JPH0356041Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 (1) 考案の技術分野 本考案は、フオトエツチング工程において、前
工程で数回繰り返し行なう一枚毎のウエハ面また
はフオトマスク基板面のレジスト剥離、水洗浄、
乾燥を高速処理することを特徴とするレジスト処
理装置に関するものである。

(2) 技術の背景 最近はICからLSIとトランジスタ回路が高密度
化してきており、従つてフオトエツチング工程も
繰り返される回数が多くなつてきている。フオト
エツチングは写真食刻法とも言われており、第１
段階は清浄された試料面に種々の条件下でフオト
レジストのコーテングを行う。第２段階は塗布し
たフオトレジストを乾燥させることで有機溶剤を
揮発させる。第３段階はフオトレジスト膜上にフ
オトマスクを密着させ、最適条件で紫外線を露光
させる。第４段階は試料面を現像液を用いて現像
し、水洗後ポストベーキングでレジストを硬化さ
せ密着を完全にする。第５段階は熱酸化SiO₂膜
のエツチングをエツチング液で行う。最後の第６
段階はフオトマスクの部分でエツチング処理によ
るレジストを除去することで、このフオトエツチ
ング工程が終了する。本考案の工程は前述の最後
のフオトエツチング工程であり、試料の再使用に
当たり表面清浄が欠せない行程である。この行程
はアセトン等の溶媒を用いて試料面のレジスト剥
離して、試料面をレジスト剥離の残留物等と共に
純水水洗で清浄し、試料の乾燥を行なう試料の再
処理に関係するものである。

(3) 従来技術と問題点 従来、フオトエツチング工程のウエハ再処理で
あるレジスト剥離はアセトン等の溶媒を入れた容
器で数十枚の試料を処理しており、この処理をバ
ツチ処理といわれている。この処理工程で１枚ま
たは数枚の試料を処理する場合、バツチ処理と同
じく行なうと使用するアセトン等の溶媒と同量が
必要であり、時間も同じくかかるものである。従
つて処理する試料の数に対してアセトン等の溶媒
が不経済であり、時間がかかりすぎて作業効率が
悪かつた。

(4) 考案の目的 本考案の目的は、上述の欠点に鑑みて、ウエハ
再処理において１枚または数枚のウエハだけの場
合、アセトン等の溶媒が少量で済む経済的に有用
であり、前述の処理時間が従来より短時間で済む
高速処理を提供することにある。他の目的はレジ
スト剥離と同様な動作でウエハを純水で水洗し清
浄する高速処理を提供することにある。

(5) 考案の構成 そしてこの目的は、本考案によれば、レジスト
が塗布された基板が載置され、且つ回転可能な基
板載置台と該基板載置台の上方に設けられ、加熱
を必要とせずに前記レジストを溶かす有機溶媒を
滴下する手段を備え、該有機溶媒を前記基板上に
滴下し、前記基板載置台を高速回転させることに
よつて遠心力により前記レジストを除去するよう
にしたことを特徴としたレジスト処理装置を提供
することによつて達成される。

(6) 考案の実施例 以下、本考案の一実施例を図面に基づいて説明
する。

第１図、第２図において本実施例はモータに連
動する円柱状の回転軸２上面には、中央部に排気
孔１が設けられこれと連動する放射状の排気溝３
を備えた円板状のウエハ固定台４が水平に支持さ
れる構成を有し、前述ウエハ固定台４の上面で中
心を合わせるようにウエハ５がウエハ固定台４と
一体の回転軸２の排気孔１を介してウエハ固定台
４の排気溝３より真空を引くことで真空吸着固定
保持される構成をなし、前述ウエハの中心上方向
から溶媒が滴下するようにしたノズル６がウエハ
固定台４の中心線上に位置している構成となつて
いる。

前述のウエハ５の上面にノズル６より加熱を必
要としないアセトン等の有機溶媒を例えば50乃至
60c.c.ウエハ５面のレジスト７上に滴下する。

次に回転軸２を例えば5000乃至7000rpm位の高
速度で回転させればウエハ５も回転してレジスト
７及び溶媒が遠心力によつて外周方向へ離散され
る。

また、ウエハ５を回転させながら加熱を必要と
しないアセトン等の有機溶媒を滴下しても同じ効
果が得られる。

次に、第３図に示すように、真空吸収されてい
るウエハ５の中心と外周の中間の上方向に設けら
れた放水管８からウエハ５上に純水が放出され、
ウエハ台４を低速回転しながらウエハ５を水洗い
し、次に高速回転で水分をウエハ５面から振り切
る。従つてウエハ５面は洗浄される。

次に前述のウエハ５をベーク炉に入れて残留水
を乾燥させることで再処理に必要な工程が終える
ことになる。

(7) 考案の効果 以上の説明により、本考案は１枚または数枚の
ウエハまたはフオトマスク基板のレジスト剥離を
行なう場合は、数十枚のウエハのレジスト剥離を
行なうバツチ処理と比較して溶媒が極少量で済む
ため経済的であり、処理時間が少なくて済むので
作業効率が良い。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案のレジスト処理装置の一実施例
の側面図、第２図は前記実施例の要部の平面図、
第３図は第１図の実施例におけるウエハ洗浄工程
を説明する側面図である。 ２……回転軸、４……ウエハ台、５……ウエ
ハ、６……ノズル、７……レジスト、８……放水
管。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) レジストの塗布された基板を載置する、回転
   可能な基板載置台と、 該基板載置台の上方に設けられ、加熱を必要
   とせずに前記レジストを溶かす有機溶媒を滴下
   する溶媒滴下手段と、 該溶媒滴下手段によつて前記有機溶媒を前記
   基板上に滴下させた後、前記基板載置台を高速
   回転させることによつて前記レジストを遠心力
   により外周方向へ離散させて除去する手段とを
   備えたことを特徴とするレジスト処理装置。 (2) 前記基板載置台上方にはウエハを洗浄するた
   めに放水する手段を設けてなることを特徴とす
   る実用新案登録請求の範囲第１項記載のレジス
   ト処理装置。