜厚をコン
トロールすることができる。
度及び炭化水素の蒸着速度を検知するため、蒸発速度モ
ニター(14)(15)が設けられている。このモニタ
ー(14)(15)により蒸着速度を検知し、高分子フ
ィルム基材(la)の走行速度や蒸発速度をコントロー
ルすることにより、金属または金rI4酸化物の蒸着層
(1b)の膜厚、炭化水素蒸着層(1c)の膜厚をコン
トロールすることができる。
また、第2図に示す2置では、然着層(1b)(1c)
の形成された蒸着フィルム(1)表面を酸化処理する設
備(17)が設けられている。かかる設備は、意図的に
炭化水素蒸着層(1c)を酸化するためのもので、マス
フロコントローラーを通って供給される酸化性ガスをプ
ラズマ化して炭化水素蒸着層(Ic)に接触させるもの
である。
の形成された蒸着フィルム(1)表面を酸化処理する設
備(17)が設けられている。かかる設備は、意図的に
炭化水素蒸着層(1c)を酸化するためのもので、マス
フロコントローラーを通って供給される酸化性ガスをプ
ラズマ化して炭化水素蒸着層(Ic)に接触させるもの
である。
酸化性ガスとしては空気、酸素、二酸化炭素等が使用で
きる。また、窒素などの非酸化性ガスと酸化性ガスの混
合ガスを使用しても良い、プラズマ化は、電源(18)
から供給される高周波電界またはマイクロ波によって可
能である。プラズマは設備内部に設けられた磁石により
、効率的に蒸着面に誘導することができる。
きる。また、窒素などの非酸化性ガスと酸化性ガスの混
合ガスを使用しても良い、プラズマ化は、電源(18)
から供給される高周波電界またはマイクロ波によって可
能である。プラズマは設備内部に設けられた磁石により
、効率的に蒸着面に誘導することができる。
第3図は、蒸着装置全体を部室に区分して、各室に冷却
ロール(7)を別個に設け、各冷却ロール上で金属また
は金属酸化物の蒸着層(1b)及び炭化水素の蒸着層(
1c)を形成するもので、高分子フィルム基材(1a)
はシールロール(500)を介してこの二つの冷却ロー
ル(7)(7)を連続的に走行すると共に、再冷却ロー
ル(7)(7)の間には仕切り板(200)が設けられ
ている。
ロール(7)を別個に設け、各冷却ロール上で金属また
は金属酸化物の蒸着層(1b)及び炭化水素の蒸着層(
1c)を形成するもので、高分子フィルム基材(1a)
はシールロール(500)を介してこの二つの冷却ロー
ル(7)(7)を連続的に走行すると共に、再冷却ロー
ル(7)(7)の間には仕切り板(200)が設けられ
ている。
また、第3図に示す装置では、蒸着フィルム(1)の蒸
着面を酸化処理する設備が設けられていない反面、蒸着
前の高分子フィルム基材(1a)に表面処理を施す設備
が設けられている。蒸着は冷却ロール(7)に巻きつい
た時に行なわれるから、フィルム基材(1a)の表面処
理設備は冷却ロール(7)の前に配置する必要がある。
着面を酸化処理する設備が設けられていない反面、蒸着
前の高分子フィルム基材(1a)に表面処理を施す設備
が設けられている。蒸着は冷却ロール(7)に巻きつい
た時に行なわれるから、フィルム基材(1a)の表面処
理設備は冷却ロール(7)の前に配置する必要がある。
第3図においては、(19)が表面処理設備で、マスフ
ロコントローラーを通って供給される処理ガスに高周波
電界を付与してプラズマ化し、このプラズマにより表面
処理する。ガスとしては、空気、酸素、二酸化炭素、ア
ルゴン等が使用できる。プラズマの発生を容易とするた
め、処理設備内部は、10−”〜10−’t o r
r、の高真空状態に維持されている0図中(20)は高
周波電界のための電源である。高周波電界の代わりにマ
イクロ波を用いても良い。
ロコントローラーを通って供給される処理ガスに高周波
電界を付与してプラズマ化し、このプラズマにより表面
処理する。ガスとしては、空気、酸素、二酸化炭素、ア
ルゴン等が使用できる。プラズマの発生を容易とするた
め、処理設備内部は、10−”〜10−’t o r
r、の高真空状態に維持されている0図中(20)は高
周波電界のための電源である。高周波電界の代わりにマ
イクロ波を用いても良い。
(実施例1)
(a)高分子フィルム基体。
(1)材質。
ポリエチレンテレフタレートフィルム。
(ii )厚み、 12μm。
(ii)形状、 巻取り状。
(b)金属または金属酸化物。
MgO(高純度化学■製、4N)。
(c)炭化水素。
低密度ポリエチレン(三井ポリケミカル株製、ミラソン
M−14P、分子130000)。
M−14P、分子130000)。
(d)蒸着方法。
(1)蒸着装置。 第2図の装置。
(ii )真空度* 9X10−’torr
。
。
(iii)加熱方法。
MgO及び低密度ポリエチレンのいずれも電子線加熱。
(iv)MgOの加熱条件。
加速電圧 6kV。
エミッション電流 50mA。
(V)炭化水素の加熱条件。
加速電圧 4kV。
エミッション電流 15mA。
(vi)MgOの蒸発速度。
測定方法 水晶発振式膜厚計によりモ
ニター
速度 25±1人/ s e c 。
(なお、この膜厚計では炭化水素の膜厚を測定困難のた
め、炭化水素蒸着膜の厚みは測定せず、予備実験の結果
に基づいて蒸着条件を設定するに留めた。) (vi)走行速度 1m/min。
め、炭化水素蒸着膜の厚みは測定せず、予備実験の結果
に基づいて蒸着条件を設定するに留めた。) (vi)走行速度 1m/min。
(vi )第1図(17)の処理、 せず。
(d)蒸着フィルム。
(1)色彩、 無色透明。
C11)蒸着層厚み。
測定方法、 透過型電子顕微鏡。
Mg0. 2000人。
炭化水素、 2000人。
(m)蒸着層組成。
酸素(0)、炭素(C)、マグネシウム(Mg)。
(iv )炭化水素蒸着層構造。
測定方法 蒸着フィルム最外層の赤外線吸収ピークを
測定。
測定。
ピーク。
・ 2900〜2950cm
(脂肪族性C−Hの非対
称及び対称伸縮に起因)
460cm
(C−Hの変角伸動に起
因)
1380cm”’
((C−H)、の変角伸
動に起因)
20cm
((C−H)、の変角伸
動に起因)
(v)表面の接触角。
測定方法
接触角
エルマ光学■製ゴニオメ
ーター式エルマ接触角測
定機により測定。
120度(極めて高い疎
水性)。
(e)積層フィルム。
(i)製造方法。
蒸着面をコロナ放電処理して、濡れ指数34dyne/
cm(JIS K6768により測定)にした後、ウ
レタン型接着剤を介して未延伸ポリプロピレン(厚さ6
0μm)を接着。
cm(JIS K6768により測定)にした後、ウ
レタン型接着剤を介して未延伸ポリプロピレン(厚さ6
0μm)を接着。
(+1)酸素透過率。
測定方法 MOCON 0X−TRAN−11015
0Aにより測定。
0Aにより測定。
透過率、 0.9ml/rrr−atm・day。
(ii)水蒸気透過率。
測定方法 MOCON TPERMATRAN W
−6により測定。
−6により測定。
透過率 0. 5 g/rd−d a y。
(1v)剥離強度。
測定方法、 ポリプロピレンフィルムを剥離して、その
強度を測定。
強度を測定。
測定条件 測定機 TENSILON UTM−I
II−100(T OYOBALDWI N Co、、Ltd) 方法 T字剥離。
II−100(T OYOBALDWI N Co、、Ltd) 方法 T字剥離。
引張速度 300mm/mi
n 。
結果 400 g / 15 m m幅でポリエ
チレンテレフタレートフィルム が破断したため、測定不可能。
チレンテレフタレートフィルム が破断したため、測定不可能。
(V)ストレス後の物性。
ストレスの付与方法。 理学工業■製ゲルボフレックス
テスター によりストレスを付 与。
テスター によりストレスを付 与。
酸素透過率 0. 9〜1. 0m l/rrr ・
atm−day。
atm−day。
水蒸気透過率 0,50.6g/rt(−day剥離強
度 350g/15mm輻。
度 350g/15mm輻。
(flまとめ。
以上の結果をまとめて第1表に示す。
(実施例2)
第2図(エフ)の放電処理を行った他は、実施例1と同
様に実験を行った。
様に実験を行った。
(a)放電条件。
放電ボックスの真空度
1、 6〜2. OX 10−’t o r r電極
内部の永久磁石を備えた棒状電極。
内部の永久磁石を備えた棒状電極。
ガス 窒素ガス(90モル%〕と二酸化炭素ガス(10
モル%)の混合ガス。
モル%)の混合ガス。
電圧 600〜605 V。
電流 520〜522mA。
(b)結果。
蒸着面の接触角 62度。
蒸着面の濡れ指数 43dyne/cm。
この結果から、炭化水素蒸着層が酸化されていることが
分かる。
分かる。
なお、その他の結果は第1表に示す。
(実施例3)
MgOの代わりに5in(大阪チタニウム■製、3N)
を用いた外は実施例1と同様に実験を行なった。
を用いた外は実施例1と同様に実験を行なった。
得られた蒸着フィルム及び積層フィルムの物性を第1表
に示す。
に示す。
なお、積層フィルムを用いて袋を作製し、水120m1
を充填密封し、125 ”C130分のレトルト処理を
行なった結果、酸素透過率、水蒸気透過率、剥離強度に
変化は見られなかった。
を充填密封し、125 ”C130分のレトルト処理を
行なった結果、酸素透過率、水蒸気透過率、剥離強度に
変化は見られなかった。
(比較例1.2)
炭化水素蒸着層を設けなかった外は、それぞれ実施例1
及び3と同様に実験を行った。
及び3と同様に実験を行った。
この結果も合わせて第1表に示す。
(実施例4)
(a)蒸着フィルム。
MgOの代わりに、AI(高純度化学■製、4N)を用
い、実施例1と同様に蒸着した。ただし各蒸着層の厚さ
は以下の通りである。
い、実施例1と同様に蒸着した。ただし各蒸着層の厚さ
は以下の通りである。
AI蒸着層、 400〜500人。
炭化水素蒸着層、 2000〜3000人。
(b)積層フィルム。
(i)製造方法。
蒸着フィルムの蒸着面に、ダイ下温度270℃で低密度
ポリエチレンを溶融押出ラミネート。
ポリエチレンを溶融押出ラミネート。
(ii )光沢、 ラミネートに伴う変化なし。
(iii)剥離強度、 200g/15mm幅。
(iv )ストレス後の表面状態。
ストレスの付与方法、 実施例1に同じ。
表面状態 白化、マイクロクランクの発生がな(、良
好な金属光沢を維持 (比較例3) 炭化水素蒸着層を設けることなく、AI蒸着層のみを設
けた外は、実施例4と同様に実験を行なった。
好な金属光沢を維持 (比較例3) 炭化水素蒸着層を設けることなく、AI蒸着層のみを設
けた外は、実施例4と同様に実験を行なった。
ストレスを付与した後は、白化及びマイクロクラックの
双方が発生し、本来の金属光沢が失われていた。
双方が発生し、本来の金属光沢が失われていた。
(比較例4)
比較例3で得られた蒸着フィルムの蒸着面にダイ下温度
3DO”Cで低密度ポリエチレンを溶融押出ラミネート
して積層フィルムを製造した。
3DO”Cで低密度ポリエチレンを溶融押出ラミネート
して積層フィルムを製造した。
ストレスを付与した後は、白化及びマイクロクランクの
双方が発生し、本来の金属光沢が失われていた。
双方が発生し、本来の金属光沢が失われていた。
(効果)
以上のように、請求項(1)の発明によれば、ストレス
によるクラックの発生と、これに伴う蒸着層の機能低下
がなく、高分子フィルム基体との密着強度の優れた蒸着
フィルムを提供することができる。
によるクラックの発生と、これに伴う蒸着層の機能低下
がなく、高分子フィルム基体との密着強度の優れた蒸着
フィルムを提供することができる。
また、請求項(2)の発明によればこの蒸着フィルムの
製造方法を提供することができる。
製造方法を提供することができる。
第1図は本発明の蒸着フィルムの断面図、第2図及び第
3図はその製造方法を説明するための説明図である。 (1)−・・・−蒸着フィルム (Ia)・−高分子フィルム基体 (lb)−・・金属又は金属酸化物の蒸着層(lc)−
−−・・炭化水素蒸着層 (2)・・・−ダンサ−ロール (3)−・・−ガイドロール (4)−−・・・エキスパンダーロール(5) −巻き
出しロール (6)−・・−巻取りロール (7)−−−一冷却ロー
ル(8) −−−一蒸着源パワー (9)−・−金属または金11酸化物のソース(10)
−・−炭化水素のソース (11)−−−−一遮蔽マスク (12,)−−金属または金属酸化物 (13)−一炭化水素 (14) (15)−−m−蒸発速度モニター(16
) −一排気系 (17)−酸化処理設備 (18L−電源−9) −表
面処理設備 (20)−・1源(80)−蒸着源パワ
ー (200)−仕切り板 (300)・−真空計
3図はその製造方法を説明するための説明図である。 (1)−・・・−蒸着フィルム (Ia)・−高分子フィルム基体 (lb)−・・金属又は金属酸化物の蒸着層(lc)−
−−・・炭化水素蒸着層 (2)・・・−ダンサ−ロール (3)−・・−ガイドロール (4)−−・・・エキスパンダーロール(5) −巻き
出しロール (6)−・・−巻取りロール (7)−−−一冷却ロー
ル(8) −−−一蒸着源パワー (9)−・−金属または金11酸化物のソース(10)
−・−炭化水素のソース (11)−−−−一遮蔽マスク (12,)−−金属または金属酸化物 (13)−一炭化水素 (14) (15)−−m−蒸発速度モニター(16
) −一排気系 (17)−酸化処理設備 (18L−電源−9) −表
面処理設備 (20)−・1源(80)−蒸着源パワ
ー (200)−仕切り板 (300)・−真空計
Claims (2)
- (1)高分子フィルム基体上に、金属または金属酸化物
蒸着層、酸化されたまたは未酸化の炭化水素蒸着層を順
次積層して成る蒸着フィルム。 - (2)真空雰囲気中で高分子フィルム基体を冷却ロール
を介して連続的に走行し、この冷却ロール下方に、高分
子フィルム基体の走行方向に沿って順次配置された金属
または金属酸化物のソースと炭化水素のソースから蒸着
物質を蒸発させ、走行する高分子フィルム基体に連続的
に蒸着することを特徴とする蒸着フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27600390A JP3293618B2 (ja) | 1990-10-15 | 1990-10-15 | 透明蒸着フィルム及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27600390A JP3293618B2 (ja) | 1990-10-15 | 1990-10-15 | 透明蒸着フィルム及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04151240A true JPH04151240A (ja) | 1992-05-25 |
JP3293618B2 JP3293618B2 (ja) | 2002-06-17 |
Family
ID=17563423
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27600390A Expired - Lifetime JP3293618B2 (ja) | 1990-10-15 | 1990-10-15 | 透明蒸着フィルム及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3293618B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009196155A (ja) * | 2008-02-20 | 2009-09-03 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリアフィルム、ガスバリア膜の作製方法及び作製装置 |
CN106086808A (zh) * | 2016-08-02 | 2016-11-09 | 南京金盛达镀膜科技有限公司 | 一种卷绕式真空镀膜机及镀膜工艺 |
WO2022047947A1 (zh) * | 2020-09-05 | 2022-03-10 | 昆山鑫美源电子科技有限公司 | 一种多辊式真空镀膜装置 |
-
1990
- 1990-10-15 JP JP27600390A patent/JP3293618B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009196155A (ja) * | 2008-02-20 | 2009-09-03 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリアフィルム、ガスバリア膜の作製方法及び作製装置 |
CN106086808A (zh) * | 2016-08-02 | 2016-11-09 | 南京金盛达镀膜科技有限公司 | 一种卷绕式真空镀膜机及镀膜工艺 |
WO2022047947A1 (zh) * | 2020-09-05 | 2022-03-10 | 昆山鑫美源电子科技有限公司 | 一种多辊式真空镀膜装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3293618B2 (ja) | 2002-06-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6760416B2 (ja) | 透明蒸着フィルム | |
JP3443976B2 (ja) | 透明なガスバリア性フィルムの製造方法 | |
JPH04212842A (ja) | 蒸着フィルム | |
CA2033456A1 (en) | Process for the treatment of polyolefin films | |
JP3056298B2 (ja) | 高無色透明性のバリヤーフィルム及びその製法 | |
EP1298229A1 (en) | Method for making an Al2O3 film | |
JP4090551B2 (ja) | 透明バリア性フィルム | |
JPH04151240A (ja) | 蒸着フィルム及びその製造方法 | |
JP4110884B2 (ja) | 高ガスバリア性フィルムの製造方法 | |
JP4124293B2 (ja) | 酸化アルミニウム蒸着フィルム | |
JP2745584B2 (ja) | 透明バリアーフィルムの製造方法 | |
JPS63222849A (ja) | 包装用フイルム | |
JP3766877B2 (ja) | ガスバリア性積層体及びその製造方法 | |
JP2870003B2 (ja) | 蒸着フィルムの製造方法 | |
JP2006116737A (ja) | ガスバリア性積層フィルム | |
JP3097312B2 (ja) | 積層フィルム | |
JP2874222B2 (ja) | 透明バリヤーフィルムの製造方法 | |
JP2005059537A (ja) | ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 | |
JPH0420383B2 (ja) | ||
JP4783983B2 (ja) | 透明ガスバリア性積層フィルム | |
JP4156056B2 (ja) | 酸化アルミニウム蒸着複合フィルムおよびその製造法 | |
JPH11116702A (ja) | 蒸着用ポリエチレンテレフタレートフィルム | |
JP5292992B2 (ja) | ガスバリア性フィルムの製造方法 | |
JP2505468B2 (ja) | 食品包装用フィルム | |
JP3858692B2 (ja) | ガスバリア性包装材料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090405 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090405 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100405 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110405 Year of fee payment: 9 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110405 Year of fee payment: 9 |