JPH04150980A - 密閉式溶剤洗浄装置 - Google Patents
密閉式溶剤洗浄装置Info
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- 238000005406 washing Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 31
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 24
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 13
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-Trichlorotrifluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(Cl)Cl AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 3
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 3
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229920004449 Halon® Polymers 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 201000002927 Cardiofaciocutaneous syndrome Diseases 0.000 description 1
- 235000019499 Citrus oil Nutrition 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000000453 Skin Neoplasms Diseases 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 238000003915 air pollution Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N chloro(fluoro)methane Chemical compound F[C]Cl KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010500 citrus oil Substances 0.000 description 1
- 239000011538 cleaning material Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000779 depleting effect Effects 0.000 description 1
- 208000037265 diseases, disorders, signs and symptoms Diseases 0.000 description 1
- 208000035475 disorder Diseases 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical group 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 235000014593 oils and fats Nutrition 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 201000000849 skin cancer Diseases 0.000 description 1
- 239000005437 stratosphere Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ「発明の目的」
（産業上の利用分野）
電子部品、電機部品、精密機器部品、樹脂加工部品、光
学機器部品、その他眼鏡、時計部品等の製造過程に於い
て必要な完全洗浄工程の分野に利用される。
学機器部品、その他眼鏡、時計部品等の製造過程に於い
て必要な完全洗浄工程の分野に利用される。
（従来の技術）
従来この分野には主（約９８幻として、ＣＦＣ−１１３
（１，１，２）リクロロ・１．２．２ ）リフロロ・エ
タン）（以後この類の総称をフロン類と言う）が利用さ
れているが、元来安定、無害、安価な為、開放型洗浄容
器で使い捨てにされ、沸点が４７．６℃と低く揮発性の
ため、洗浄物の自然乾燥と共に、全て大気に放出されて
いた。しかし、１９７４年ローランド教授等によって、
フロン類が成層圏で紫外線の作用によりオゾン層を破壊
する結果、地球上に短波長紫外線を多量に入射せしめ、
人類その他地球上の生物に皮膚癌その他の重大な障害を
もたらすとの゛学説が発表され、１９８５年以降国連環
境計画による各種の規制決定宣言があり、日本では１９
８８年５月フロン等規制法が成立、１２月同法施行規則
が公布された。これにより１９８９年１月特定フロンの
排出抑制・使用合理化指針が公布された結果、洗浄用フ
ロンの使用設備に就いても、斯業界から、フロンの排出
抑制、回収再生及び代替物質の開発等に関する多くの提
案がなされた。しかし、その技術は、洗浄機の洗浄物の
出入口面積とフロン蒸気上面の深さとの比率（フリーボ
ード比）や洗浄物の引上げ速度の改善、開口部の冷却や
空気又は窒素シャッター等により、開口部からのフロン
蒸気の逸失を可及的減殺する方法等であり、これらはフ
ロンを完全に排出しない方法とは程遠いものである。こ
れらの中で最も進歩した方法として、洗浄機をシャッタ
ー附密閉室に入れ、シャッターを開けて洗浄物を該室内
に入れ、シャッターを閉じて洗浄物を洗浄機の開口部か
ら入れ、洗浄して開口部より室内に出し、該室内で乾燥
し、シャッターを開けて室外に取り出し、シャッターか
ら入った室全体のフロン混じりの空気と洗浄機開口部か
らのフロン蒸気を、該開口部周辺に設けた吸気口を通し
て、排気ブロワ−により吸引して室を除圧に保つと共に
、排気を活性炭吸着装置に導いてフロンを回収している
方法がある。この方法は理論的には略々フロンを排出し
ないことになるが、洗浄物の出入口のシャッターの開閉
による除圧の破壊によるフロンの漏出や吸着装置よりの
排出空気へのフロンの同伴漏出は、吸排気量の経済性を
保つ以上止むを得ないと考えられる。
（１，１，２）リクロロ・１．２．２ ）リフロロ・エ
タン）（以後この類の総称をフロン類と言う）が利用さ
れているが、元来安定、無害、安価な為、開放型洗浄容
器で使い捨てにされ、沸点が４７．６℃と低く揮発性の
ため、洗浄物の自然乾燥と共に、全て大気に放出されて
いた。しかし、１９７４年ローランド教授等によって、
フロン類が成層圏で紫外線の作用によりオゾン層を破壊
する結果、地球上に短波長紫外線を多量に入射せしめ、
人類その他地球上の生物に皮膚癌その他の重大な障害を
もたらすとの゛学説が発表され、１９８５年以降国連環
境計画による各種の規制決定宣言があり、日本では１９
８８年５月フロン等規制法が成立、１２月同法施行規則
が公布された。これにより１９８９年１月特定フロンの
排出抑制・使用合理化指針が公布された結果、洗浄用フ
ロンの使用設備に就いても、斯業界から、フロンの排出
抑制、回収再生及び代替物質の開発等に関する多くの提
案がなされた。しかし、その技術は、洗浄機の洗浄物の
出入口面積とフロン蒸気上面の深さとの比率（フリーボ
ード比）や洗浄物の引上げ速度の改善、開口部の冷却や
空気又は窒素シャッター等により、開口部からのフロン
蒸気の逸失を可及的減殺する方法等であり、これらはフ
ロンを完全に排出しない方法とは程遠いものである。こ
れらの中で最も進歩した方法として、洗浄機をシャッタ
ー附密閉室に入れ、シャッターを開けて洗浄物を該室内
に入れ、シャッターを閉じて洗浄物を洗浄機の開口部か
ら入れ、洗浄して開口部より室内に出し、該室内で乾燥
し、シャッターを開けて室外に取り出し、シャッターか
ら入った室全体のフロン混じりの空気と洗浄機開口部か
らのフロン蒸気を、該開口部周辺に設けた吸気口を通し
て、排気ブロワ−により吸引して室を除圧に保つと共に
、排気を活性炭吸着装置に導いてフロンを回収している
方法がある。この方法は理論的には略々フロンを排出し
ないことになるが、洗浄物の出入口のシャッターの開閉
による除圧の破壊によるフロンの漏出や吸着装置よりの
排出空気へのフロンの同伴漏出は、吸排気量の経済性を
保つ以上止むを得ないと考えられる。
フロン代替物質の開発に就いては、現在各種の有効な溶
剤が開発されつつあるが、オゾン破壊効果の低いＨＣＦ
Ｃ系については若干の破壊効果と共に地球温暖化効果が
あり、フロン破壊効果の皆無なＲＦＣ系には地球温暖化
効果があり、又トリクロロエタン、四塩化炭素、臭素系
ハロン等、更に現在問題視されない炭化水素、アルコー
ル、柑橘油系等に就いても、同様の理由により将来禁止
される可能性があり、これ等は地球保護上、大気に露出
すべきでは無いと考えられる。−力水、氷粒子洗浄等が
考案されているが、これ等は複雑な工程や高度技術の為
、普遍性と経済性に欠けている。
剤が開発されつつあるが、オゾン破壊効果の低いＨＣＦ
Ｃ系については若干の破壊効果と共に地球温暖化効果が
あり、フロン破壊効果の皆無なＲＦＣ系には地球温暖化
効果があり、又トリクロロエタン、四塩化炭素、臭素系
ハロン等、更に現在問題視されない炭化水素、アルコー
ル、柑橘油系等に就いても、同様の理由により将来禁止
される可能性があり、これ等は地球保護上、大気に露出
すべきでは無いと考えられる。−力水、氷粒子洗浄等が
考案されているが、これ等は複雑な工程や高度技術の為
、普遍性と経済性に欠けている。
（発明が解決しようとする問題点）
前記産業上の利用分野に示した精密部品の製造工程に必
須な洗浄剤、例えばフロンＣＦＣ−１１３が、オゾン破
壊効果のために、洗浄効果が不完全で且つオゾン破壊や
地球温暖化効果の僅かながらも残留する代替物質や普遍
性に欠ける方法等に移行せざるを得ない原因は、従来の
洗浄装置のフロン漏洩防止方法が経済的観点から不完全
とならざるを得ないことにある。本発明は以上の問題に
対して、フロンその他の溶剤にによる洗浄を、経済的に
且つ完全密閉状態でに実施する方法により、これを解決
せんとするものである。
須な洗浄剤、例えばフロンＣＦＣ−１１３が、オゾン破
壊効果のために、洗浄効果が不完全で且つオゾン破壊や
地球温暖化効果の僅かながらも残留する代替物質や普遍
性に欠ける方法等に移行せざるを得ない原因は、従来の
洗浄装置のフロン漏洩防止方法が経済的観点から不完全
とならざるを得ないことにある。本発明は以上の問題に
対して、フロンその他の溶剤にによる洗浄を、経済的に
且つ完全密閉状態でに実施する方法により、これを解決
せんとするものである。
口「発明の構成」
（問題点を解決するための手段）
この発明は、水を封液とする室内にフロン洗浄装置を設
置し、洗浄物を封液水を潜らせて室内に入れ、室内に於
いてフロン洗浄し、再び封液水を潜らせて室外に取り出
すことにより、大気に接する部分を無害な水のみとし、
完全密閉状態で洗浄を行う方法である。以下に本方法に
就いて詳細に説明する。
置し、洗浄物を封液水を潜らせて室内に入れ、室内に於
いてフロン洗浄し、再び封液水を潜らせて室外に取り出
すことにより、大気に接する部分を無害な水のみとし、
完全密閉状態で洗浄を行う方法である。以下に本方法に
就いて詳細に説明する。
図は本性を実施するための装置の一例を示す模式図であ
る。図に於いて、１は洗浄槽、２は密閉室、３は洗浄物
、４は入口水槽、５はアルコール槽、６は超音波フロン
槽、７はフロン濯ぎ滴下槽、８はアルコール槽、９は出
口水槽、１０は窒素吹込管、１１は熱線乾燥室を示す。
る。図に於いて、１は洗浄槽、２は密閉室、３は洗浄物
、４は入口水槽、５はアルコール槽、６は超音波フロン
槽、７はフロン濯ぎ滴下槽、８はアルコール槽、９は出
口水槽、１０は窒素吹込管、１１は熱線乾燥室を示す。
切断されバスケット等に入れられたシリコン・ウェファ
等の洗浄物３は、洗浄室と密閉室を水封している入口水
槽４の開口部から同水槽低部に入り、コンベヤーにより
水底を潜って密閉室に入り、引き上げられ、次いでアル
コール槽５に入ってアルコールにより付着水分を除かれ
、次いで超音波フロン槽６に入って超音波により油脂、
フラックス等をフロン洗浄され、次いでフロン濯ぎ滴下
槽７に入って新鮮なフロンにより濯ぎ洗いされ液滴を滴
下され、次いでアルコール槽８に入りフロンを洗い落と
され、次いで出口水槽９の底部に入り、コンベアーによ
り水底を潜って開口部に入り、アルコールを除かれ、底
部窒素吹込管１０よりの窒素により脱酸素された水中を
上昇して上部の熱線乾燥室１１に入り、窒素気流中で赤
外線ランプにより乾燥されて外部に搬出される。
等の洗浄物３は、洗浄室と密閉室を水封している入口水
槽４の開口部から同水槽低部に入り、コンベヤーにより
水底を潜って密閉室に入り、引き上げられ、次いでアル
コール槽５に入ってアルコールにより付着水分を除かれ
、次いで超音波フロン槽６に入って超音波により油脂、
フラックス等をフロン洗浄され、次いでフロン濯ぎ滴下
槽７に入って新鮮なフロンにより濯ぎ洗いされ液滴を滴
下され、次いでアルコール槽８に入りフロンを洗い落と
され、次いで出口水槽９の底部に入り、コンベアーによ
り水底を潜って開口部に入り、アルコールを除かれ、底
部窒素吹込管１０よりの窒素により脱酸素された水中を
上昇して上部の熱線乾燥室１１に入り、窒素気流中で赤
外線ランプにより乾燥されて外部に搬出される。
作業の進行に伴い、洗浄物に僅かつつ伴われて、洗浄物
汚染物質、水、アルコール、フロンが混合して各種の純
度が低下するので、適時各種の液を蒸溜して純化する。
汚染物質、水、アルコール、フロンが混合して各種の純
度が低下するので、適時各種の液を蒸溜して純化する。
（作用）
本発明方法の原理は、湿式ガスホールダーと同一の水封
式であって、密閉性で且つ大気との接触は水のみであり
、従って前述の如く、各槽液が、蒸溜により純度が保た
れる限り、フロン等の漏出は全くない。
式であって、密閉性で且つ大気との接触は水のみであり
、従って前述の如く、各槽液が、蒸溜により純度が保た
れる限り、フロン等の漏出は全くない。
鉄等の水と空気による発鏑性の洗浄物は、出口水封槽底
部より窒素ガスを泡出し、これを乾燥室中にも流通して
酸素の進入を排し、発端が防止される。
部より窒素ガスを泡出し、これを乾燥室中にも流通して
酸素の進入を排し、発端が防止される。
水との共沸混合物化を避けるため、アルコールはメタノ
ールとするが、不純となったフロンＣＦＣ−１１３の蒸
溜により、メタノールの一部はフロンＣＦＣ−１１３と
の共沸混合物となるが、同共沸混合物の溶解度は充分に
大きいので、そのまま使用出来る。
ールとするが、不純となったフロンＣＦＣ−１１３の蒸
溜により、メタノールの一部はフロンＣＦＣ−１１３と
の共沸混合物となるが、同共沸混合物の溶解度は充分に
大きいので、そのまま使用出来る。
繊維等の含液性が大きい物体の洗浄は、液の同伴移動が
大きく、各液の混合が速いため、本法は適さない。
大きく、各液の混合が速いため、本法は適さない。
実施例
前記（問題点を解決するための手段）と（作用）の欄に
説明し、図に示した装置を用い、４と９の水封液に蒸溜
水、５と８のアルコールにメタノール、５と６の洗浄剤
にフロンＣＦＣ−１１３を用い、半田付は回路基板のフ
ラックスを、基板搬送速度毎分１米で送入し、超音波中
（６槽のみ）、２０℃で洗浄し、窒素気流中赤外線ラン
プにより乾燥した結果、基板表面に一切の白色残渣、イ
オン残渣なく、−切の基板信頼性に悪影響を与えなかっ
た。
説明し、図に示した装置を用い、４と９の水封液に蒸溜
水、５と８のアルコールにメタノール、５と６の洗浄剤
にフロンＣＦＣ−１１３を用い、半田付は回路基板のフ
ラックスを、基板搬送速度毎分１米で送入し、超音波中
（６槽のみ）、２０℃で洗浄し、窒素気流中赤外線ラン
プにより乾燥した結果、基板表面に一切の白色残渣、イ
オン残渣なく、−切の基板信頼性に悪影響を与えなかっ
た。
運転開始３日後より、各槽底部より液の一部を取り出し
て蒸溜精製し、各成分を夫々の槽に返戻し、回路基板半
田付けのフラックスに由来する僅かな蒸溜残渣が焼却廃
棄され、その他は全て循環使用された。
て蒸溜精製し、各成分を夫々の槽に返戻し、回路基板半
田付けのフラックスに由来する僅かな蒸溜残渣が焼却廃
棄され、その他は全て循環使用された。
ハ「発明の効果」
以上の如く、本発明洗浄方法は、水と窒素以外の如何な
る洗浄剤及び洗浄助剤も、大気に全く接触せしめず、且
つ廃水を一切排出しないので、フロン類による成層圏オ
ゾン層破壊は勿論、地球温暖化現象、一般大気汚染、廃
水汚染等とも全く無関係の洗浄方法である。
る洗浄剤及び洗浄助剤も、大気に全く接触せしめず、且
つ廃水を一切排出しないので、フロン類による成層圏オ
ゾン層破壊は勿論、地球温暖化現象、一般大気汚染、廃
水汚染等とも全く無関係の洗浄方法である。
又、窒素を除く溶剤その他各資材は、殆ど完全回収され
、従来の開放型乃至シャッター開閉式に於ける溶剤の損
失や、開放口からの吸引ブロワ−による稀薄なフロン交
じり空気からの活性炭吸着によるフロンの回収等に比較
して、本発明方法が極めて経済的なことは論を待たない
。
、従来の開放型乃至シャッター開閉式に於ける溶剤の損
失や、開放口からの吸引ブロワ−による稀薄なフロン交
じり空気からの活性炭吸着によるフロンの回収等に比較
して、本発明方法が極めて経済的なことは論を待たない
。
又、目下オゾン破壊効果の低い各種フロン、ハロン、塩
化炭化水素等が開発されつつあるが、殆どは効果が残留
し、無効果のものも地球温暖化効果は極めて高いと言わ
れ、今後如何なる規制の方向に向かうか不明であるが、
本発明方法によれば、これらとは無関係に、如何なる場
合も最も効果高く且つ経済的な溶剤を選択することが出
来る。
化炭化水素等が開発されつつあるが、殆どは効果が残留
し、無効果のものも地球温暖化効果は極めて高いと言わ
れ、今後如何なる規制の方向に向かうか不明であるが、
本発明方法によれば、これらとは無関係に、如何なる場
合も最も効果高く且つ経済的な溶剤を選択することが出
来る。
図は本法を実施するための装置の一例を示す模式図であ
る。図に於いて、１は洗浄槽、２は密閉室、３は洗浄物
、４は入口水槽、５はアルコール槽、６は超音波フロン
槽、７はフロン濯ぎ滴下槽、８はアルコール槽、９は出
口水槽、１０は窒素吹込管、１１は熱線乾燥室を夫々示
す。 手続補正書 平成２年１２月１５日
る。図に於いて、１は洗浄槽、２は密閉室、３は洗浄物
、４は入口水槽、５はアルコール槽、６は超音波フロン
槽、７はフロン濯ぎ滴下槽、８はアルコール槽、９は出
口水槽、１０は窒素吹込管、１１は熱線乾燥室を夫々示
す。 手続補正書 平成２年１２月１５日
Claims (3)
- （１）水を以て気体の流通を遮断することを特徴とする
フロン洗浄装置の密閉方法。 - （２）洗浄物付着水分及びフロンをアルコール類を以て
洗浄除去することを特徴とする特許請求範囲（１）の方
法。 - （３）密封用水を窒素瓦斯を以て脱酸素することを特徴
とする特許請求範囲（１）の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2274915A JPH0745032B2 (ja) | 1990-10-13 | 1990-10-13 | 密閉式溶剤洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2274915A JPH0745032B2 (ja) | 1990-10-13 | 1990-10-13 | 密閉式溶剤洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04150980A true JPH04150980A (ja) | 1992-05-25 |
| JPH0745032B2 JPH0745032B2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=17548311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2274915A Expired - Lifetime JPH0745032B2 (ja) | 1990-10-13 | 1990-10-13 | 密閉式溶剤洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0745032B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05245452A (ja) * | 1992-03-09 | 1993-09-24 | Nippon Kakoki Kogyo Kk | 引火性水系溶剤を用いる洗浄方法及び洗浄ライン装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59184591A (ja) * | 1983-04-02 | 1984-10-19 | 旭化成株式会社 | 溶剤洗浄機の漏洩防止装置 |
| JPS6152722A (ja) * | 1984-08-22 | 1986-03-15 | Nippon Data General Kk | 電力節約システム |
| JPS6227003A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 水切り洗浄方法及び装置 |
| JPS63236396A (ja) * | 1987-03-25 | 1988-10-03 | トヨタ自動車株式会社 | 電子部品の洗浄方法 |
| JPH02251275A (ja) * | 1989-03-22 | 1990-10-09 | Yamaha Corp | ウェハの洗浄方法 |
-
1990
- 1990-10-13 JP JP2274915A patent/JPH0745032B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS59184591A (ja) * | 1983-04-02 | 1984-10-19 | 旭化成株式会社 | 溶剤洗浄機の漏洩防止装置 |
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| JPS6227003A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 水切り洗浄方法及び装置 |
| JPS63236396A (ja) * | 1987-03-25 | 1988-10-03 | トヨタ自動車株式会社 | 電子部品の洗浄方法 |
| JPH02251275A (ja) * | 1989-03-22 | 1990-10-09 | Yamaha Corp | ウェハの洗浄方法 |
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| JPH05245452A (ja) * | 1992-03-09 | 1993-09-24 | Nippon Kakoki Kogyo Kk | 引火性水系溶剤を用いる洗浄方法及び洗浄ライン装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0745032B2 (ja) | 1995-05-17 |
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