JPH028357A - 溶射方法 - Google Patents
溶射方法Info
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- JPH028357A JPH028357A JP63156296A JP15629688A JPH028357A JP H028357 A JPH028357 A JP H028357A JP 63156296 A JP63156296 A JP 63156296A JP 15629688 A JP15629688 A JP 15629688A JP H028357 A JPH028357 A JP H028357A
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Landscapes
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、金属、セラミックス等の溶融又は半溶融微粒
子を吹付けて皮膜を形成する溶射方法に関する。
子を吹付けて皮膜を形成する溶射方法に関する。
溶射方法は、第２図模式図に示すように、ガス式又は電
気式の溶射ガン１０において、金属、セラミックス又は
これらの混合物を高温のガス炎やプラズマ環境中に投入
して溶融又は半溶融状態の微粒子とし、ジェット噴流１
１として基材１表面に吹付けて溶射皮膜２を形成さぜる
表面処理技術であり、従来の溶射方法は大半が大気中で
行われておシ、最近減圧のアルゴン環境下でのプラズマ
溶射方法が開発されている。
気式の溶射ガン１０において、金属、セラミックス又は
これらの混合物を高温のガス炎やプラズマ環境中に投入
して溶融又は半溶融状態の微粒子とし、ジェット噴流１
１として基材１表面に吹付けて溶射皮膜２を形成さぜる
表面処理技術であり、従来の溶射方法は大半が大気中で
行われておシ、最近減圧のアルゴン環境下でのプラズマ
溶射方法が開発されている。
しかしながら、大気中θ）溶射方法Ｖこは次の問題点が
ある。
ある。
（１）大気中であるため、皮膜中に酸化物が含まれ密着
性が悪い。
性が悪い。
（２）基材を予熱すると、酸化し密着性が劣る。
ｆ３１ （２）により基材の予熱ができないため、皮
膜内σ）残留応力が解放できず、従って厚）膜化が不可
能である。
膜内σ）残留応力が解放できず、従って厚）膜化が不可
能である。
また大気中溶射方法の問題点を解決すべく開発された減
圧プラズマ溶射方法Ｖこも次の問題点がある。
圧プラズマ溶射方法Ｖこも次の問題点がある。
（１）減圧のアルゴン中であるため、酸化物の混入は少
なく基材の予熱も可能であるが、溶融状態まで温度を上
げていないため、基材の表面の凹凸及び粒子の衝突によ
シ機械的に密着しているにすぎず、組織的にも中間層が
ほとんどない二層状態であフ、よって皮ｊ漠の密着性の
点で問題がある。
なく基材の予熱も可能であるが、溶融状態まで温度を上
げていないため、基材の表面の凹凸及び粒子の衝突によ
シ機械的に密着しているにすぎず、組織的にも中間層が
ほとんどない二層状態であフ、よって皮ｊ漠の密着性の
点で問題がある。
本発明は、このような挙情に鑑みて提案されたもので、
基材と溶射材料が混合、拡散し、密着性良好な溶射皮膜
が形成される溶射方法を提供することを目的とする。
基材と溶射材料が混合、拡散し、密着性良好な溶射皮膜
が形成される溶射方法を提供することを目的とする。
そのために本発明は、減圧の無酸化ガス雰囲気中に設置
された基材表面上に高エネルギビーム発生装置より発せ
られたビームを照射して上記基材の表層部を溶融状態と
し、その直後又は同時に溶射ガンより溶融又は半溶融状
態とした溶射材料のジェット噴流を上記溶融状態の基材
表層部に吹付は皮膜を形成させることを特徴とする。
された基材表面上に高エネルギビーム発生装置より発せ
られたビームを照射して上記基材の表層部を溶融状態と
し、その直後又は同時に溶射ガンより溶融又は半溶融状
態とした溶射材料のジェット噴流を上記溶融状態の基材
表層部に吹付は皮膜を形成させることを特徴とする。
本発明方法においては、溶融状態の基材に溶融又は半溶
融状態の溶射材料微粒子を吹付けることにより、基材と
溶射材料が混合、拡散し、基材と溶射皮膜の１−に基材
と溶射材料の混合組織である中間層が形成され、この中
間層により溶射皮膜の密着性が向上する。
融状態の溶射材料微粒子を吹付けることにより、基材と
溶射材料が混合、拡散し、基材と溶射皮膜の１−に基材
と溶射材料の混合組織である中間層が形成され、この中
間層により溶射皮膜の密着性が向上する。
本発明溶射方法の一実施例を図面について説明すると、
第１図はその実施要領を示す模式図である。
第１図はその実施要領を示す模式図である。
上図において、基材１を収納設置する処理チャンバ４に
減圧口５を設けて図示せざる真空ポンプに接続するとと
もに、無酸化ガス供給口６からン１東酸化ガスを供給し
て処理チャンバ４内を減圧無酸化ガス７の状態とする。
減圧口５を設けて図示せざる真空ポンプに接続するとと
もに、無酸化ガス供給口６からン１東酸化ガスを供給し
て処理チャンバ４内を減圧無酸化ガス７の状態とする。
オた基材１の上方に電子ビーム又はレーザーピム等θ）
高エネルギビーム発生装置８と、電気式又はガス武力溶
射ガン１０を配置する。
高エネルギビーム発生装置８と、電気式又はガス武力溶
射ガン１０を配置する。
しかして、減圧無酸化ガス７中に設置された基材１上に
高エネルギビーム発生装置８より発せられた高エネルギ
ビーム９を照射し、基材１の表層部を溶融状態１とし、
その直後又は同時に、溶射ガン１０により溶融又は半溶
融状態とした溶射材料のジェット噴流１１を溶融状態１
′に吹付ける。この操作を連続して行うために、基材１
又は溶射ガン１ｏ及び高エネルギビーム発生装置８のい
ずれかを所定の連関で移動させる。かくすることによシ
、基材１の表面に連続して、基材１と溶射材料ジェット
噴流１１の混合組織の中間層３を有する溶射皮膜２が形
成される。
高エネルギビーム発生装置８より発せられた高エネルギ
ビーム９を照射し、基材１の表層部を溶融状態１とし、
その直後又は同時に、溶射ガン１０により溶融又は半溶
融状態とした溶射材料のジェット噴流１１を溶融状態１
′に吹付ける。この操作を連続して行うために、基材１
又は溶射ガン１ｏ及び高エネルギビーム発生装置８のい
ずれかを所定の連関で移動させる。かくすることによシ
、基材１の表面に連続して、基材１と溶射材料ジェット
噴流１１の混合組織の中間層３を有する溶射皮膜２が形
成される。
以下に、高炭素クロム軸受鋼（ＳＵＪ−２）の基材上に
プラズマ溶射法により、ＷＣ−Ｃ。
プラズマ溶射法により、ＷＣ−Ｃ。
材を溶射した具体的実験例について説明する。
この実験例における基材、溶射材料、高エネルギビーム
発生装置、溶射ガン及び溶射結果は次の通りである。
発生装置、溶射ガン及び溶射結果は次の通りである。
（１）基材： ＪＩＳ Ｇ４８０５の高炭素クロム軸
受鋼（ＳＵＪ−２）。
受鋼（ＳＵＪ−２）。
（２１溶射材料：焼結粉砕法によ！ｌｌ製造したＷ Ｃ
１２’１０ Ｃｏ粉末で、粒径は１０〜４５μｍ （６）高エネルギビーム発生装置二発生装置・・・ＣＯ
２レーザー発生装置、出力・・・３ＫＷ、ビーム■・直
径２０ｍｍ１Ｚｔ、レーザービームヘッドから基材まで
の距離・・・２００ｍｍ、ビーム走査速度・・・溶射速
度と同一速度。
１２’１０ Ｃｏ粉末で、粒径は１０〜４５μｍ （６）高エネルギビーム発生装置二発生装置・・・ＣＯ
２レーザー発生装置、出力・・・３ＫＷ、ビーム■・直
径２０ｍｍ１Ｚｔ、レーザービームヘッドから基材まで
の距離・・・２００ｍｍ、ビーム走査速度・・・溶射速
度と同一速度。
（４）溶射ガン：プラズマ溶射ガンで、ガンから基材１
での距離は１５０ｍｍ。
での距離は１５０ｍｍ。
（５）溶射結果二以上の条件にて、２０〜５０ミリバー
ルに減圧したアルゴンガス中で４００ｍｍ／ｓｅｃの速
度で基材を移動させ溶射した結果、基材と溶射材料が拡
散した中間層をゼする密着性良好な皮膜を形成すること
ができた。
ルに減圧したアルゴンガス中で４００ｍｍ／ｓｅｃの速
度で基材を移動させ溶射した結果、基材と溶射材料が拡
散した中間層をゼする密着性良好な皮膜を形成すること
ができた。
要するに本発明によれば、減圧の無酸化ガス雰囲気中に
設置された基材表面上に高エネルギビーム発生装置より
発せられたビームを照射して上記基材の表層部を溶融状
態とし、その直後又は同時に溶射ガンよシ溶融又は半溶
融状態とした溶射材料のジェット噴流を上記溶融状態の
基材表層部に吹付は皮膜を形成させることにより、基材
と溶射材料が混合。
設置された基材表面上に高エネルギビーム発生装置より
発せられたビームを照射して上記基材の表層部を溶融状
態とし、その直後又は同時に溶射ガンよシ溶融又は半溶
融状態とした溶射材料のジェット噴流を上記溶融状態の
基材表層部に吹付は皮膜を形成させることにより、基材
と溶射材料が混合。
拡散し、密着性良好な溶射皮膜が形成される溶射方法を
得るから、本発明は産業上極めて有益なものである。
得るから、本発明は産業上極めて有益なものである。
第１図は本発明溶射方法の一実施例の実施要領を示す模
式図、第２図は従来方法を示す模式図である。 １・・・基材、１・・・溶融状態の基材、２・・・溶射
皮膜、３・・・中間層、４・・・処理チャンバ、５・・
・減圧口、６・・・無酸化ガス供給口、７・・・減圧無
酸化ガス、８・・・高エネルギビーム発生装置、９・・
・高エネルギビーム、１０・・・溶射ガン、１１・・・
ジェット噴流。 代理人 弁理士 塚 本 正 文
式図、第２図は従来方法を示す模式図である。 １・・・基材、１・・・溶融状態の基材、２・・・溶射
皮膜、３・・・中間層、４・・・処理チャンバ、５・・
・減圧口、６・・・無酸化ガス供給口、７・・・減圧無
酸化ガス、８・・・高エネルギビーム発生装置、９・・
・高エネルギビーム、１０・・・溶射ガン、１１・・・
ジェット噴流。 代理人 弁理士 塚 本 正 文
Claims (1)
- 減圧の無酸化ガス雰囲気中に設置された基材表面上に高
エネルギビーム発生装置より発せられたビームを照射し
て上記基材の表層部を溶融状態とし、その直後又は同時
に溶射ガンより溶融又は半溶融状態とした溶射材料のジ
ェット噴流を上記溶融状態の基材表層部に吹付け皮膜を
形成させることを特徴とする溶射方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63156296A JPH028357A (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 溶射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63156296A JPH028357A (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 溶射方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH028357A true JPH028357A (ja) | 1990-01-11 |
Family
ID=15624711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63156296A Pending JPH028357A (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 溶射方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH028357A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0489520A1 (en) * | 1990-11-21 | 1992-06-10 | Sermatech International Inc. | Chamber for applying a thermal spray coating and method of using the same |
| FR2693925A1 (fr) * | 1992-07-23 | 1994-01-28 | Sevenans Inst Polytechnique | Procédé de préparation et de revêtement de surface et dispositif pour la mise en Óoeuvre dudit procédé. |
| FR2715942A1 (fr) * | 1994-02-04 | 1995-08-11 | Gec Alsthom Electromec | Procédé et dispositif de traitement d'une surface d'un substrat par dépôt d'un revêtement. |
| JP2016518523A (ja) * | 2013-04-12 | 2016-06-23 | マシーネンファブリク ラインハウゼン ゲーエムベーハー | 構造体を基板上に作成する方法および装置 |
| CN106801209A (zh) * | 2016-12-28 | 2017-06-06 | 马鞍山蓝科再制造技术有限公司 | 一种提升防尘盖耐腐蚀性的纳米热喷涂工艺工艺 |
-
1988
- 1988-06-24 JP JP63156296A patent/JPH028357A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0489520A1 (en) * | 1990-11-21 | 1992-06-10 | Sermatech International Inc. | Chamber for applying a thermal spray coating and method of using the same |
| US5389407A (en) * | 1990-11-21 | 1995-02-14 | Sermatech International, Inc. | Thermal spraying coating method |
| FR2693925A1 (fr) * | 1992-07-23 | 1994-01-28 | Sevenans Inst Polytechnique | Procédé de préparation et de revêtement de surface et dispositif pour la mise en Óoeuvre dudit procédé. |
| FR2715942A1 (fr) * | 1994-02-04 | 1995-08-11 | Gec Alsthom Electromec | Procédé et dispositif de traitement d'une surface d'un substrat par dépôt d'un revêtement. |
| JP2016518523A (ja) * | 2013-04-12 | 2016-06-23 | マシーネンファブリク ラインハウゼン ゲーエムベーハー | 構造体を基板上に作成する方法および装置 |
| CN106801209A (zh) * | 2016-12-28 | 2017-06-06 | 马鞍山蓝科再制造技术有限公司 | 一种提升防尘盖耐腐蚀性的纳米热喷涂工艺工艺 |
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