JPH03110126A - 凹凸パターンの形成方法 - Google Patents
凹凸パターンの形成方法Info
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- JPH03110126A JPH03110126A JP24879189A JP24879189A JPH03110126A JP H03110126 A JPH03110126 A JP H03110126A JP 24879189 A JP24879189 A JP 24879189A JP 24879189 A JP24879189 A JP 24879189A JP H03110126 A JPH03110126 A JP H03110126A
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Landscapes
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、光ディスクにおける所定の情報が記憶された
凹凸パターンの形成方法に関する。
凹凸パターンの形成方法に関する。
(従来技術)
コンパクトディスク、ビデオディスク等の光ディスクに
おいては、一定の情報が記憶された凹凸パターンを有す
る金属反射膜が設けられており、レーザー光等の光信号
が該金属反射膜に照射され、その反射信号を読み取るこ
とによって記憶された情報の再生が行われる。
おいては、一定の情報が記憶された凹凸パターンを有す
る金属反射膜が設けられており、レーザー光等の光信号
が該金属反射膜に照射され、その反射信号を読み取るこ
とによって記憶された情報の再生が行われる。
このような光ディスクの製造過程における信号面となる
凹凸パターンをディスクに形成する方法として、射出成
形法、2P法(フォトポリマー法)および熱融着法が知
られている。
凹凸パターンをディスクに形成する方法として、射出成
形法、2P法(フォトポリマー法)および熱融着法が知
られている。
これら何れの方法も、所定のスタンパ−上に形成された
凹凸パターンを適当な樹脂面上に転写せしめ、次いで金
属の真空蒸着、スパッタリング等によって金属反射面を
形成するものである。
凹凸パターンを適当な樹脂面上に転写せしめ、次いで金
属の真空蒸着、スパッタリング等によって金属反射面を
形成するものである。
例えば2P法では、ポリカーボネートやポリメチルメタ
クリレート等の樹脂基板を、紫外線硬化型樹脂が塗布さ
れたスタンパ−面に圧着させ、該硬化型樹脂に紫外線を
照射して硬化を行うか、あるいはスタンパ−から一定の
距離に樹脂基板を保持しておき、その間隙に紫外線硬化
型樹脂を圧入し、紫外線照射により硬化を行った後に、
スタンパ−を引き剥がすことによって樹脂面上に凹凸パ
ターンが形成される。
クリレート等の樹脂基板を、紫外線硬化型樹脂が塗布さ
れたスタンパ−面に圧着させ、該硬化型樹脂に紫外線を
照射して硬化を行うか、あるいはスタンパ−から一定の
距離に樹脂基板を保持しておき、その間隙に紫外線硬化
型樹脂を圧入し、紫外線照射により硬化を行った後に、
スタンパ−を引き剥がすことによって樹脂面上に凹凸パ
ターンが形成される。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、上述した先行技術の方法では、何れの場
合もスタンパ−に樹脂を圧着させることにより凹凸パタ
ーンが形成されるので、スタンパ−と樹脂との型離れの
問題を生じる。
合もスタンパ−に樹脂を圧着させることにより凹凸パタ
ーンが形成されるので、スタンパ−と樹脂との型離れの
問題を生じる。
例えば前述した2P法においても、硬化後に基板をスタ
ンパ−から引き剥がす際に、紫外線硬化型樹脂が該基板
に接着したままスタンパ−面から完全に剥がれるために
は、紫外線硬化型樹脂のスタンパ−に対する接着性と基
板に対する接着性とが大きく異なっていなければならず
、適当な紫外線硬化型樹脂の選定には相当な制限を受け
る。
ンパ−から引き剥がす際に、紫外線硬化型樹脂が該基板
に接着したままスタンパ−面から完全に剥がれるために
は、紫外線硬化型樹脂のスタンパ−に対する接着性と基
板に対する接着性とが大きく異なっていなければならず
、適当な紫外線硬化型樹脂の選定には相当な制限を受け
る。
また従来の方法は、何れも樹脂に転写された凹凸パター
ンの上から金属の真空蒸着、スパッタリング等を行うも
のであるから、凹凸パターンのエツジ部のシャープさが
ある程度失われるという不都合を回避することが困難と
なっている。
ンの上から金属の真空蒸着、スパッタリング等を行うも
のであるから、凹凸パターンのエツジ部のシャープさが
ある程度失われるという不都合を回避することが困難と
なっている。
本発明は、凹凸パターン形成に際してのスタンパ−と樹
脂との型離れの問題を解決すること、および凹凸パター
ンのエツジ部までも忠実に転写することが可能な凹凸パ
ターンの形成方法を提供することを目的とする。
脂との型離れの問題を解決すること、および凹凸パター
ンのエツジ部までも忠実に転写することが可能な凹凸パ
ターンの形成方法を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明の光ディスクにおける凹凸パターンの形成方法は
、樹脂基板となる樹脂フィルムの表面に予め金属の薄膜
を形成した後に、所定の情報が記憶された凹凸パターン
を該金属の薄膜に転写するという手段を採用することに
よって、上述した目的を達成するものであり、可塑性を
有する樹脂フィルム表面に金属の薄膜が形成されている
積層フィルムの金属面と、所定の情報が記憶された凹凸
パターンを有するスタンパ−とを圧着することにより該
凹凸パターンを前記積層フィルムに転写し、次いで転写
された凹凸パターンの固定化を行うことを特徴とする。
、樹脂基板となる樹脂フィルムの表面に予め金属の薄膜
を形成した後に、所定の情報が記憶された凹凸パターン
を該金属の薄膜に転写するという手段を採用することに
よって、上述した目的を達成するものであり、可塑性を
有する樹脂フィルム表面に金属の薄膜が形成されている
積層フィルムの金属面と、所定の情報が記憶された凹凸
パターンを有するスタンパ−とを圧着することにより該
凹凸パターンを前記積層フィルムに転写し、次いで転写
された凹凸パターンの固定化を行うことを特徴とする。
本発明を、以下、添付図面に示す具体例に基づいて詳細
に説明する。
に説明する。
本発明の凹凸パターンの形成方法を示す第1図において
、全体として1で表される積層フィルムは、可塑性を有
する樹脂フィルム2と、該樹脂フィルム2の一方の面に
設けられた金属の薄膜3と、好ましくはさらに他方の面
に設けられたサポートシート4とから構成されている。
、全体として1で表される積層フィルムは、可塑性を有
する樹脂フィルム2と、該樹脂フィルム2の一方の面に
設けられた金属の薄膜3と、好ましくはさらに他方の面
に設けられたサポートシート4とから構成されている。
かかる本発明方法において、可塑性を有する樹脂フィル
ム2は、金属膜3がスタンパ−6に押し付けられるに際
して、それ自身が変形するとともに、金属膜面とスタン
パ−との接触面に加圧力を均一に伝える緩衝材としても
作用する。したがって可塑性を有する樹脂フィルム2は
、加圧時に上面からの応力を金属膜3に伝達して塑性変
形を生じせしめるが、加圧力が取り除かれた場合にも、
−度生じた変形を元に戻すような残留応力が残るような
ものであってはならない。
ム2は、金属膜3がスタンパ−6に押し付けられるに際
して、それ自身が変形するとともに、金属膜面とスタン
パ−との接触面に加圧力を均一に伝える緩衝材としても
作用する。したがって可塑性を有する樹脂フィルム2は
、加圧時に上面からの応力を金属膜3に伝達して塑性変
形を生じせしめるが、加圧力が取り除かれた場合にも、
−度生じた変形を元に戻すような残留応力が残るような
ものであってはならない。
この様な可塑性を有する樹脂フィルム2を構成する樹脂
としては、上述した条件を満足する限りにおいて、紫外
線等の放射線硬化型樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂
が好適に使用される。
としては、上述した条件を満足する限りにおいて、紫外
線等の放射線硬化型樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂
が好適に使用される。
放射線硬化型樹脂としては、例えば特開昭64−366
15号に記載のもの、具体的にはエポキシ(メタ)アク
リレートやウレタン(メタ)アクリレート等のオリゴマ
ーに、グリシジル(メタ)アクリレート、トリメチルプ
ロパントリ(メタ)アクリレート、アクリル酸等のモノ
マーおよび光重合開始剤等を添加した組成物を挙げるこ
とができる。
15号に記載のもの、具体的にはエポキシ(メタ)アク
リレートやウレタン(メタ)アクリレート等のオリゴマ
ーに、グリシジル(メタ)アクリレート、トリメチルプ
ロパントリ(メタ)アクリレート、アクリル酸等のモノ
マーおよび光重合開始剤等を添加した組成物を挙げるこ
とができる。
熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等
を挙げることができる。
を挙げることができる。
熱可塑性樹脂としては、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン
、ポリプロピレン、ポリ酢酸ビニル、エチレン/酢酸ビ
ニル共重合体、ポリビニルアルコールポリカーボネート
等を挙げることができる。
、ポリプロピレン、ポリ酢酸ビニル、エチレン/酢酸ビ
ニル共重合体、ポリビニルアルコールポリカーボネート
等を挙げることができる。
本発明においては、これらの樹脂の中でも、後述する手
段によって転写された凹凸パターンの固定化が容易に行
われることから、放射線硬化型樹脂、特に紫外線硬化型
樹脂が最も好適に用いられる。また、可塑性を有する樹
脂フィルム2には、微粉シリカなどの充填材が配合され
ていてもよい。
段によって転写された凹凸パターンの固定化が容易に行
われることから、放射線硬化型樹脂、特に紫外線硬化型
樹脂が最も好適に用いられる。また、可塑性を有する樹
脂フィルム2には、微粉シリカなどの充填材が配合され
ていてもよい。
可塑性を有する樹脂フィルム2は、例えば液状の紫外線
硬化型樹脂を用いる場合には、サポートシート4上に該
樹脂を塗布することにより形成することができる。可塑
性を有する樹脂フィルム2の厚さは、通常、1〜110
0a’、好ましくは5〜50 preである。
硬化型樹脂を用いる場合には、サポートシート4上に該
樹脂を塗布することにより形成することができる。可塑
性を有する樹脂フィルム2の厚さは、通常、1〜110
0a’、好ましくは5〜50 preである。
サポートシート4は、例えばポリカーボネート樹脂、ア
クリル樹脂等の厚さ25〜100μ閑程度のシートであ
る。
クリル樹脂等の厚さ25〜100μ閑程度のシートであ
る。
また本発明方法において、可塑性を有する樹脂フィルム
2上に設けられる金属膜3は、通常、蒸着、スパッタリ
ング等により形成される。蒸着、スパッタリング等の条
件は、通常採用されているものでよいが、可塑性を有す
る樹脂フィルム2として放射線硬化型樹脂または熱硬化
性樹脂が使用されている場合には、該フィルム2中にモ
ノマー成分が含まれていることが多いため、これらモノ
マー成分が蒸着、スパッタリング等に際して揮散しない
ように、減圧度等の諸条件を適宜定めることが必要であ
る。例えば、真空度は10−’Torr以下、膜生成速
度は0.1〜10μm/分程度とするのがよい。
2上に設けられる金属膜3は、通常、蒸着、スパッタリ
ング等により形成される。蒸着、スパッタリング等の条
件は、通常採用されているものでよいが、可塑性を有す
る樹脂フィルム2として放射線硬化型樹脂または熱硬化
性樹脂が使用されている場合には、該フィルム2中にモ
ノマー成分が含まれていることが多いため、これらモノ
マー成分が蒸着、スパッタリング等に際して揮散しない
ように、減圧度等の諸条件を適宜定めることが必要であ
る。例えば、真空度は10−’Torr以下、膜生成速
度は0.1〜10μm/分程度とするのがよい。
かかる金属膜3は、例えばアルミニウム、アルミニウム
ーチタン合金、チタン−銅合金、銀−チタン合金等で形
成される。またこの膜は、−船釣に、スタンパ−面に形
成されている凹凸パターン5の深さ(情報再生に際して
使用されるレーザ等の光の波長の174であり、通常約
0.1μ曽程度)の0.2〜2倍程度の厚みを有してい
ることが好適である。この厚みが上記範囲よりも小さい
と、金属膜3自体の反射率が低下して記憶された情報の
再現を有効に行うことが困難となり、またスタンパ−と
の圧着に際して破断等が生じやすくなる。
ーチタン合金、チタン−銅合金、銀−チタン合金等で形
成される。またこの膜は、−船釣に、スタンパ−面に形
成されている凹凸パターン5の深さ(情報再生に際して
使用されるレーザ等の光の波長の174であり、通常約
0.1μ曽程度)の0.2〜2倍程度の厚みを有してい
ることが好適である。この厚みが上記範囲よりも小さい
と、金属膜3自体の反射率が低下して記憶された情報の
再現を有効に行うことが困難となり、またスタンパ−と
の圧着に際して破断等が生じやすくなる。
また金属膜3の厚みが上記範囲を超えると、所定の情報
が記憶されている凹凸パターンの形状を忠実に転写する
ことが困難となる傾向がある。
が記憶されている凹凸パターンの形状を忠実に転写する
ことが困難となる傾向がある。
本発明においては、可塑性を有する樹脂フィルム2と金
属膜3とを有する積層フィルム1を、所定の情報が記憶
された凹凸パターン5を有するスタンパ−6に圧着する
ことにより、該凹凸パターン5を前記金属膜3に転写せ
しめる。スタンパ−と6の圧着は、ローラや平板プレス
等によって行われる。
属膜3とを有する積層フィルム1を、所定の情報が記憶
された凹凸パターン5を有するスタンパ−6に圧着する
ことにより、該凹凸パターン5を前記金属膜3に転写せ
しめる。スタンパ−と6の圧着は、ローラや平板プレス
等によって行われる。
ローラや平板プレス等の加圧力は、金属膜3を塑性変形
させるに十分な応力が生じる条件を満たせばよい。ロー
ラを使用する場合は、通常、ローラの直径が5〜10c
11.5cm/秒の周速、粘度が10’ポアズの樹脂フ
ィルムの厚さが50μ陽である時は、5〜20kg/c
m程度の圧力が必要である。また、平板プレスを使用す
る場合は、20〜100kg/cmの圧力が必要である
。
させるに十分な応力が生じる条件を満たせばよい。ロー
ラを使用する場合は、通常、ローラの直径が5〜10c
11.5cm/秒の周速、粘度が10’ポアズの樹脂フ
ィルムの厚さが50μ陽である時は、5〜20kg/c
m程度の圧力が必要である。また、平板プレスを使用す
る場合は、20〜100kg/cmの圧力が必要である
。
本発明によれば、スタンパ−6と可塑性を有する樹脂フ
ィルム2とを圧着後または圧着しながら、可塑性を有す
る樹脂フィルム2の硬化を行うことにより、転写された
凹凸パターン形状を固定化せしめる。
ィルム2とを圧着後または圧着しながら、可塑性を有す
る樹脂フィルム2の硬化を行うことにより、転写された
凹凸パターン形状を固定化せしめる。
このような凹凸パターンの転写あるいはその固定化の具
体的条件および方法等は、可塑性を有する樹脂フィルム
2を構成する樹脂の種類によって異なる。
体的条件および方法等は、可塑性を有する樹脂フィルム
2を構成する樹脂の種類によって異なる。
例えば紫外線硬化型樹脂が使用されている場合には、透
明なサポートシート4上に形成された可塑性を有する樹
脂フィルム2がスタンパ−6に圧着されている状態で、
サポートシート4側から紫外線を照射することにより、
該樹脂の硬化が行われ、スタンパ−6より転写された凹
凸パターンが固定される。また熱硬化性樹脂が使用され
ている場合には、適当な温度に加熱することにより硬化
が行われ、この場合はサポートシート4は透明であるこ
とを要しない、さらに熱可塑性樹脂が使用されている場
合には、スタンパ−6を圧着する際に、該樹脂が変形し
得る程度の温度に可塑性を有する樹脂フィルム2を加熱
し、スタンパ−6に圧着させた状態で可塑性を有する樹
脂フィルム2を冷却することによって転写された凹凸パ
ターン形状が固定される。この場合にもサポートシート
4は透明であることを要しない。
明なサポートシート4上に形成された可塑性を有する樹
脂フィルム2がスタンパ−6に圧着されている状態で、
サポートシート4側から紫外線を照射することにより、
該樹脂の硬化が行われ、スタンパ−6より転写された凹
凸パターンが固定される。また熱硬化性樹脂が使用され
ている場合には、適当な温度に加熱することにより硬化
が行われ、この場合はサポートシート4は透明であるこ
とを要しない、さらに熱可塑性樹脂が使用されている場
合には、スタンパ−6を圧着する際に、該樹脂が変形し
得る程度の温度に可塑性を有する樹脂フィルム2を加熱
し、スタンパ−6に圧着させた状態で可塑性を有する樹
脂フィルム2を冷却することによって転写された凹凸パ
ターン形状が固定される。この場合にもサポートシート
4は透明であることを要しない。
転写された凹凸パターン形状の固定が行われた後、積層
フィルム1はスタンパ−6から引き剥がされる。
フィルム1はスタンパ−6から引き剥がされる。
かくして凹凸パターンが転写された積層フィルム1は、
その金属膜3の凹凸パターン面に適当な透明接着剤を介
して透明基板が貼着され、ディスクの形に打ち抜かれる
か、凹凸パターンが転写された積層フィルム1の樹脂面
またはサポートシー、ト4上に透明基板を透明接着剤を
用いて接着し、金属膜3の凹凸パターン面上に保護層を
形成し、ディスクの形に打ち抜かれて光ディスクとされ
る。
その金属膜3の凹凸パターン面に適当な透明接着剤を介
して透明基板が貼着され、ディスクの形に打ち抜かれる
か、凹凸パターンが転写された積層フィルム1の樹脂面
またはサポートシー、ト4上に透明基板を透明接着剤を
用いて接着し、金属膜3の凹凸パターン面上に保護層を
形成し、ディスクの形に打ち抜かれて光ディスクとされ
る。
この場合、用いる透明接着剤としては、透明性が保持さ
れている限りにおいて任意の接着剤が使用されるが、特
に前述した紫外線硬化型樹脂が好適に使用される。また
この透明接着剤は、情報再生に際しての光路側に位置す
るものであるから、光路長を変動させないように均一に
設けることが必要であり、その厚みは5〜50μmの範
囲にあることが望ましい。この厚みが5μm未満である
とピンホールが生じやすく、50μmを超えると均一の
厚みとなりにくくなる。
れている限りにおいて任意の接着剤が使用されるが、特
に前述した紫外線硬化型樹脂が好適に使用される。また
この透明接着剤は、情報再生に際しての光路側に位置す
るものであるから、光路長を変動させないように均一に
設けることが必要であり、その厚みは5〜50μmの範
囲にあることが望ましい。この厚みが5μm未満である
とピンホールが生じやすく、50μmを超えると均一の
厚みとなりにくくなる。
さらに、上記の透明接着剤を介して積層される透明基板
としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、塩化
ビニル樹脂等の透光性プラスチック板あるいはガラス板
が使用され、その厚みは通常、1〜1.5 am程度と
される。
としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、塩化
ビニル樹脂等の透光性プラスチック板あるいはガラス板
が使用され、その厚みは通常、1〜1.5 am程度と
される。
(実施例)
厚さ50μIのポリカーボネート樹脂フィルム上に、紫
外線硬化型樹脂組成物rP6021J(日本合成ゴム株
式会社製)に5重量%のrAERO3IL、(粒径70
人、日本アエロジル社製)を添加したものを50μmの
厚さで塗布した。
外線硬化型樹脂組成物rP6021J(日本合成ゴム株
式会社製)に5重量%のrAERO3IL、(粒径70
人、日本アエロジル社製)を添加したものを50μmの
厚さで塗布した。
この塗布面を50°Cの空気中に1時間放置して均一に
した後、圧力を10−”torr以下に保ったチャンバ
ーに入れ、紫外線硬化型樹脂組成物の塗布面にアルミニ
ウムを厚さ0.1μmに真空蒸着した。
した後、圧力を10−”torr以下に保ったチャンバ
ーに入れ、紫外線硬化型樹脂組成物の塗布面にアルミニ
ウムを厚さ0.1μmに真空蒸着した。
次いでアルミニウムの蒸着面に、凹凸面を有するニッケ
ル製スタンパ−の凹凸面を押し当てて、プレスロールに
より加圧力15 kgf/cm、ロール通過速度を5
cm/secで圧着した。
ル製スタンパ−の凹凸面を押し当てて、プレスロールに
より加圧力15 kgf/cm、ロール通過速度を5
cm/secで圧着した。
圧着後、ポリカーボネートフィルム側から紫外線を5秒
間照射し、紫外線硬化型樹脂組成物を硬化させた。硬化
終了後、ニッケルスタンパ−を剥離した。
間照射し、紫外線硬化型樹脂組成物を硬化させた。硬化
終了後、ニッケルスタンパ−を剥離した。
ここで、アルミニウムの蒸着面を、走査型電子顕微鏡で
観察ししたところ、ニッケルスタンパ−の凹凸が忠実に
転写されていた。
観察ししたところ、ニッケルスタンパ−の凹凸が忠実に
転写されていた。
次いで、このアルミニウムの蒸着面上に前記と同じ紫外
線硬化型樹脂組成物を硬化後の厚みが50μmとなる厚
みで塗布し、これをlll11厚のポリカーボネート基
板にローラで圧接した後、前記と同様の紫外線照射によ
り硬化を行い、透明接着層を形成した後、ディスクの形
に打抜き、光ディスクを製造した。
線硬化型樹脂組成物を硬化後の厚みが50μmとなる厚
みで塗布し、これをlll11厚のポリカーボネート基
板にローラで圧接した後、前記と同様の紫外線照射によ
り硬化を行い、透明接着層を形成した後、ディスクの形
に打抜き、光ディスクを製造した。
(発明の効果)
本発明によれば、所定の情報が記憶された凹凸パターン
を忠実に転写することが可能となり、また凹凸パターン
の転写に際して、凹凸パターンが転写されたフィルムと
該スタンパ−との引き剥がしを、樹脂等によりスタンパ
−を汚すことなく且つ容易に行うことができ、このスタ
ンパ−を長期にわたって連続的に凹凸パターンの転写に
用いることが可能である。
を忠実に転写することが可能となり、また凹凸パターン
の転写に際して、凹凸パターンが転写されたフィルムと
該スタンパ−との引き剥がしを、樹脂等によりスタンパ
−を汚すことなく且つ容易に行うことができ、このスタ
ンパ−を長期にわたって連続的に凹凸パターンの転写に
用いることが可能である。
さらに本発明方法においては、金属膜の形成を長尺のフ
ィルム上に連続的に行うことができるため、光デイスク
製造工程の連続化が容易となり、生産性が顕著に向上す
るという利点がもたらされる。
ィルム上に連続的に行うことができるため、光デイスク
製造工程の連続化が容易となり、生産性が顕著に向上す
るという利点がもたらされる。
第1図は、本発明方法を簡単に説明するための説明図で
ある。
ある。
Claims (1)
- (1)可塑性を有する樹脂フィルム表面に金属の薄膜が
形成されている積層フィルムの金属面と、所定の情報が
記憶された凹凸パターンを有するスタンパーとを圧着す
ることにより該凹凸パターンを前記積層フィルムに転写
し、次いで転写された凹凸パターンの固定化を行うこと
を特徴とする光ディスクにおける凹凸パターンの形成方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24879189A JPH03110126A (ja) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | 凹凸パターンの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24879189A JPH03110126A (ja) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | 凹凸パターンの形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03110126A true JPH03110126A (ja) | 1991-05-10 |
Family
ID=17183451
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24879189A Pending JPH03110126A (ja) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | 凹凸パターンの形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03110126A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010269480A (ja) * | 2009-05-20 | 2010-12-02 | Toppan Printing Co Ltd | 微細凹凸構造体、およびその製造方法、ならびに光学素子 |
-
1989
- 1989-09-25 JP JP24879189A patent/JPH03110126A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010269480A (ja) * | 2009-05-20 | 2010-12-02 | Toppan Printing Co Ltd | 微細凹凸構造体、およびその製造方法、ならびに光学素子 |
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