JPH04109713A - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置Info
- Publication number
- JPH04109713A JPH04109713A JP2227735A JP22773590A JPH04109713A JP H04109713 A JPH04109713 A JP H04109713A JP 2227735 A JP2227735 A JP 2227735A JP 22773590 A JP22773590 A JP 22773590A JP H04109713 A JPH04109713 A JP H04109713A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- level
- channel
- input signal
- circuit
- level shift
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- Pending
Links
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- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 4
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- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
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Landscapes
- Logic Circuits (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体集積回路装置に関し、特にCMOS構
成のレベルシフト回路を有する半導体集積回路装置に関
する。
成のレベルシフト回路を有する半導体集積回路装置に関
する。
第2図(a)は従来例の回路図、第2図(b)は従来例
に使用されているMOS)ランジスタに示す半導体チッ
プの断面図である。
に使用されているMOS)ランジスタに示す半導体チッ
プの断面図である。
レベルシフト回路101は入力信号の論理振幅(0〜V
cc (5V ) )を増幅(G〜Vt1D(12V)
)して内部回路に伝達するものであるが、Nチャネルト
ランジスタN2.N3.PチャネルトランジスタP2.
P3はそれぞれ内部回路を構成するトランジスタと同じ
しきい電圧を有している。
cc (5V ) )を増幅(G〜Vt1D(12V)
)して内部回路に伝達するものであるが、Nチャネルト
ランジスタN2.N3.PチャネルトランジスタP2.
P3はそれぞれ内部回路を構成するトランジスタと同じ
しきい電圧を有している。
上述した従来のレベルシフト回路は、2個の電源を必要
とするばかりではなく、6個のトランジスタで回路が構
成されるため、集積度が悪いという欠点があった。
とするばかりではなく、6個のトランジスタで回路が構
成されるため、集積度が悪いという欠点があった。
また、内部回路のトランジスタとしきい電圧が同じトラ
ンジスタで構成されたCMOSインバータをレベルシフ
ト回路として使用しようとしても、入力信号の論理振幅
が内部回路のそれにより小さいので、入力信号が“H”
レベルになってもPチャネルトランジスタが必ずしもオ
フにならないため、レベルシフト機能が不完全となり、
又定常電流が流れてしtうという欠点がある。
ンジスタで構成されたCMOSインバータをレベルシフ
ト回路として使用しようとしても、入力信号の論理振幅
が内部回路のそれにより小さいので、入力信号が“H”
レベルになってもPチャネルトランジスタが必ずしもオ
フにならないため、レベルシフト機能が不完全となり、
又定常電流が流れてしtうという欠点がある。
本発明は、論理振幅を増幅するレベルシフト回路を有す
る半導体集積回路装置において、前記レベルシフト回路
は、入力信号の正(又は負)論理における°″H′”レ
ベルと電源電位との電位差の絶対値よりしきい電圧の絶
対値が大きいP(又はN)チャネルトランジスタを有す
るCMOSインバータであるというものである。
る半導体集積回路装置において、前記レベルシフト回路
は、入力信号の正(又は負)論理における°″H′”レ
ベルと電源電位との電位差の絶対値よりしきい電圧の絶
対値が大きいP(又はN)チャネルトランジスタを有す
るCMOSインバータであるというものである。
第1図(a>は本発明の一実施例の回路図、第1図(b
)は一実施例のレベルシフト回路を示す半導体チップの
断面図である。
)は一実施例のレベルシフト回路を示す半導体チップの
断面図である。
1はPチャネルトランジスタのゲートポリシリコン膜、
2はNチャネルトランジスタのゲートポリシリコン膜で
あり、ゲートポリシリコン膜直下の絶縁膜は通常Pチャ
ネルトランジスタとNチャネルトランジスタで同時に形
成され、第2図のようになるが、本実施例ではレベルシ
フト回路のPチャネルトランジスタレ1に対し、第1図
(a)のように絶縁11W3上に絶縁膜4aを積層し、
しきい電圧の絶対値をレベルシフト回路の入力信号のH
“レベルと電源電位VDDとの電位差の絶対値より大き
くする。
2はNチャネルトランジスタのゲートポリシリコン膜で
あり、ゲートポリシリコン膜直下の絶縁膜は通常Pチャ
ネルトランジスタとNチャネルトランジスタで同時に形
成され、第2図のようになるが、本実施例ではレベルシ
フト回路のPチャネルトランジスタレ1に対し、第1図
(a)のように絶縁11W3上に絶縁膜4aを積層し、
しきい電圧の絶対値をレベルシフト回路の入力信号のH
“レベルと電源電位VDDとの電位差の絶対値より大き
くする。
入力信号INの振幅がVss”OvからVCC5v、半
導体集積回路装置100aの電源電圧VDDが12vで
あり、Pチャネルトランジスタレ1のしきい電圧の絶対
値か8v、NチャネルトランジスタN1のしきい電圧の
絶対値か通常のIVであるとき、INか°“L ”レベ
ルOvなら、Plのゲートとバックゲート間電圧V。2
は12vで8vより大きいからPlはオン、Nlのゲー
トとバックゲート間電圧はV。NはOvでlvより小さ
いからN1はオフし、出力信号○aは電源電圧VDDを
出力する。次に、INが゛Hパレベルの5vなら、■G
PはVDDとVCCの電位差7Vで8Vより小さいから
PlはオフIVGNは5vで1vより大きいからオンし
、OaはOvを出力する。
導体集積回路装置100aの電源電圧VDDが12vで
あり、Pチャネルトランジスタレ1のしきい電圧の絶対
値か8v、NチャネルトランジスタN1のしきい電圧の
絶対値か通常のIVであるとき、INか°“L ”レベ
ルOvなら、Plのゲートとバックゲート間電圧V。2
は12vで8vより大きいからPlはオン、Nlのゲー
トとバックゲート間電圧はV。NはOvでlvより小さ
いからN1はオフし、出力信号○aは電源電圧VDDを
出力する。次に、INが゛Hパレベルの5vなら、■G
PはVDDとVCCの電位差7Vで8Vより小さいから
PlはオフIVGNは5vで1vより大きいからオンし
、OaはOvを出力する。
上述したように、0から5v間で変化する入力信号に対
し、出力信号がOから12v間で変化するレベルシフト
回路が実現し、入力信号がOVならPチャネルトランジ
スタレ1がオン、NチャネルトランジスタN1がオフと
し、入力信号が5■ならPチャネルトランジスタレ1が
オフ、Nチャネルトランジスタがオンとなるため、定常
電流が流れない構成になっている。
し、出力信号がOから12v間で変化するレベルシフト
回路が実現し、入力信号がOVならPチャネルトランジ
スタレ1がオン、NチャネルトランジスタN1がオフと
し、入力信号が5■ならPチャネルトランジスタレ1が
オフ、Nチャネルトランジスタがオンとなるため、定常
電流が流れない構成になっている。
1電源方式で構成が簡単なため、半導体集積回路装置の
集積度を改善することができる。
集積度を改善することができる。
以上、正電源、正論理の場合について説明したが、負電
源、負論理の場合は、第3図(a)(b)に示すように
、NチャネルトランジスタN4のしきい電圧の絶対値を
大きくすればよい。
源、負論理の場合は、第3図(a)(b)に示すように
、NチャネルトランジスタN4のしきい電圧の絶対値を
大きくすればよい。
また、MOS)ランジスタのしきい電圧の絶対値を大き
くするには、チャネルドーピングによってもよいことは
いうまでもない。
くするには、チャネルドーピングによってもよいことは
いうまでもない。
以上説明したように、本発明の半導体集積回路装置は、
レベルシフト回路をしきい電圧の絶対値が内部回路を構
成するトランジスタのそれより大きなP(またはN〉チ
ャネルトランジスタを含むCMOSインバータとするこ
とにより、素子数が削減されるため集積度を上げると共
に、単電源による動作を可能とする効果がある。
レベルシフト回路をしきい電圧の絶対値が内部回路を構
成するトランジスタのそれより大きなP(またはN〉チ
ャネルトランジスタを含むCMOSインバータとするこ
とにより、素子数が削減されるため集積度を上げると共
に、単電源による動作を可能とする効果がある。
さらに、単電源による回路構成が実現することで、2電
源による回路構成のようにNウェル分離やNウェル間の
ラッチアップ対策を行う必要がなくなるのでその点でも
集積度が上ると共に設計が容易になるという効果もある
。
源による回路構成のようにNウェル分離やNウェル間の
ラッチアップ対策を行う必要がなくなるのでその点でも
集積度が上ると共に設計が容易になるという効果もある
。
第1図(a)および(b)はそれぞれ本発明の一実施例
を示す回路図および断面図、第2図(a)および(b)
はそれぞれ従来例を示す回路図および断面図、第3図(
a)および(b)はそれぞれ本発明の他の実施例を示す
回路図および断面図である。 1.2・・・ゲートポリシリコン膜、3.4a。 4b・・・絶縁膜、5・・・P4型拡散層、6・・・N
ウェル、7・・・N+型抵拡散層8・・・P型Si基板
、91.。 フィールド酸化膜、10・・・層間絶縁膜、11・・・
アルミニウム電極、100,100a、100b=−半
導体集積回路装置、101.101a 101b−・
・レベルシフト回路、102,102a、102b・・
・内部回路、IN・入力信号(又はその端子)、P1〜
P4・・Pチャネルトランジスタ、VDD・・・正電源
端子、 VDD・・・負電源端子。
を示す回路図および断面図、第2図(a)および(b)
はそれぞれ従来例を示す回路図および断面図、第3図(
a)および(b)はそれぞれ本発明の他の実施例を示す
回路図および断面図である。 1.2・・・ゲートポリシリコン膜、3.4a。 4b・・・絶縁膜、5・・・P4型拡散層、6・・・N
ウェル、7・・・N+型抵拡散層8・・・P型Si基板
、91.。 フィールド酸化膜、10・・・層間絶縁膜、11・・・
アルミニウム電極、100,100a、100b=−半
導体集積回路装置、101.101a 101b−・
・レベルシフト回路、102,102a、102b・・
・内部回路、IN・入力信号(又はその端子)、P1〜
P4・・Pチャネルトランジスタ、VDD・・・正電源
端子、 VDD・・・負電源端子。
Claims (1)
- 論理振幅を増幅するレベルシフト回路を有する半導体集
積回路装置において、前記レベルシフト回路は、入力信
号の正(又は負)論理における“H”レベルと電源電位
との電位差の絶対値よりしきい電圧の絶対値が大きいP
(又はN)チャネルトランジスタを有するCMOSイン
バータであることを特徴とする半導体集積回路装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2227735A JPH04109713A (ja) | 1990-08-29 | 1990-08-29 | 半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2227735A JPH04109713A (ja) | 1990-08-29 | 1990-08-29 | 半導体集積回路装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04109713A true JPH04109713A (ja) | 1992-04-10 |
Family
ID=16865544
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2227735A Pending JPH04109713A (ja) | 1990-08-29 | 1990-08-29 | 半導体集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04109713A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0951072A1 (en) * | 1996-04-08 | 1999-10-20 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device |
-
1990
- 1990-08-29 JP JP2227735A patent/JPH04109713A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0951072A1 (en) * | 1996-04-08 | 1999-10-20 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device |
EP0951072B1 (en) * | 1996-04-08 | 2009-12-09 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device |
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