JPH0322047B2 - - Google Patents
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- JPH0322047B2 JPH0322047B2 JP55045479A JP4547980A JPH0322047B2 JP H0322047 B2 JPH0322047 B2 JP H0322047B2 JP 55045479 A JP55045479 A JP 55045479A JP 4547980 A JP4547980 A JP 4547980A JP H0322047 B2 JPH0322047 B2 JP H0322047B2
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- JP
- Japan
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- cassette
- sample stage
- arm
- fixing mechanism
- electron beam
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Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 13
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 10
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
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- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K5/00—Irradiation devices
- G21K5/08—Holders for targets or for other objects to be irradiated
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子線照射に供される試料を固定保持
したカセツトを試料台上に高精度に位置決めして
安定に固定保持することのできる電子線装置のカ
セツト保持機構に関する。
したカセツトを試料台上に高精度に位置決めして
安定に固定保持することのできる電子線装置のカ
セツト保持機構に関する。
半導体ウエハやマスク等の試料を電子線によつ
てサブミクロンオーダに微細加工するものにあつ
ては、上記試料を固定保持したカセツトを電子線
装置の試料台上に高精度に且つ確実安定に保持す
る必要がある。第１図ａ〜ｃはこの種従来のカセ
ツト保持機構の一例を示すもので、図中１は試料
を固定保持するカセツト、２はカセツト１を載置
固定する試料台を示している。試料台２上の端部
には挿入カセツトの端部に当接してカセツト１の
挿入位置を規制する位置規制体（ストツパ）３が
設けられており、また試料台２の側方には上記カ
セツト１の挿入方向に沿つて第１図ｂに示す如き
鋼球４と、この鋼球４を押圧するバネ体５、そし
てこれらを収納したホルダ６とからなる固定機構
７が複数個所に設けられている。固定機構７はホ
ルダ６の基部をねじ８によつて試料台２上に固定
されたもので、ホルダ６の側方突出部にバネ体５
によつて下方向に押圧された鋼球４を備えてい
る。しかして前記カセツト１は、その側辺部を試
料台２と鋼球４との間に挿入し、鋼球４から加え
られる押圧力に抗して前記位置規制体３に当接す
る位置まで装填され、上記押圧力によつて試料台
２上に固定保持される。
てサブミクロンオーダに微細加工するものにあつ
ては、上記試料を固定保持したカセツトを電子線
装置の試料台上に高精度に且つ確実安定に保持す
る必要がある。第１図ａ〜ｃはこの種従来のカセ
ツト保持機構の一例を示すもので、図中１は試料
を固定保持するカセツト、２はカセツト１を載置
固定する試料台を示している。試料台２上の端部
には挿入カセツトの端部に当接してカセツト１の
挿入位置を規制する位置規制体（ストツパ）３が
設けられており、また試料台２の側方には上記カ
セツト１の挿入方向に沿つて第１図ｂに示す如き
鋼球４と、この鋼球４を押圧するバネ体５、そし
てこれらを収納したホルダ６とからなる固定機構
７が複数個所に設けられている。固定機構７はホ
ルダ６の基部をねじ８によつて試料台２上に固定
されたもので、ホルダ６の側方突出部にバネ体５
によつて下方向に押圧された鋼球４を備えてい
る。しかして前記カセツト１は、その側辺部を試
料台２と鋼球４との間に挿入し、鋼球４から加え
られる押圧力に抗して前記位置規制体３に当接す
る位置まで装填され、上記押圧力によつて試料台
２上に固定保持される。
ところが、このような従来構造のカセツト保持
機構にあつては、カセツト１がその側辺部を鋼球
４に当接し、鋼球４を押上げて装填されるので鋼
球４から加えられる押圧力によつてカセツト１と
試料台２との間に著しい摩耗を招来する。この摩
耗により生じる摩耗粉は、摩擦係数を変えてカセ
ツト保持力を変化させたり、電子線による帯電源
となる等の問題を招く。またカセツト保持機能の
低下によつてカセツトの位置ずれを生じたり、あ
るいは第１図ｃに示すように摩耗凹凸による形状
変化によつて側方向への移動力Ｆを生起したりす
る。この為、長期に亘る使用において徐々に位置
決め精度が低下し、同時に安定で確実な保持性が
失われると云う欠点があつた。
機構にあつては、カセツト１がその側辺部を鋼球
４に当接し、鋼球４を押上げて装填されるので鋼
球４から加えられる押圧力によつてカセツト１と
試料台２との間に著しい摩耗を招来する。この摩
耗により生じる摩耗粉は、摩擦係数を変えてカセ
ツト保持力を変化させたり、電子線による帯電源
となる等の問題を招く。またカセツト保持機能の
低下によつてカセツトの位置ずれを生じたり、あ
るいは第１図ｃに示すように摩耗凹凸による形状
変化によつて側方向への移動力Ｆを生起したりす
る。この為、長期に亘る使用において徐々に位置
決め精度が低下し、同時に安定で確実な保持性が
失われると云う欠点があつた。
本発明は上記した事情を考慮してなされたもの
で、その目的とするところは、電子線照射に供さ
れる試料を固定保持したカセツトを試料台上に位
置精度を維持して確実安定に保持することのでき
る簡易で実用性の高い電子線装置のカセツト保持
機構を提供することにある。
で、その目的とするところは、電子線照射に供さ
れる試料を固定保持したカセツトを試料台上に位
置精度を維持して確実安定に保持することのでき
る簡易で実用性の高い電子線装置のカセツト保持
機構を提供することにある。
以下、図面を参照して本発明の一実施例につき
説明する。
説明する。
第２図ａ〜ｃは第１の実施例を示すもので、ａ
は平面構成図、ｂおよびｃは作用を示す側面図で
ある。図中１１は試料台で、例えば電子線装置の
露光室内に設けられたＸ−Ｙテーブルからなり、
この試料台１１上に図中二点鎖線で示すカセツト
１２が載置されて固定保持される。このカセツト
１２は先に説明したように電子線照射、例えば露
光に供される半導体ウエハやマスク等の試料を所
定の接着剤やばね力により押圧して固定保持した
もので、長方体板状の長手方向側面にフランジを
突設した形状を有する。そして、カセツト１２は
後述する移動棒の先端部に支持されて上記長手方
向から試料台１１上への送込みおよび取出しが行
われる。
は平面構成図、ｂおよびｃは作用を示す側面図で
ある。図中１１は試料台で、例えば電子線装置の
露光室内に設けられたＸ−Ｙテーブルからなり、
この試料台１１上に図中二点鎖線で示すカセツト
１２が載置されて固定保持される。このカセツト
１２は先に説明したように電子線照射、例えば露
光に供される半導体ウエハやマスク等の試料を所
定の接着剤やばね力により押圧して固定保持した
もので、長方体板状の長手方向側面にフランジを
突設した形状を有する。そして、カセツト１２は
後述する移動棒の先端部に支持されて上記長手方
向から試料台１１上への送込みおよび取出しが行
われる。
しかして試料台１１上の長手方向端部には位置
規制体（ストツパ）１３が直線上に配置固定され
ている。これらの位置規制体１３は、試料台１１
上に装填されるカセツト１２の長手方向端面に当
接して同カセツト１２の位置を規制するものであ
る。また試料台１１上の短手方向両側部には、ベ
ースブロツク１４がそれぞれ突設されている。こ
れらのベースブロツク１４にアーム１５の端部が
ピン１４ａによつて連結され、上下方向に回動自
在に支持されている。またアーム１５の他端部に
は、試料台１１の側方向に突出したベース体１１
ａに螺合するねじ１６に一端を固定したばね体１
７の他端部が係止されており、このばね体１７の
圧縮力によつて前記アーム１５は下方向に付勢さ
れている。しかしてアーム１５の中間部にはピン
１５ａによつて回動自在に支持されて押え板１８
が設けられている。この押え板１８は試料台１１
の長手方向に長い板体からなり、アーム１５の下
方向による付勢力が伝達されて下方向に押圧力を
生起するもので、前記カセツト１２の側辺フラン
ジを試料台１１面との間に挾み込んで保持固定す
る。これらによつてカセツト１２の固定機構が形
成されている。
規制体（ストツパ）１３が直線上に配置固定され
ている。これらの位置規制体１３は、試料台１１
上に装填されるカセツト１２の長手方向端面に当
接して同カセツト１２の位置を規制するものであ
る。また試料台１１上の短手方向両側部には、ベ
ースブロツク１４がそれぞれ突設されている。こ
れらのベースブロツク１４にアーム１５の端部が
ピン１４ａによつて連結され、上下方向に回動自
在に支持されている。またアーム１５の他端部に
は、試料台１１の側方向に突出したベース体１１
ａに螺合するねじ１６に一端を固定したばね体１
７の他端部が係止されており、このばね体１７の
圧縮力によつて前記アーム１５は下方向に付勢さ
れている。しかしてアーム１５の中間部にはピン
１５ａによつて回動自在に支持されて押え板１８
が設けられている。この押え板１８は試料台１１
の長手方向に長い板体からなり、アーム１５の下
方向による付勢力が伝達されて下方向に押圧力を
生起するもので、前記カセツト１２の側辺フラン
ジを試料台１１面との間に挾み込んで保持固定す
る。これらによつてカセツト１２の固定機構が形
成されている。
一方、前記アーム１５の他端部、即ちばね１７
を連結した端部には内側方向に当接片１９が設け
られている。この当接片１９は、カセツト交換の
際に試料室壁面に固定された固定ブロツク２０に
回動自在に支持され、ねじりばね２１によて図中
左方向に付勢された脚体２２に当接して第２図ｃ
に示す如く持ち上げられるものである。即ち、脚
体２２は、その端部にローラ２３を保持してお
り、常時は前記ねじりばね２１によつて第２図ｂ
に示すように上記端部を下方向に押下げて上記ロ
ーラ２３を当接片１９から離間させている。また
前記カセツト１２あるいはカセツト１２の送込み
取出しを行う移動棒が装填されたとき、つまりカ
セツト１２の送込みあるいは取出し時には脚部２
２はその曲折部エツジをカセツト１２の前記フラ
ンジあるいは移動棒に当接して前記ねじりばね２
１に抗して回動される。この脚体２２の回動によ
つて脚体２２の先端部に設けられたローラ２３が
前記当接片１９に下方向より当接して当接片１９
を持ち上げる。従つて当接片１９と一体構造を為
す前記アーム１５は前記ばね体１７の圧縮力に抗
して端部を持ち上げられることになり、この結
果、前記押え板１８が上方向に移動されてカセツ
ト１２のフランジ面から離間することになる。こ
れらの当接片１９、脚体２２等によつて前記固定
機構によるカセツト１２の保持機能を解除する固
定機構制御体が構成されている。
を連結した端部には内側方向に当接片１９が設け
られている。この当接片１９は、カセツト交換の
際に試料室壁面に固定された固定ブロツク２０に
回動自在に支持され、ねじりばね２１によて図中
左方向に付勢された脚体２２に当接して第２図ｃ
に示す如く持ち上げられるものである。即ち、脚
体２２は、その端部にローラ２３を保持してお
り、常時は前記ねじりばね２１によつて第２図ｂ
に示すように上記端部を下方向に押下げて上記ロ
ーラ２３を当接片１９から離間させている。また
前記カセツト１２あるいはカセツト１２の送込み
取出しを行う移動棒が装填されたとき、つまりカ
セツト１２の送込みあるいは取出し時には脚部２
２はその曲折部エツジをカセツト１２の前記フラ
ンジあるいは移動棒に当接して前記ねじりばね２
１に抗して回動される。この脚体２２の回動によ
つて脚体２２の先端部に設けられたローラ２３が
前記当接片１９に下方向より当接して当接片１９
を持ち上げる。従つて当接片１９と一体構造を為
す前記アーム１５は前記ばね体１７の圧縮力に抗
して端部を持ち上げられることになり、この結
果、前記押え板１８が上方向に移動されてカセツ
ト１２のフランジ面から離間することになる。こ
れらの当接片１９、脚体２２等によつて前記固定
機構によるカセツト１２の保持機能を解除する固
定機構制御体が構成されている。
このような構成を有するカセツト保持機構によ
れば、試料台１１上へのカセツト１２の送込みお
よび取出し時には、脚体２２によるアーム１５の
持上げによつて押え板１８によるカセツト１２の
保持固定機能が解除されて、上記押え板１８とカ
セツト１２とが非接触に保たれる。従つてカセツ
ト１２を試料台１１に対してフリーな状態で出し
入れすることが可能となる。そして、試料台１１
上へのカセツト１２の装填時には、上記フリーな
状態でカセツト１２を試料台１１上に送り込み、
カセツト１２の端部を位置規制体１３に当接させ
て位置規制したのち移動棒を抜き取れば、当接片
１９の脚体２２による係止力が解除されるのでア
ーム１５はばね体１７のばね力を受けて下方向に
回動される。このアーム１５の下方向への回動力
を受けて押え板１８が下方向に移動して押圧力を
与えることになるので、試料台１１上に挿填され
たカセツト１２は位置規制された状態で試料台１
１上に強固に固定保持されることになる。またこ
の押え板１８による保持力は、ばね板１７のばね
力と、アーム１５の回動支点（ピン１４ａ，１５
ａの位置）のレバー比により決定され、前記ねじ
１６の回転進退によつて調節可能である。またカ
セツト１２の取出し時には脚体２２を回動させれ
ばアーム１５の回動によつて押え板１８が持上げ
られ、その押圧固定保持力が解除されるので、カ
セツト１２を簡易に取出すことができる。
れば、試料台１１上へのカセツト１２の送込みお
よび取出し時には、脚体２２によるアーム１５の
持上げによつて押え板１８によるカセツト１２の
保持固定機能が解除されて、上記押え板１８とカ
セツト１２とが非接触に保たれる。従つてカセツ
ト１２を試料台１１に対してフリーな状態で出し
入れすることが可能となる。そして、試料台１１
上へのカセツト１２の装填時には、上記フリーな
状態でカセツト１２を試料台１１上に送り込み、
カセツト１２の端部を位置規制体１３に当接させ
て位置規制したのち移動棒を抜き取れば、当接片
１９の脚体２２による係止力が解除されるのでア
ーム１５はばね体１７のばね力を受けて下方向に
回動される。このアーム１５の下方向への回動力
を受けて押え板１８が下方向に移動して押圧力を
与えることになるので、試料台１１上に挿填され
たカセツト１２は位置規制された状態で試料台１
１上に強固に固定保持されることになる。またこ
の押え板１８による保持力は、ばね板１７のばね
力と、アーム１５の回動支点（ピン１４ａ，１５
ａの位置）のレバー比により決定され、前記ねじ
１６の回転進退によつて調節可能である。またカ
セツト１２の取出し時には脚体２２を回動させれ
ばアーム１５の回動によつて押え板１８が持上げ
られ、その押圧固定保持力が解除されるので、カ
セツト１２を簡易に取出すことができる。
従つて上記機構によれば、従来機構のようにカ
セツトと鋼球との摩擦がないので、位置決め精度
の高精度化を図り得る。また摩耗が生じないので
カセツト１２の保持を確実安定に行うことができ
る。しかも上下方向の押圧力によつてカセツト１
２を確実に保持するので、試料台１１の移動に伴
う位置ずれを招く虞れがなく、前述した分力に起
因する位置ずれ力Ｆの発生がないので保持特性に
優れている。その上、摩耗粉による帯電源の配慮
も全く不要である。また、カム機構をなす脚体２
２と移動棒との接触によりアーム１５を回動させ
ることができるので、カセツト１２の押圧固定の
解除に特別に駆動機構を設ける必要もない。更に
はカセツト１２の送込みおよび取出しを非常に円
滑に行うことができ、機構の構成自体も簡易で実
用的である等の効果を奏する。
セツトと鋼球との摩擦がないので、位置決め精度
の高精度化を図り得る。また摩耗が生じないので
カセツト１２の保持を確実安定に行うことができ
る。しかも上下方向の押圧力によつてカセツト１
２を確実に保持するので、試料台１１の移動に伴
う位置ずれを招く虞れがなく、前述した分力に起
因する位置ずれ力Ｆの発生がないので保持特性に
優れている。その上、摩耗粉による帯電源の配慮
も全く不要である。また、カム機構をなす脚体２
２と移動棒との接触によりアーム１５を回動させ
ることができるので、カセツト１２の押圧固定の
解除に特別に駆動機構を設ける必要もない。更に
はカセツト１２の送込みおよび取出しを非常に円
滑に行うことができ、機構の構成自体も簡易で実
用的である等の効果を奏する。
以上説明したように本発明は、カセツトの固定
機構を上下方向より押圧力を加える構成とし、且
つ上記押圧力をカセツトの送込みおよび取出し時
に解除する構成としたものであるから、カセツト
の円滑な送込みと取出しを可能とし、しかも正確
に位置規制されたカセツトを高い位置精度で確実
安定に保持することができる等の優れた効果を奏
する構成の簡易な実用性の高い電子線装置のカセ
ツト保持機構をここに提供することができる。
機構を上下方向より押圧力を加える構成とし、且
つ上記押圧力をカセツトの送込みおよび取出し時
に解除する構成としたものであるから、カセツト
の円滑な送込みと取出しを可能とし、しかも正確
に位置規制されたカセツトを高い位置精度で確実
安定に保持することができる等の優れた効果を奏
する構成の簡易な実用性の高い電子線装置のカセ
ツト保持機構をここに提供することができる。
第１図ａ〜ｃは従来機構の一例を示す図、第２
図ａ〜ｃは本発明の一実施例を示す概略構成図で
ある。 １１……試料台、１２……カセツト、１３……
位置規制体、１４……ベースブロツク、１５……
アーム、１７……ばね体、１８……押え板、１９
……当接片、２１……ねじればね、２２……脚
体、２３……ローラ。
図ａ〜ｃは本発明の一実施例を示す概略構成図で
ある。 １１……試料台、１２……カセツト、１３……
位置規制体、１４……ベースブロツク、１５……
アーム、１７……ばね体、１８……押え板、１９
……当接片、２１……ねじればね、２２……脚
体、２３……ローラ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 電子線露光に供される試料を固定保持したカ
セツトが配置される試料台上に設けられて上記カ
セツトの端部に当接して上記カセツトの位置を規
制する位置規制体と、上記位置規制されたカセツ
トを上側から押圧して前記試料台上に固定保持す
る固定機構と、前記カセツトの送込みおよび取出
し時には上記固定機構による押圧作用を解除する
固定機構制御体とを具備し、 前記固定機構は、前記試料台に一端部が回転自
在に取付けられたアーム、該アームの他端部と前
記試料台との間に設けられた引張りバネ、該アー
ムの一端部と他端部との間にピンを介して連結さ
れ上記バネの付勢によりカセツトの側辺部を試料
台側に押圧する固定片からなり、 前記固定機構制御体は、外部駆動により作用
し、上記アームの他端をバネの引張り力に抗して
上側に付勢するカム機構からなるものであること
を特徴とする電子線装置のカセツト保持機構。 ２ 前記固定機構制御体のカム機構は、カセツト
の送込みおよび取出しを行う移動棒に当接して作
用するものであることを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の電子線装置のカセツト保持機構。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4547980A JPS56142636A (en) | 1980-04-07 | 1980-04-07 | Holding mechanism for cassette of electron ray device |
| US06/250,386 US4408126A (en) | 1980-04-07 | 1981-04-02 | Cassette retaining device of electron beam apparatus |
| EP81102540A EP0037568B1 (en) | 1980-04-07 | 1981-04-03 | Cassette retaining device of electron beam apparatus |
| DE8181102540T DE3162084D1 (en) | 1980-04-07 | 1981-04-03 | Cassette retaining device of electron beam apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4547980A JPS56142636A (en) | 1980-04-07 | 1980-04-07 | Holding mechanism for cassette of electron ray device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56142636A JPS56142636A (en) | 1981-11-07 |
| JPH0322047B2 true JPH0322047B2 (ja) | 1991-03-26 |
Family
ID=12720526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4547980A Granted JPS56142636A (en) | 1980-04-07 | 1980-04-07 | Holding mechanism for cassette of electron ray device |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4408126A (ja) |
| EP (1) | EP0037568B1 (ja) |
| JP (1) | JPS56142636A (ja) |
| DE (1) | DE3162084D1 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2162572B (en) * | 1984-06-16 | 1988-12-14 | Vinten Ltd | Improvements in or relating to interface mechanisms |
| US4705951A (en) * | 1986-04-17 | 1987-11-10 | Varian Associates, Inc. | Wafer processing system |
| JP3251875B2 (ja) * | 1996-05-10 | 2002-01-28 | 株式会社東芝 | 荷電粒子ビーム露光装置 |
| US6198299B1 (en) | 1998-08-27 | 2001-03-06 | The Micromanipulator Company, Inc. | High Resolution analytical probe station |
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