JPH0412358A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

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JPH0412358A
JPH0412358A JP2115058A JP11505890A JPH0412358A JP H0412358 A JPH0412358 A JP H0412358A JP 2115058 A JP2115058 A JP 2115058A JP 11505890 A JP11505890 A JP 11505890A JP H0412358 A JPH0412358 A JP H0412358A
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JP
Japan
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diamine
diamino
carbon
tetracarboxylic dianhydride
photosensitive
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JP2115058A
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Akira Toko
都甲 明
Nobuyuki Sashita
暢幸 指田
Takashi Hirano
孝 平野
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、高感度な感光性ポリイミド樹脂組成物及びそ
の製造方法に関するものである。
[従来の技術] 従来、半導体素子の表面保護膜、居間絶縁膜などには、
耐熱性が優れ、また卓越した電気的特性、機械的特性な
どを有するポリイミド樹脂が用いられているが、近年半
導体素子の高集積化、大型化、封止樹脂パッケージの薄
型化、小型化、半田リフローによる表面実装方式への移
行などにより耐熱サイクル性、耐熱ショック性等の著し
い向上の要求があり、更に高性能なポリイミド樹脂が必
要とされるようになってきた。
一方、ポリイミド樹脂自身に感光性を付与する技術が最
近注目を集めてきた。
これらの感光性を付与したポリイミド樹脂を使用すると
、付与していないポリイミド樹脂に比較してパターン作
成工程の簡素化効果があるだけでなく、毒性の強いエツ
チング液を使用しなくてすむので、安全、公害上も優れ
ており、ポリイミド樹脂の感光性化は重要な技術となる
ことが期待されている。
感光性ポリイミド樹脂としては、例えば下式(A)で示
されるような構造のエステル基で感光性基を付与したポ
リイミド前駆体組成物(例えば特公昭55−41422
号公報)あるいは下式(B)により2量化、または重合
可能な炭素−炭素二重結合およびアミン基または、その
四級化塩を含む化合物を添加した組成物(例えば特公昭
59−52822号公報)などが知られている。
これらは、いずれも適当な有機溶剤に溶解し、ワニス状
態で塗布、乾燥した後、フォトマスクを介して紫外線照
射し、現像、リンス処理して所望のパターンを得、さら
に加熱処理することによりポリイミド被膜としている。
しかし、かかる従来の組成物は、次のような欠点を有し
ている。すなわち、(A)に示す組成物においては、ま
ずテトラカルボン酸二無水物と感光基を有するアルコー
ルをエステル化反応させ、次にジアミンとアミド化反応
を行ない製造するという著しく複雑な工程を経るため、
製品の安定化が困難であった。しかし、エステル結合は
強い結合力を有するためスプレー現像(現像液を激しく
噴きつけて急速に短時間に現像する方法)可能という長
所をもつ。ところが逆に結合力が強すぎるため、400
°C以上の高温でも感光基の除去が完全にはできず、ポ
リイミド皮膜が黒化し、皮膜物性(強度、伸び等)が低
下するという短所にもなった。一方、(B)に示す組成
物においては、ポリアミック酸に感光剤を添加混合する
だけでよいため、製造工程は著しく簡単であるが、ポリ
アミック酸と感光剤とのイオン結合力が著しく弱いため
、パドル現像(現像液を静止した被現像皮膜に滴下して
現像する方法)しなければならず、長時間を要するとい
う短所となる。一方、結合力が弱いために加熱により感
光基が除去され易く、ポリイミド皮膜の皮膜物性が優れ
るという長所になる。しかしながら、(A)、(B)の
いずれもその露光感度は200〜400mJ/ cm2
(i線コンタクト露光機、フルスペクトル、厚み10μ
m)であり、最近の技術の進歩に伴う高感度化の要求に
は不充分なものになってきた。
[発明が解決しようとする課題] 本発明の目的とするところは、著しく簡単な方法で、品
質のバラツキが無く、著しく高感度でかつ皮膜特性の優
れる感光性樹脂組成物を提供するするにある。
[課題を解決するための手段] 本発明は、芳香族トリ及び/又はテトラカルボン酸無水
物及び/又はその誘導体と、芳香族ジアミン及び/又は
その誘導体との反応生成物を、化学線により重合可能な
炭素−炭素二重結合を含むアミド化合物に溶解してなる
ポリアミック酸溶液に、吸収極大波長(λmax )が
330〜500nmである増感剤を配してなることを特
徴とする感光性樹脂組成物である。
[作用] 本発明において用いる芳香族トリ及び/又はテトラカル
ボン酸無水物及び/又はその誘導体とは下記式CI)で
示されるもので 例えば、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸二無水
物、ベンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無
水物、3.3’ 、4.4’−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物、2.2’ 、3.3’−ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸二無水物、2,3.3’ 、4’
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレ
ン−2、3,6゜7−テトラカルボン酸二無水物、ナフ
タレン−1、2,5゜6−テトラカルボン酸二無水物、
ナフタレン−1、2,4゜5−テトラカルボン酸二無水
物、ナフタレン−1,4,5゜8−テトラカルボン酸二
無水物、ナフタレン−1、2,6゜7−テトラカルボン
酸二無水物、4,8−ジメチル−1,2゜3.5,6.
7−へキサヒドロナフタレン−1,2,5,6−テトラ
カルボン酸二無水物、4,8−ジメチル−1、2、3、
5,6゜7−へキサヒドロナフタレン−2,3,6,7
−テトラカルボン酸二無水物、2,6−シクロペンタン
ー1 、4.5゜8−テトラカルボン酸二無水物、2.
7−シクロロナフタレンー1.4,5.8−テトラカル
ボン酸二無水物、2,3゜6.7−チトラクロロナフタ
レンー1.4,5.8−テトラカルボン酸二無水物、1
,4,5.8−テトラクロロナフタレン−2,3,6,
7−テトラカルボン酸二無水物、3.3’。
4.4′−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、2゜
r)r、3.3r−ジフェニルテトラカルボン酸二無水
物、2.3.3’ 、4’−ジフェニルテトラカルボン
酸二無水物、3.3”、4.4”−p−テルフェニルテ
トラカルボン酸二無水物、2.2”、3.3”−p−テ
ルフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3.3” 
、4”−p−テルフェニルテトラカルボン酸二無水物、
2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−プロ
パンニ無水物、2,2−ビス(3゜4−ジカルボキシフ
ェニル)−プロパンニ無水物、ビス(2,3−ジカルボ
キシフェニル)エーテルニ無水物、ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)エーテルニ無水物、ビス(2,3−
ジカルボキシフェニル)メタンニ無水物、ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)メタンニ無水物、ビス(2,
3−ジカルボキシフェニル)スルホンニ無水物、ビス(
3,4−ジカルボキシフェニル)スルホンニ無水物、1
,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタンニ
無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル
)エタンニ無水物、ペリレン−2,3,8゜9−テトラ
カルボン酸二無水物、ペリレン−3,4,9゜10−テ
トラカルボン酸二無水物、ペリレン−4,5,10゜1
1−テトラカルボン酸二無水物、ペリレン−5,6,1
1゜12−テトラカルボン酸二無水物、フェナンスレン
−1,2,7,8−テトラカルボン酸二無水物、フェナ
ンスレン−1,2,6,7−テトラカルボン酸二無水物
、フェナンスレン−1,2,9,10−テトラカルボン
酸二無水物、シクロペンタン−1,2,3,4−テトラ
カルボン酸二無水物、ピラジン−2,3,5,6−テト
ラカルボン酸二無水物、ピロリジン−2,3,4,5−
テトラカルボン酸二無水物、チオフェン−2,3,4,
5−テトラカルボン酸二無水物などがあげられるが、こ
れらに限定されるものではない。また、使用にあたって
は、1種類でも2種類以上の混合物でもかまわない。
本発明において用いる芳香族ジアミン及び/又はその誘
導体とは下記式(II )で示されるもので、(COO
H)− H2N−Rs−N13            ・・・
・・・(II )(R6:芳香族環状基、m=0〜2) m=0のジアミンやm=1のジアミノカルボン酸、m=
2のジアミノジカルボン酸などが用いられ、アミン成分
は1種類でも、2種類以上の混合物でもかまわない。用
いられるアミンの種類としては例えばI−フェニレン−
ジアミン、■−イソプロピルー2.4−フェニレン−ジ
アミン、p−フェニレン−ジアミン、4,4′−ジアミ
ノ−ジフェニルプロパン、3.3’−ジアミノ−ジフェ
ニルプロパン、4,4′−ジアミノ−ジフェニルエタン
、3,3′−ジアミノ−ジフェニルエタン、4,4′−
ジアミノ−ジフェニルメタン、3.3’−ジアミノ−ジ
フェニルメタン、4,4′−ジアミノ−ジフェニルスル
フィド、3,3′−ジアミノ−ジフェニルスルフィド、
4,4′−ジアミノ−ジフェニルスルホン、3.3′−
ジアミノ−ジフェニルスルホン、4.4′−ジアミノ−
ジフェニルエーテル、3,3′−ジアミノ−ジフェニル
エーテル、ベンジジン、3,3′−ジアミノ−ビフェニ
ル、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノ−ビフェ
ニル、3,3′−ジメトキシ−ベンジジン、4.4”−
ジアミノ−p−テルフェニル、3.3”−ジアミノ−p
−テルフェニル、ビス(p−アミノ−シクロヘキシル)
メタン、ビス(p−β−アミノ−し−ブチルフェニル)
エーテル、ビス(p−β−メチル−δ−アミノペンチル
)ベンゼン、p−ビス(2−メチル−4−アミノ−ペン
チル)ベンゼン、−9= p−ビス(1,1−ジメチル−5−アミノ−ペンチル)
ベンゼン、1,5−ジアミノ−ナフタレン、2,6−ジ
アミツーナフタレン、2,4−ビス(β−アミノ−t−
ブチル)トルエン、2,4−ジアミノ−トルエン、m−
キシレン−2,5−ジアミン、p−キシレン−2,5−
ジアミン、m−キシリレン−ジアミン、p−キシリレン
−ジアミン、2,6−ジアミツーピリジン、2,5−ジ
アミノ−ピリジン、2,5−ジアミノ−1,3,4−オ
キサジアゾール、1,4−ジアミノ−シクロヘキサン、
ピペラジン、メチレン−ジアミン、エチレン−ジアミン
、プロピレン−ジアミン、2.2−ジメチル−プロピレ
ン−ジアミン、テトラメチレン−ジアミン、ペンタメチ
レン−ジアミン、ヘキサメチレン−ジアミン、2,5−
ジメチル−へキサメチレン−ジアミン、3−メトキシ−
へキサメチレン−ジアミン、ヘプタメチレン−ジアミン
、2,5−ジメチル−へブタメチレン−ジアミン、3−
メチル−ヘプタメチレン−ジアミン、4,4−ジメチル
−へブタメチレン−ジアミン、オクタメチレン−ジアミ
ン、ノナメチレン−ジアミン、5−メチル−ノナメチレ
ン−ジアミン、2,5−ジメチル−ノナメチレン−ジア
ミン、デカメチレン−ジアミン、1,10−ジアミノ−
1,10−ジメチル−デカン、2.11−ジアミノ−ド
デカン、l、12−ジアミノ−オクタデカン、2,12
−ジアミノ−オクタデカン、2,17−ジアミノシロキ
サン、ジアミノシロキサン、2,6−ジアミツー4−カ
ルボキシリックベンゼン、3,3′−ジアミノ−4,4
′−ジカルボキシリックベンジジンなどがあげられるが
、これらに限定されるものではない。
本発明で用いる反応生成物とは、式(I)の酸無水物類
と、式(TI )のジアミン類を、下記のような反応系
溶媒中で反応後、その生成物溶液を水やメタノールの非
溶媒に滴下し、生成物を析出させ、濾別し、生成物を固
形として取り出したものである。ここに言う反応系溶媒
とは、従来から知られたもので、その官能基が酸無水物
類及びジアミン類と反応しないダイポールモーメントを
有する有機極性溶媒である。
系に対し不活性であり、かつ生成物に対して溶媒である
こと以外に、この有機極性溶媒は反応成分の少なくとも
一方、好ましくは両者に対して溶媒でなければならない
この種の溶媒として代表的なものは、N、N−ジメチル
ホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N
−ジエチルホルムアミド、N、N−ジエチルアセトアミ
ド、N、N−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルフォスホアミド、N−メチ
ル−2−ピロリドン、ピリジン、ジメチルスルホン、テ
トラメチレンスルホン、ジメチルテt・ラメチレンスル
ホン、メチルホルムアミド、N−アセチル−2−ピロリ
ドン、ジエチレングリコール千ツメチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル等があり、これらの
溶媒は単独又は組合せて使用される。この他にも溶媒と
して組合せて用いられるものとして、ベンゼン、ベンゾ
ニトリル、ジオキサン、ブチロラクトン、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、キシレン
、トルエン、シクロヘキサン等の非溶媒が併用されるこ
とがある。
本発明になるポリアミック酸溶液は、固形の該反応生成
物を化学線により重合可能な炭素−炭素二重結合を含む
アミド化合物、例えばN−メチルアクリルアミド、N−
エチルアクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、
N−エチルメタクリルアミド、N、N−ジメチルアクリ
ルアミド、N、N−ジエチルアクリルアミド、N、N−
ジブチルアクリルアミド、N−アクリロイルピペリジン
、N−アクリロイルモルホリン、N、N’−ジメチルメ
タクリルアミド、N、N’−ジエチルメタクリルアミド
、N−(2−ジメチルアミノエチル)メタクリルアミド
、N−(3−ジメチルアミンプロピル)メタクリルアミ
ド、N−ビニルピロリドンなどに溶解したものである。
なお、アミド化合物は、ここに挙げたものだけに限定さ
れるものではなく、また使用にあたっては1種類でも、
2種類以上の混合物でもかまわない。
本発明になるポリアミック酸溶液は、溶媒が感光性を有
し、化学線により重合可能なものである。
従来のポリアミック酸溶液の溶媒は、感光性がないため
、感光性樹脂の製造にあたっては、光に対する感光性成
分を特に添加していた。しかし、多量の反応系溶媒に希
釈されてしまうため、感光基濃度の向上には限界があっ
た。本発明による該アミド化合物を溶媒とする方法によ
れば、溶媒自身が100%感光性であるため、感光基濃
度は著しく高く、よって光感度も著しく高くすることが
できるようになった。
また本発明による感光性樹脂の製造方法もそれぞれの成
分を添加混合撹拌するだけであるため、著しく簡東で、
品質のバラツキも著しく少ないものとなった。
本発明で用いる増感剤は、330〜500nmに吸収極
大波長(λmax )を持つ化合物である。λmaxが
330nm以下であると、ポリアミック酸そのものに光
が吸収されてしまい光反応ができないので好ましくない
。また、500nm以上であると可視光で光反応してし
まい作業場所をシールドルームにするなどのことが必要
となり、その取扱い性が低下するので好ましくない。本
発明の増感剤は例えばC1〇− C1〇− などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
また、使用にあたっては1種類でも2種類以上の混合物
でも構わない。
本発明による感光性樹脂組成物には、接着助剤やレベリ
ング剤その他各種充填剤を添加してもよい。
本発明による感光性樹脂組成物の使用方法は、まず、該
組成物を適当な支持体、例えばシリコンウェハーやセラ
ミック、アルミ基板などに塗布する。塗布方法は、スピ
ンナーを用いた回転塗布、スプレーコーターを用いた噴
?i塗布、浸漬、印刷、ロールコーティングなどで行な
う。次に、60〜80°Cの低温でプリベークして塗膜
を乾燥後、所望のパターン形状に化学線を照射する。化
学線としては、X線、電子線、紫外線、可視光線などが
使用できるが、200〜500nmの波長のものが好ま
しい。
次に、未照射部を現像液で溶解除去することによりレリ
ーフパターンを得る。現像液としては、N−メチル−2
−ピロリドン、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N
−ジメチルホルムアミドなどや、メタノール、イソプロ
ピルアルコール、水などを単独または混合して使用する
。現像方法としては、スプレー、パドル、浸漬、超音波
などの方式が可能である。
次に、現像によって形成したレリーフパターンをリンス
する。リンス液としては、メタノール、エタノール、イ
ソプロピルアルコール、酢酸ブチルなどを使用する。次
に加熱処理を行ない、イミド環を形成し、耐熱性に富む
最終パターンを得る。
本発明による感光性樹脂組成物tよ、半導体用途のみな
らず、多層回路の層間絶縁膜やフレキシブル銅張板のカ
バーコート、ソルダーレジスト膜や液晶配向膜などとし
ても有用である。
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例1 3.3’ 、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸二無水物290g (0,9mol)と、4,4′−
ジアミノジフェニルエーテル200g (1,Omol
)をN−メチル−2ピロリドン2573 gに投入し、
20°Cで6時間反応させた。次にこの溶液の反応生成
物(S)を激しく撹拌中の100¥1のメチルアルコー
ル中に滴下し、析出させ、濾過した。得られた固形の反
応生成物(T)100gをN、N−ジメチルアクリルア
ミド525gに溶解したポリアミック酸溶液に、ミヒラ
ーケトン(λmax 365nm) 5 gを添加し室
温で溶解した。
得られた組成物をシリコンウェハー上にスピンナーで塗
布し、乾燥機により80°Cで1時間乾燥し、約10μ
mのフィルムを得た。
このフィルムにコダック社製フォトグラフィックステッ
プタブレットNo2.21ステツプ(本グレースケール
では、段数が一段増加するごとに透過光量が前段の17
f2に減少するので現像後の残存段階が大きいものほど
感度が良い)を重ね、10100O/cm2の紫外線を
照射し、次いでN−メチル−2−ピロリドン60重量部
と、キシレン40重量部からなる現像液を用いて現像、
さらにキシレンでリンスをしたところ13段までパター
ンが残存し、露光感度も30mJ/cm2と高感度であ
ることが判った。
又、別途凸版印刷製解像度測定用マスク(凸版テストチ
ャートNot)で同様の操作でパターンを作成したとこ
ろ、3μmまでパターンが解像し、高解像度であること
が判った。
次に、別途アルミ板上に塗布し全面露光し、現像、リン
スの各工程を行い、さらに150.250.350°C
で各々30分間加熱硬化した後、アルミ板をエツチング
で除去し、フィルムを得た。
得られたフィルムの引張強度(JIS K−6760)
は15Kg/mm2と大きく(大きい方が良い)、熱分
解開始温度(TGA)は410℃と高かった(高い方が
良い)。
比較例1 実施例1で用いたミヒラーケトンの代りに3,3−ジメ
チル−4−メトキシベンゾフェノンを使用したが、この
増感剤のλmaxが296nmであるために、効率よく
光開始反応ができず、現像時に全てパターンが流れてし
まい、実用性のないことが判明した。
比較例2 実施例1で用いたミヒラーケトンの代りにテトラフェニ
ルポルフィリン亜鉛錯体を使用したが、この増感剤のλ
maxが650nmであるために、作業中に光反応して
しまい、現像によりパターンを得ることができなかった
比較例3 実施例1の反応生成物(S ) 625gに感光性を付
与するために、化学線により2量化又は重合可能な炭素
−炭素二重結合及びアミノ基をもつ化合物としてジメチ
ルアミンエチルメタクリレートを60重量部添加した。
実施例1と同様に処理、し、同様に評価したが、ステッ
プタブレットは6段しかなく、露光感度は300mJ/
cm2と低感度であった。
比較例4 3.3’ 、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸二無水物290gと、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート244gをγ−ブチロラクトンに溶解後、触媒と
してピリジンを150 g 添加し、20℃で24時間
反応させ、エステル化物を得た。次にアミド化触媒とし
てジシクロへキシルカルボジイミド370gを添加後、
4,4′−ジアミノジフェニルエーテル200gを添加
し、20°Cで8時間反応させた。次に、このスラリー
状物を濾別し、濾液を350 ’I!Xのエタノールに
激しく撹拌しながら滴下して重合物を析出させた後、1
2時間静置した。沈澱物を濾別し、乾燥し、粉砕した。
得られたポリマーの分子量は6500で予想よりかなり
小さなものであった。そこで再度同様の方法でポリマー
を合成したが、この場合も分子量は11000にとどま
った。この方法は、工程が長時間で煩雑であるだけでな
く、バラツキの大きなものであることがわかった。
次に、このポリマーをN−メチル−2−ピロリドンに溶
解し、実施例1と同様の増感剤を添加し、感光性樹脂組
成物を得た後、同様に評価したが、ステップタブレット
は4段しかなく、露光感度は露光感度は360111J
/Cl112と低感度であった。
[発明の効果] 本発明による感光性樹脂組成物は、化学線により重合可
能な炭素−炭素二重結合を含むアミド化合物を、樹脂溶
解用の溶媒として使用するもので、溶媒自身が100%
感光性であるために、感光基濃度が著しく高く、よって
露光感度を従来タイプの感光性樹脂組成物に比べ10倍
以上に向上させることができるようになった。
特許出願人  住友ベークライト株式会社= 26−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)芳香族トリ及び/又はテトラカルボン酸無水物及
    び/又はその誘導体と、芳香族ジアミン及び/又はその
    誘導体との反応生成物を、化学線により重合可能な炭素
    −炭素二重結合を含むアミド化合物に溶解してなるポリ
    アミック酸溶液に、吸収極大波長(λmax)が330
    〜500nmである増感剤を配してなることを特徴とす
    る感光性樹脂組成物。
JP2115058A 1989-11-30 1990-05-02 感光性樹脂組成物 Pending JPH0412358A (ja)

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