JPH03142281A - 情報記録媒体及びその記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、高エネルギー密度のレーザビームを用いての
情報の記録（書き込み〉および／または再生（読み取り
）が可能な情報記録媒体、特に、感度が高く、しかも優
れた耐光性を有する情報記録媒体、及びその記録方法に
関するものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザ光等の高エネルギー密度のビーム
を用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている。

この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・ディ
スク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画像
ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモリ
などとして使用されている。

光ディスクは基本構造として、ガラス、合成樹脂などか
らなる円盤状の基板と、この上に設けられたＢｉ、Ｓｎ
、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属：またはシアニン系
、金属錯体系、キノン系等の色素からなる記録層とを有
する。なお、記録層が設けられる側の基板表面には通常
、基板の平面性の改善、記録層との接着力の向上あるい
は光ディスクの感度の向上などの点から、高分子物質か
らなる中間層が設けられることが多い。

また、情報記録媒体の耐久性を向上させる目的で、記録
層上に保護層を設けたり、あるいはディスク構造として
、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板上に
記録層を設け、この二枚の基板を、記録層が内側に位置
し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサと
リング状外側スペーサとを介して接合してなるエアーサ
ンドイッチ構造が提案されている。このような保護層が
設けられた光ディスクやエアーサンドイッチ構造を有す
る光ディスクでは、記録層は直接外気に接することがな
く、情報の記録−１再生は基板を透過するレーザ光で行
なわれるために、記録層が物理的または化学的な損傷を
受けたり、あるいはその表面に塵埃が付着して情報の記
録、再生の障害となることがないとの利点がある。

そして、光ディスクへの情報の記録および光ディスクか
らの情報の再生は通常下記の方法により行なわれる。

情報の記録はレーザビームをこの光ディスクに照射する
ことにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を吸収
して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な変化
（たとえば、ビットの生成）が生じてその光学的特性を
変えることにより情報が記録される。情報の再生もまた
、レーザビームを光ディスクに照射することにより行な
われ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射光または
透過光を検出することにより情報が再生される。

このような情報記録媒体の記録層を形成する記録材料と
して上記のように金属類や色素等が知られている。色素
を用いた情報記録媒体は、金属等の記録材料に比べて高
感度であるなど記録媒体自体の特性において長所を有す
る他に、記録層を塗布法により簡単に形成することがで
きるという製造上の大きな利点を有している。しかしな
がら、色素からなる記録層は、一般に反射率が低い、あ
るいは高いＣ／Ｎが得られ難いとの欠点がある。

色素からなる記録層への情報の記録は、該色素記録層に
ピットを形成することにより行なわれる。上記記録層の
ための色素として種々の化合物が提案されているが、一
般に色素の溶剤への溶解度が小さく、そのために記録層
形成用塗布液の調製及び塗布が困難であるとか、耐久性
や耐光性が十分満足できないという問題点がある。

例えば、特開昭６４−４０３９０号公報には、前記−数
式（Ｉ）で表わされるシアニン色素の中の一部の化合物
と下記−数式（ｍ）： （式中、Ｒ５は水素原子又はアルキル基であり、ｎは１
〜４の整数であり、ｘ３−はアニオンである） で表わされる化合物とを含む光情報記録媒体が開示され
ている。上記−数式（ＩＩＩ）で表わされる化合物は、
本発明で使用される上記−数式（ｎ）で表わされるジイ
ンモニウム系化合物とは異なる化金物であり、上記公報
に記載の情報記録媒体は耐久性や耐光性が十分満足でき
るものではない。

［発明の目的］ 本発明は、基板上に色素を含む記録層が設けられ、情報
の再生のために最も一般的に使用されている７８０ｎｍ
の波長のレーザ光に対して反射率が高く、しかも耐久性
及び耐光性が優れているため長期間高い反射率が低下し
難く、塗布により色素含有記録層を容易に形成すること
ができる情報記録媒体、及びその記録方法を提供するこ
とを目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、円盤状基板上に、レーザ光により情報の記録
又は再生が可能な色素を含む記録層が設けられた情報記
録媒体において、該色素が、下記３ ３ （式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、炭素素原子
数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ
アルキル基又は炭素原子数１〜４のフッ化アルキル基を
表わし、×１はアニオンを表わす。） で表わされるシアニン系色素と、 下記−数式（■）： （式中、Ｒは、炭素原子数１〜４のアルキル基を表わし
、ｘ２−はアニオンを表わす。〉で表わされるジインモ
ニウム系化合物との混合物であることを特徴とする情報
記録媒体にある。

また、本発明は、上記本発明の情報記録媒体のグループ
に、レーザ光により情報をビット記録することを特徴と
する情報記録媒体の記録方法にある。

上記本発明の情報記録媒体及びその記録方法の好ましい
態様は以下のとおりである。

１）上記シアニン系色素が、一般式（１）におけるＲ１
及びＲ２が、それぞれ独立に、メチル基、エチル基又は
プロピル基である一般式（Ｉ）で表わされる色素である
ことを特徴とする上記情報記録媒体及びその記録方法。

２〉上記シアニン系色素が、一般式（Ｉ）におけるＲ３
が、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、
ｉ−ブチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基又
は２，２，３．３−テトラフロロプロピル基である一般
式（Ｉ）で表わされる色素であることを特徴とする上記
情報記録媒体及びその記録方法。

３）上記シアニン系色素が、一般式（Ｉ）におけるＸ、
−が、ＣｆＬ−Ｂ　ｒ−１−、（Ｊ１３ＣＯＯ−１Ｃ）
＋３５０４−　、　ＣｈＣＯｚ−１ＣＩＬ０４−１ＢＦ
、−１ＰＦ８−、キレート錯体アニオンである一般式（
Ｉ）で表わされる色素であることを特徴とする上記情報
記録媒体及びその記録方法。

４）上記シアニン系色素と上記ジインモニウム系化合物
との割合が、シアニン系色素／ジインモニウム系化合物
＝１００１０．Ｏｆ〜１００／９９のｆｆ１ｆｆｌ比の
範囲内であることを特徴とする上記情報記録媒体及びそ
の記録方法。

５）上記基板に、深さ７００〜１１００又で幅０．４〜
０．６μｍのグループが設けられていることを特徴とす
る上記情報記録媒体及びその記録方法。

６）上記記録層の上記基板に設けられたグループ上での
層厚が、ｔｔｏｏ〜１６００大の範囲にあることを特徴
とする上記情報記録媒体及びその記録方法。

７）上記記録層の上に更に金属からなる反射層が設けら
れていることを特徴とする上記情報記録媒体及びその記
録方法。

８）上記反射層が、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｃｒ、Ｔ
ｉ、Ａｌ１およびステンレスからなる群より選ばれる少
なくとも一種の金属または合金からなる反射層であるこ
とを特徴とする上記情報記録媒体及びその記録方法。

９）上記反射層の層厚が、７００大以上、好ましくは７
００〜２０００大の範囲であることを特徴とする上記情
報記録媒体及びその記録方法。

１０）上記反射層の上に保護層が設けられていることを
特徴とする上記情報記録媒体及びその記録方法。

１１）上記保護層が、ＵＶ硬化性樹脂であり、その層厚
が１〜２０μｍであることを特徴とする上記情報記録媒
体及びその記録方法。

１２）上記基板の材料が、ポリカーボネート、ポリオレ
フィンまたはセルキャストポリメチルメタクリレートで
あることを特徴とする上記情報記録媒体及びその記録方
法。

［発明の詳細な記述］ 本発明の情報記録媒体は、円盤状韮板上に、特定のシア
ニン系色素と特定のジインモニウム系化合物との混合物
を含む記録層が設けられた基本構成を有する。

上記基板はプラスチックから作られた基板であることが
好ましく、このプラスチックとしては従来の情報記録媒
体の基板として用いられている各種の材料から任意に選
択することができる。基板の光学的特性、平面性、加工
性、取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点か
ら、基板材料の例としては、セルキャストポリメチルメ
タクリレート、射出成形ポリメチルメタクリレート等の
アクリル樹脂：ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等
の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂：ポリカーボネート
樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステル
を挙げることができる。好ましくは、ポリカーボネート
、ポリオレフィンおよびセルキャストポリメチルメタク
リレートを挙げることができる。

記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層の変
質の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層
の材料としてはたとえば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合体、
スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート等の高分子物質；シランカップリング剤などの有機
物質：および無機酸化物（ＳｉＯ２，Ａ角、０３等〉、
無機フッ化物（ＭｇＦ２）などの無機物質を挙げること
ができる。

下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分数して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、デイツプコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０
μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範
囲である。

また、基板（または下塗層）上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層および／またはプレピット層が設け
られてもよい。プレグルーブ層等の材料としては、アク
リル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよ
びテトラエステルのうちの少なくとも一種の千ツマ−（
またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いる
ことができる。

プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた１す型（
スタンパ−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合
開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上
に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の
照射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる
。次いで、基板をｒ４型から剥離することによりプレグ
ルーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層
の層Ｊグは一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、
好ましくは０．０７〜５０μｍの範囲である。基板材料
がプラスチックの場合は、射出成形あるいは押出成形な
どにより直接基板にプレグルーブおよび／またはプレピ
ットが設けられてもよい。

上記基板に設けられるグループ（溝）は、７００〜１１
００大の深さ及び０．４〜０．６μｍの幅を有するもの
であることが好ましい。

基板（またはプレグルーブ層等）上には、レーザ光によ
り情報の記録（書き込み）または再生（読み取り）が可
能な色素を含む記録層が設けられる。本発明においては
、特に記録層の色素に特徴を有する。

即ち、本発明における記録層の色素は、前記−般式（Ｉ
）で表わされるシアニン系色素と前記−般式（ＩＩ）で
表わされるジインモニウム系化合物との混合物である。

先ず、前記一般式（Ｉ）で表わされるシアニン系色素に
ついて説明する。

一般式（Ｉ）において、Ｒ１又はＲ２で表わされる炭素
原子数１〜３のアルキル基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基などを挙げることができる。

また、Ｒ３で表わされる炭素原子数ｌ〜４のアルキル基
としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基などを挙げることができ、
炭素原子数１〜４のアルコキシアルキル基としては、例
えば、メトキシエチル基、エトキシエチル基などを挙げ
ることができ、炭素原子数１〜４のフッ化アルキル基と
しては、例えば、２，２，３．３−テトラフロロプロピ
ル基などを挙げることができる。

更に、ｘｌとしては、ＣＸ−１Ｂｒ−２■−ＣＩＬ＋Ｇ
ＯＯ−、Ｃ）＋３５０４−１ＣＦ３ＣＯ２−５ｃｉｏ４
−５ＢＦ４−１ＰＦ６−１ＨＳＯ４−１ＣＦ３ＳＯ３−
、ＣＨ３ＱＳＯ３−、ニッケルキレート錯体アニオンの
ような金属錯体アニオンなどを例示することができる。

更に本発明における色素は、有機溶媒に対する溶解度が
高く、記録層（色素含有層）形成用塗布液を調製する際
に色素が十分に溶解した均一な塗！５液を容易に調製す
ることができ、従って塗布液の基板への塗布性能が向上
しているので、表面が平滑で微細な凹凸も実質的に観察
されない優れた記録層（色素含有層）を容易に形成する
ことができるという顕著に優れた効果をも奏するもので
ある。

以下に、本発明における一般式（Ｉ）で表わされる色素
の具体例を第１表に示すが、これらの化合物に限定され
るものではない。なお、第１表において、各記号は一般
式（Ｉ）における記号を意味する。

以下余白 １表 Ｎｏ。

３ １ −２ １１３ （：ｌＩ３ １１３ ＣＨ，Ｉ １１３ ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＩ１゜ ＣＨ３ （：１０４− ＰＦ、− ＣＦ３５０３− ！−５ −６ ！−７ −８ １１３ １１３ Ｃ」１３ １１３ ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＨ。

ＣＨ。

ＣＨ３ Ｇ　２１１５ ２８５ Ｇ　２１１５ ■　− ＣＩＯ，− ＰＦ６− ＣＦ３５０３− ■　−１０ −１１ 【−１２ １１３ ＣＨ３ １１３ Ｃ１１３ｎ−（：、、Ｈ。

ＣＨ３ｎ−Ｃ３）１７ Ｃ８，ｎ−Ｃ，ｔ（。

に１０４− ＰＦ６− ＣＦ３５０３− １４ ！　−１５ １１３ １１３ ＯＨ，ｎ−Ｃ，Ｈ。

ＣＨ，ｎ　−Ｃ４ｔｌ　９ ■　− に１０．− 第１表（つづき） Ｎｏ。

１ ２ ３ １ 　−１６ ＣＨ３ −１７ ＣＨ３ ＣＨ。

ｎ−Ｃ，Ｈ９ ＣＨｌ ｎ−Ｃ，Ｈ，。

ＰＦ６− ＣＦ３ＳＯ，− −１９ ■　−２０ −２１ −２２ ＣＨ３ １１３ １１３ ＣＨ３ ＣＩ３ ＣＨ３ ０３ ＣＨ５ ｎ−１１：４Ｈ。

−Ｃ４Ｈ９ −Ｃ４Ｈ９ ｉ−Ｃ４Ｈ。

　− ＩＬ− ＰＦ、− ＣＦ、５０３− ■　−２４ −２５ 夏　−２６ ■　−２７ −２８ −２９ −３０ ＣＨ３ ＣＨ３ １１３ ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＨ。

ＣＨ。

ＣＨ。

ＣＨ。

ＣＩ。

ＣＨ３ ｉ−（：４Ｈ。

ｅｌ＋３ 　Ｈ３ ＣＨ３ ｎ−Ｃ４Ｈ，。

−Ｃ４Ｈ９ （：Ｈ２Ｃ８２０ＣＩ３ ■　− −ｔ −２ −３ −２ −４ （：ＩＯ，− 第１表（つづき） Ｎｏ。

Ｉ ２ ３ Ｉ 　−３１ ■　−３２ ■　−３３ −３４ ■　−３５ −３６ −３７ ！−３８ ■　−３９ −４０ −４１ −４２ ■　−４３ −４４ ■　−４５ １１３ １１３ １１３ １１３ Ｃ［１３ ２Ｈ５ Ｊｓ Ｃ２Ｉ＋　５ Ｊｓ ｎ−（：３Ｈ。

ｎ−に３Ｈ。

ｎ　−Ｃ３Ｉｔ　。

−Ｃ３Ｈｔ ｎ　−Ｃ３Ｈ。

ｎ−Ｃ３１１゜ Ｃ１１゜ ＣＨ３ ０Ｈ。

ＣＨ。

ＣＨ３ ２Ｕ　５ Ｃ２）１５ （：２Ｈ５ ２Ｈ５ ｎ　−Ｃ３Ｈ７ ｎ　−Ｃ３Ｈ。

ｎ−（：３Ｈ。

ｎ−（：３１１゜ ＣＨ３ １１３ ＣＨ２ＣＨ２０ＣＨ３ ｅｌ＋□（：Ｈ２ＯＣ２Ｈｓ ｃＨ２ｃｏ２ｏｃ２ｕ５ （：１Ｉ２（：Ｈ２ＱＧ２＋＋６ に　１１２　Ｇ　１１２０　Ｃ２ＨＳ ＣＨ３ ＣＨ３ −Ｃ４Ｈ９ ｎ−Ｃ４Ｈ。

ＣＨ。

ＣＩ！＋ ｎ−Ｃ４Ｈ。

ｎ−（：４１１９ １１３ ＣＨ３ ＰＦ６− ｌ０４− ＰＦ６− −Ｉ ｌ０４− １０４ ＰＦ６− ｌ０４− ＰＦ６− ｌ０４− ＰＦ６− ｌ０４− ＰＦ６− ＣＩＯ，− ＰＦ６− 第１表 （つづき） Ｎｏ。

１ ２ ３ Ｘ。

１−４６　　ｎ−Ｃ，Ｈ。

１−４７　　ｎ−Ｃ３）１ｔ ｌ４８　　　Ｃ２Ｈ３ Ｉ−４９Ｃ２Ｈ。

１−５０　　　Ｃｚｌｌ。

１−５１　　　Ｃ２Ｈ。

Ｉ　−５２ｎ−Ｃ，Ｌ １−５３　　ｎ−（：３Ｈ。

１−５４　　ｎ−（：、Ｈ。

１−５５　　ｎ−Ｃ，、Ｈ。

ｌ−５６（：２Ｈ。

１　−５７　　　Ｇ２０ｓ １−５８　　ｎ−Ｃ，Ｈ。

１　−５９　　ｎ−Ｃ３Ｈｙ Ｉ　−６０ｃ２Ｈｓ ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＨ３ １１３ ＣＨ３ Ｃ２１１゜ ２Ｈ５ Ｃ２１１５ Ｃ２Ｈ。

Ｃ２Ｈ。

Ｃ２ＩＩ　。

ｎ−（：３Ｈ。

ｎ−（：、Ｈ。

ＯＨ。

ｎ　−Ｃ４Ｈ。

ｎ　−Ｃ４ＩＩ　。

（Ｊｌ。

ＣＨ３ −Ｃ４Ｈ９ ｎ−Ｃ，Ｈｅ Ｃ！１３ ＣＨ３ −Ｃ４Ｈｅ ｎ−Ｇ、Ｈｅ ＣＨ３ ｎ−Ｃ４Ｈ。

ＣＨ３ ｎ−Ｃ，Ｈｅ ＣＨ３ ｌ０４− Ｆ６− ｌ０４− Ｆ６− １０４ Ｆ６− ｌ０４− Ｆ６− ＩＯ４ Ｆ６− −ｔ −ｔ −Ｉ −Ｉ −１ 第１表において、 記号は下記のものを示す。

前記−数式（Ｉ）で表わされるシアニン系色素は、常法
に従って合成することができる。例えばＴｈｅ　（：ｈ
ｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆ　Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　（
：ｏｍｐｏｕｎｄｓ　シリーズのＧｙａｎｉｎｅ　Ｄｙ
ｅｓ　ａｎｄ　Ｒｅ１ａｔｅｄ　（：ｏｍｐｏｕｎｄｓ
。

Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　５ｏｎｓ、　Ｎｅｗ　Ｙｏ
ｒｋ、　Ｌｏｎｄｏｎ　　（１９６４年発行）に記載さ
れた方法又はそこに引用された文献、成るいは特開昭６
０−１１８７４９号公報に記載された方法を参考にして
合成することができる。

以下に、前記例示した一般式（Ｉ）で表わされるシアニ
ン系色素の合成法を、いくつかの合成例により説明する
。なお、下記合成例における色素番号は第１表中の色素
の番号を意味する。

合成例１：色素１−１の合成 １．２，３．３−テトラメチルベンゾ［６１インドリニ
ウムバラトル工ンスルホネート２５ｇに、メタノール６
０ｍｕ、トリエチルアミン２２ｍｆｉ、１．５−ジフェ
ニル−１，５−ジアザ−１，３−ペンタジェン塩酸塩８
．２ｇ、及び無水酢酸６．６ｍｌをこの順序で加え、３
０分間加熱還流した。反応混合物を氷水０．７旦に添加
し、生じた固体を濾取し、水洗した。この固体をメタノ
ール０．６Ｉｌに溶解し、少量の不溶物を濾過して除い
た後、過塩素酸の６０％水溶液５ｍＩＬを加えた。生じ
た結晶を濾取し、メタノールで洗浄し乾燥して色素１−
１を得た。

収量ｆｉｇ、融点２５０〜２５２℃。

合成例２：゛色素１−２の合成 合成例１において、過塩素酸の水溶液の代わりに、ヘキ
サフルオロリン酸（ＨＰＦｓ）の６０％水溶液６．６ｍ
ｆｆ１を加えた他は同様にして、色素１−２の結晶を得
た。

収量１１．６ｇ、融点２７６〜２７８℃。

合成例３：色素１−１５の合成 １−ブチル−２，３，３−）リメチルベンゾ［ｅ］イン
ドリニウムヨウ化物２０ｇに、メタノール６０ｍ１、ト
リエチルアミ：ｚ１８ｍＪ２．１５−ジフェニル−１，
５−ジアザ−１，３−ペンタジェン塩酸塩６．６ｇ、及
び無水酢酸５．２ｍ１ｌをこの順序で加え、３０分間加
熱還流した。

反応混合物を氷水ｔＩｌに添加し、生じた固体を濾取し
た。この固体をメタノール４００ｍｆｔに添加し、温め
て溶かした後、過塩素酸の６０％水溶液１６．８ｍｊ！
を加えた。生じた結晶を濾取し、メタノール６００ｍｌ
１から再結晶して色素■−１５を得た。

収量９．２ｇ、融点１７６〜１７７℃。

合成例４；色素１−１６の合成 合成例３において、過塩素酸の水溶液の代わりに、ヘキ
サフルオロリン酸の６０％水溶液２２ｍＡ、を加え、生
じた結晶を濾取し、メタノールで洗浄後乾燥して、色素
ｌ−１６の結晶を得た。

収量６．６ｇ、融点２２９〜２３０．５℃。

次に、前記一般式（ＩＩ）で表わされるジインモニウム
系化合物について説明する。

一般式（［＋）において、Ｒで表わされる炭素原子数１
〜４のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基などを挙
げることができる。

また、ｘ２−で表わされるアニオンとしては、ヘキサフ
ルオロ砒酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン
、フッ化ホウ素酸イオン、過塩素酸イオン、トリフルオ
ロ酢酸イオン、過沃素酸イオンなどを挙げることができ
る。

本発明における一般式（［１）で表わされるジインモニ
ウム系化合物の具体例を第２表に示すが、これらの化合
物に限定されるものではない。なお、第２表において、
各記号は一般式（ＩＩ）における記号を意味する。

第　　２　　表 Ｎｏ。

×２ ＱＩ　　　　　　　　　　Ｃ２Ｈ３ Ｑ−２ＣＨ３ Ｑ３　　　　　　　　　Ｃ２Ｈ３ Ｑ−４ＣＨ３ Ｑ５　　　　　　　　　Ｃ２Ｈ３ Ｑ−６Ｃ３Ｈ７ Ｑ−７Ｃ３Ｈ７ Ｑ−８Ｃ４Ｈ９ Ｑ９　　　　　　　　　Ｃ４Ｈ９ Ｑ−１０Ｃ，Ｈ。

Ｑ−１１Ｃ４Ｈ９ ５Ｆ６ ＡｓＦ。

ＳｂＦ６ ＳｂＦ６ ＢＦ４ ＡｓＦ６ ＳｂＦ６ ５Ｆ６ ＳｂＦ。

ｌ１Ｏ４ ＢＦ。

本発明において、色素混合物中の、前記シアニン系色素
と前記ジインモニウム系化合物との割合が、シアニン系
色素／ジインモニウム系化合物＝１００１０．０１〜１
００／９９の重量比の範囲内にあることが好ましい。特
に好ましくは、シアニン系色素／ジインモニウム系化合
物＝１００／１〜１００１５０の重量比の範囲内である
。ジインモニウム系化合物が、上記範囲より少ない場合
は、耐光性、再生劣化耐性が充分でなく、上記範囲を超
える場合は記録層の反射率が低下し好ましくない。

記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。

上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、１．２−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、ｎ−プロパツール、イソプロパ
ツール、ｎ−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、２，２，３゜３−テトラフロ
ロ−１−プロパツール等フッソ系溶剤などを挙げること
ができる。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、５
０容量％以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族
炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶
媒を含んでいてもよい。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＬＩＶ吸収剤、可塑剤
、滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい
。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。色素の良好な配向状態を形成するためには、スピンコ
ード法を用いることが好ましい。さらにスピンコード時
に、スピンナーの回転数を５００〜５０００ｒ、ｐ、ｍ
、の範囲にて、そして乾燥時間を１〜６０秒の範囲にて
行なうことが上記色素の良好な配向を促進させる上で好
ましい。

記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）
の範囲にあり、好ましくは１．０〜９５％（重量比）の
範囲にある。

色素記録層の層厚は、前記基板に設けられたグループ上
での層厚で表わして、一般にはｔｔｏ。

〜１６００又、好ましくは、１２００〜１５００孟の範
囲である。

本発明の情報記録媒体において上記記録層の上に金属か
らなる反射層を設けてもよい。反射層を設けることによ
り、反射率の向上の効果、情報の再生時におけるＳ／Ｈ
の向上および記録時における感度の向上の効果も得るこ
とができる。

反射層の材料としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、
Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ。

Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ
、Ｐｄ、Ｉ　ｒ、Ｐｔ、Ｃｕ％Ａｇ。

Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｎ、Ｇａ、Ｉｎ、５ｉＧｅ、Ｔｅ
、Ｐｂ、Ｐｏ％Ｓｎ％Ｂｉなどの金属および半金属を挙
げることができる。さらにステンレス鋼などの合金であ
ってもよい。本発明では、温度４００Ｋにおける熱伝導
率が高い、少なくとも１０ｗ／ｍ−に以上の金属からな
る反射層が設けられることが好ましい。これにより、色
素記録層にレーザー光を照射した際の熱を反射層に急速
に伝導することができる。これらの中でもＡｕ、Ａｇ、
Ｃｕ、Ｐｔ、Ａｌｌ、Ｃｒ％Ｎｉおよびステンレス鋼が
特に好ましい。これらの物質は単独で用いてもよいし、
あるいは二種以上の組合せでまたは合金として用いても
よい。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。

反射層の層厚は特に７００又以上、更に特に７゜Ｏ〜２
０００Ｘの範囲であることが好ましい。

そして該反射層の上には、記録層および情報記録媒体全
体を物理的および化学的に保護する目的で保護層を設け
てもよい。また、この保護層は、基板の記録層が設けら
れていない側にも耐傷性、耐湿性を高める効果も有する
。

保護層に用いられる材料の例としては、無機物質として
は、Ｓｉｎ、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４゜ＭｇＦ２．ＳｎＯ
，等を挙げることができる。また、有機物質としては、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等を挙げ
ることができ、好ましくはＵＶ硬化性樹脂である。本発
明においては、上記物質を塗布により設けた場合に顕著
な効果を得ることができる。特に上記有機物質を塗布に
より設けた場合に有効である。

すなわち、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを適当な溶
剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布
し、乾燥することによっても形成することができる。Ｕ
Ｖ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤
に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、
ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成するこ
とができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、ウレタン（メタ
）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリ
エステル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレー
トのオリゴマー類、（メタ）アクリル酸エステル等のモ
ノマー類等さらに光重合開始剤等の通常のＵＶ硬化性樹
脂を使用することができる。これらの塗布液中には、更
に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤
を目的に応じて添加してもよい。本発明では、ＵＶ硬化
性樹脂を用いることが好ましい。

保護層の層厚は一般には０．１〜１００μｍ、特に好ま
しくは１〜２０μｍの範囲にある。

上記以外にも、保護層は、たとえばプラスチックの押出
加工で得られたフィルムを接着層を介して色素記録層の
上にラミネートすることにより形成することができる。

あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法によ
り設けられてもよい。

以下余白 以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各側は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ 前記の一般式（Ｉ）で表わされるシアニン系色素（１−
１）の１．７ｇと、前記の一般式（ＩＩ）で表わされる
ジインモニウム系化合物（Ｑ−１０）の０．１７ｇとの
混合物を、２，２，３．３−テトラフロロ−１−プロパ
ツール１００ｍｊ２に溶解して記録層塗布液を調製した
。

トラッキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板（外径：１２０ｍｍ、内径＝１５ｍｍ、厚さ：
１．２ｍｍ、トラックピッチ＝１．６μｍ、グループの
深さ：９００Ｘ、グループ幅：０．５μｍ〉上に、上記
塗布液をスピンコード法により回転数１０００　ｒ、ｐ
、ｍ、の速度で塗布し、回転数１０００　ｒ、ｐ、ｍ、
で３０秒間乾燥して、グループ上での膜厚が１３００又
の記録層を形成した。

上記のようにして形成した記録層上に、ＡｕをＤＣスパ
ッタリングして膜厚が１３００Ｘの反射層を形成した。

上記反射層りに、保護層としてＵＶ硬化性樹脂（スリー
ボンド社製、商品名：３０７０）をスピンコード法によ
り回転数１５００ｒ、ｐ劃、の速度で塗布した後、高圧
水銀灯にて紫外線を照射して硬化させ、層厚３μｍの保
護層を形成した。

このようにして、基板、記録層、反射層及び保護層から
なる情報記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について、下記の評価方法に従っ
て、１１Ｔ変調度、反射率、耐久性、及び耐光性を評価
した。それらの結果を第３表に示す。

なお、記録済の情報記録媒体の記録部において、記録層
はレーザ光の吸収による発熱のため変形が生じていたが
除去はされていなかった。すなわち、反射層と記録層と
の界面に、記録層のへこみによる空間が存在することが
確認された。また、記録層と基板との界面において、基
板材料、または基板材料と記録層との溶融混合物と考え
られるふくらみが、記録層側へ凸状に入り込んでいるこ
とが確認された。また、反射層には、変形等の変化は何
等認められなかった。これらの記録層の変形と記録層そ
のものの光学的性質の変化（分解等による光学定数の変
化）により記録がなされるものと考えられる。

［評価方法］ １４三ＬｊＪ１里： 得られた情報記録媒体について、波長７８０ｎｍの半導
体レーザ光を使用し、定線速度１．３ｍ／秒、記録パワ
ー７ｍＷで、ＥＦＭ信号を基板側からグループ上に記録
した。記録された信号を０．５ｍＷの半導体レーザ光で
再生し、再生信号波形をオシロスコープで観測した。再
生したＥＦＭ信号を最低基本周波数（１９６ｋＨｚ）成
分のＰ−Ｐ値をＡ１１．再生したＥＦＭ信号のグランド
レベルから最高レベルまでをＡ　ｔｏｐとしたとき、１
１Ｔ変調度は、 １１Ｔ変調度（％）　＝Ａ　＋　＋／　Ａ　ｔｏｐ　Ｘ
　１００て与えられる。

１１Ｔ変調度の好ましい値は６０％以上である。

反」［率： 未記録部における波長７８０ｎｍレーザ光の入射光のエ
ネルギーと反射光のエネルギーとを測定し、その比を百
分率で求めた。

反射率の好ましい値は７０％以上である。

紅久且： 得られた情報記録媒体について、８０℃、８０％ＲＨの
条件で５日間保存し、アーカイバルの１１Ｔ変調度及び
反射率を測定した。

耐久性試験の前後で、ＩＩＴ変調度及び反射率の値の差
が小さいことが好ましい。

虹光且： 得られた記録済の情報記録媒体について、キセノンラン
プ光を２４時間照射し、ＣＤプレイヤーで再生できるか
否かを判定した。

［実施例２］ シアニン色素（Ｉ−１）の代わりに、前記の一般式（Ｉ
）で表わされるシアニン系色素（Ｉ−１５）を１．７ｇ
使用した他は、実施例１におけると同様にして情報記録
媒体を製造し、得られた情報記録媒体について実施例１
におけると同様にして評価した。それらの結果を第３表
に示す。

なお、記録済の情報記録媒体の記録部において、記録層
はレーザ光の吸収による発熱のため変形が生じていたが
除去はされていなかった。すなわち、反射層と記録層と
の界面に、記録層のへこみによる空間が存在することが
確認された。また、記録層と基板との界面において、基
板材料、または基板材料と記録層との溶融混合物と考え
られるふくらみが、記録層側へ凸状に入り込んでいるこ
とが確認された。また、反射層には、変形等の変化は何
等認められなかった。これらの記録層の変形と記録層そ
のものの光学的性質の変化（分解等による光学定数の変
化）により記録がなされるものと考えられる。

［比較例１〕 シアニン色素（Ｉ−１）の代わりに下記の式で表わされ
る色素を１．７ｇ使用した他は、実施例！におけると同
様にして情報記録媒体を製造し、得られた情報記録媒体
について実施例１におけると同様にして評価した。それ
らの結果を第３表に示す。

［比較例２］ ジインモニウム系化合物（Ｑ−１０）の代わりに、下記
の式で表わされる化合物を０．１７ｇ使用した他は、実
施例２におけると同様にして情報記録媒体を製造し、得
られた情報記録媒体について実施例１におけると同様に
して評価した。それらの結果を第３表に示す。

第３表の結果から明らかなように、実施例で示される本
発明の情報記録媒体は、耐久性試験の前後で反射率及び
ＩＩＴ変調度が殆ど変化しておらず耐久性が優れており
、また耐光性が優れている。それに対して、比較例の情
報記録媒体は、耐久性及び耐光性が劣っている。

［発明の効果］ 本発明の情報記録媒体は、情報の再生のために最も一般
的に使用されている７８０ｎｍの波長のレーザ光に対し
て反射率が高く、耐久性及び耐光性が共に優れていると
いう顕著に優れた効果を奏する情報記録媒体である。

また、本発明の情報記録媒体は、本発明の情報記録媒体
の記録方法により情報を記録することによって、上記の
ような顕著に優れた効果を奏することができる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、円盤状基板上に、レーザ光により情報の記録又は再
   生が可能な色素を含む記録層が設けられた情報記録媒体
   であって、該色素が、下記一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１及びＲ＾２は、それぞれ独立に、炭素原
   子数１〜３のアルキル基を表わし、Ｒ＾３は、炭素原子
   数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ
   アルキル基又は炭素原子数１〜４のフツ化アルキル基を
   表わし、Ｘ＿１＾−はアニオンを表わす。） で表わされるシアニン系色素と、 下記一般式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒは、炭素原子数１〜４のアルキル基を表わし
   、Ｘ＿２＾−はアニオンを表わす。）で表わされるジイ
   ンモニウム系化合物との混合物であることを特徴とする
   情報記録媒体。 ２、該記録層の上に、更に金属からなる反射層とその上
   の保護層とが設けられていることを特徴とする請求項１
   記載の情報記録媒体。 ３、該基板に深さが７００〜１１００Åで幅が０．４〜
   ０．６μｍのグルーブが設けられており、該記録層の該
   グルーブ上での層厚が１１００〜１６００Åであり、そ
   して該反射層の層厚が７００Å以上であることを特徴と
   する請求項２記載の情報記録媒体。 ４、該基板に深さが７００〜１１００Åで幅が０．４〜
   ０．６μｍのグルーブが設けられており、該記録層の該
   グルーブ上での層厚が１１００〜１６００Åであり、該
   反射層の層厚が７００Å以上であり、そして該保護層が
   ＵＶ硬化性樹脂であってその層厚が１〜２０μｍである
   ことを特徴とする請求項２記載の情報記録媒体。 ５、円盤状基板上に、レーザ光により情報の記録又は再
   生が可能な色素を含む記録層が設けられ、該記録層の上
   に金属からなる反射層が設けられ、更に該反射層の上の
   保護層が設けられた情報記録媒体であって、該色素が、
   下記一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１及びＲ＾２は、それぞれ独立に、炭素原
   子数１〜３のアルキル基を表わし、Ｒ＾３は、炭素原子
   数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ
   アルキル基又は炭素原子数１〜４のフツ化アルキル基を
   表わし、Ｘ＿１＾−はアニオンを表わす。） 表わされるシアニン系色素と、 下記一般式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒは、炭素原子数１〜４のアルキル基を表わし
   、Ｘ＿２＾−はアニオンを表わす。）で表わされるジイ
   ンモニウム系化合物との混合物であり、該基板に深さが
   ７００〜１１００Åで幅が０．４〜０．６μｍのグルー
   ブが設けられており、該記録層の該グルーブ上での層厚
   が１１００〜１６００Åであり、該反射層の層厚が７０
   ０Å以上であり、そして該保護層がＵＶ硬化性樹脂であ
   ってその層厚が１〜２０μｍである情報記録媒体のグル
   ーブに、レーザ光により情報をピット記録することを特
   徴とする情報記録媒体の記録方法。