JPH0257446B2 - - Google Patents
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- JPH0257446B2 JPH0257446B2 JP61191974A JP19197486A JPH0257446B2 JP H0257446 B2 JPH0257446 B2 JP H0257446B2 JP 61191974 A JP61191974 A JP 61191974A JP 19197486 A JP19197486 A JP 19197486A JP H0257446 B2 JPH0257446 B2 JP H0257446B2
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、連続してリング状に形成された線
材をコンベアによりコイルプレート上に集束する
リング集束装置におけるリング堆積制御装置に関
するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a ring deposition control device in a ring convergence device that converges wire rods continuously formed into a ring shape onto a coil plate by a conveyor.
連続して搬送されるリング状線材を集束する従
来の集束装置としては、例えば第６図に示すもの
がある。この図において、６０は線材、６１は仕
上圧延機、６２は水冷装置、６３はレイングコー
ン、６４はコンベア、６５は集束装置、６６はコ
イルプレート、６７はセイル、６８は光電検出器
である。
An example of a conventional focusing device for focusing continuously conveyed ring-shaped wire rods is shown in FIG. 6. In this figure, 60 is a wire rod, 61 is a finishing mill, 62 is a water cooling device, 63 is a laying cone, 64 is a conveyor, 65 is a focusing device, 66 is a coil plate, 67 is a sail, and 68 is a photodetector.
仕上圧延機６１を出た線材６０は、水冷装置に
より水冷され、レイングコーン６３によつてリン
グ状に形成され、連続したリングｒとして、コン
ベア６４により搬送される。コンベア６４によつ
て搬送されたリングｒは集束装置６５内に落下
し、堆積される。 The wire rod 60 exiting the finishing mill 61 is water-cooled by a water cooling device, formed into a ring shape by a laying cone 63, and conveyed by a conveyor 64 as a continuous ring r. The rings r conveyed by the conveyor 64 fall into the convergence device 65 and are deposited thereon.
このようなリング集束装置においては、リング
ｒの落下に伴い、コイルプレート６６を下降させ
るが、リングｒが不揃に堆積することにより、凹
凸が発生し、必要以上に保管スペースをとつた
り、搬送保管中にリングｒが崩れたりすることが
多い。従つて、このリング間の平行度を向上さ
せ、リングを密に集束させるために、堆積された
リングの上面を一定位置になるようにコイルプレ
ートの下降速度を制御するとともに、落下される
リング状線材をリング状線材の堆積位置の上方
で、水平方向に変化させながら落下させることが
必要となる。 In such a ring focusing device, the coil plate 66 is lowered as the ring r falls, but the rings r are piled up unevenly, causing unevenness and taking up more storage space than necessary. Ring r often collapses during transportation and storage. Therefore, in order to improve the parallelism between the rings and focus the rings tightly, the descending speed of the coil plate is controlled so that the top surface of the stacked rings is at a constant position, and the falling ring shape is It is necessary to drop the wire while changing it in the horizontal direction above the position where the ring-shaped wire is deposited.
このリングの堆積位置を制御するために、従来
では、
(1) 運転者が設定した一定速度により、コイルプ
レートを下降させて、リング上面を一定位置に
制御する方法、
(2) タイマー設定によつてコイルプレートの下降
を間欠的に運転する方法、
(3) リング上面となる位置に光電検出器を１対設
置し、リング上端を検出後、設定された速度で
単位時間コイルプレートを増速して、リングの
堆積上端位置を検出器位置より下げ、再び検出
器がリングの上端を検出したとき、同様の動作
を行うことにより、リングの上端位置をほぼ一
定位置に制御する方法、
(4) 落下するリング状線材を水平方向に変化させ
ながら落下させるタイミングはコンベアで搬送
される先端部のコイルが集束装置に落下する瞬
間をとらえて開始し、その後落下するリング状
線材がなくなるまで連続運転する方法、
等が知られている。第６図に示した従来例では、
前記(3)に示した方法がとられており、リングの上
端位置を検出するために、光電検出器６８が設け
られている。 Conventionally, in order to control the stacking position of the ring, there are two methods: (1) lowering the coil plate at a constant speed set by the driver to keep the top surface of the ring at a constant position, and (2) using a timer setting. (3) Install a pair of photoelectric detectors at the top of the ring, and after detecting the top of the ring, increase the speed of the coil plate at a set speed for a unit time. (4) A method of controlling the top end position of the ring to a substantially constant position by lowering the stacked top end position of the ring below the detector position and performing the same operation when the detector detects the top end of the ring again. The timing for dropping the falling ring-shaped wire rod while varying it in the horizontal direction starts at the moment when the coil at the tip of the conveyor is dropped into the convergence device, and then continues to operate until there are no more ring-shaped wires to fall. methods, etc. are known. In the conventional example shown in Fig. 6,
The method shown in (3) above is used, and a photoelectric detector 68 is provided to detect the upper end position of the ring.
〔発明が解決しようとする問題点〕
このような従来の集束装置におけるリングの落
下位置制御方法では、前記(1)、(2)の方法の場合、
圧延スケジユールの変更に伴い、変更のたびごと
にコイルプレート下降速度を設定しなおさなけれ
ばならず、また搬送コンベアの速度をリングの搬
送途中で変化させた場合に、対応することができ
ない。[Problems to be Solved by the Invention] In the method of controlling the falling position of the ring in such a conventional focusing device, in the case of the methods (1) and (2) above,
As the rolling schedule changes, the coil plate lowering speed must be reset each time the rolling schedule is changed, and it is not possible to cope with changes in the speed of the conveyor during ring conveyance.
また前記(3)の方法の場合、一対の検出器で検出
するために、コイルプレートを設定された時間で
設定速度の増速あるいは減速の繰り返し制御とな
る。従つて、圧延材料のサイズ及びコンベア速度
等に起因して起こる斜め堆積が発生した際に、実
際上の堆積と見かけ上の堆積とが異ることによ
り、正しい位置制御ができないばかりでなく、斜
めのリングと上部周辺設備とのトラブルの原因と
なる等の問題がある。 Furthermore, in the case of method (3), the coil plate is repeatedly controlled to increase or decrease the set speed at a set time in order to detect with a pair of detectors. Therefore, when diagonal deposition occurs due to the size of the rolled material, conveyor speed, etc., the difference between the actual deposition and the apparent deposition not only makes it impossible to control the correct position, but also prevents diagonal deposition. There are problems such as causing trouble between the ring and the upper peripheral equipment.
さらにまた、コイルプレートを高速で上昇さ
せ、低速で下降させるための駆動機構としては、
従来モータの速度制御によつて行つていたが、こ
の方法では、たとえ、１：40程度の速度差を実現
したとしても、その範囲にわたつて速度制御を高
精度に行うことは困難である。 Furthermore, as a drive mechanism for raising the coil plate at high speed and lowering it at low speed,
Conventionally, this was done by controlling the speed of the motor, but with this method, even if a speed difference of about 1:40 is achieved, it is difficult to control the speed with high precision over that range. .
(4)の方法の場合は、リング状線材の落下状態が
一様でなく斜め堆積等が生じた場合、堆積したリ
ングを水平方向に変化させる装置との干渉が生
じ、装置の故障原因となる。 In the case of method (4), if the ring-shaped wire rods fall unevenly and are deposited diagonally, there will be interference with the device that changes the deposited rings in the horizontal direction, which may cause equipment failure. .
この発明は、こうした問題点に鑑みて、リング
の上端位置を設定された範囲内に保持するととも
にばらまき装置でリングを水平方向に変化させ、
リングを密にするようにコイルプレートの下降速
度とリング堆積状態に応じたばらまき駆動装置を
的確に制御することを目的とするものである。 In view of these problems, this invention maintains the upper end position of the ring within a set range and changes the ring horizontally using a dispersing device.
The object of this invention is to accurately control the scattering drive device according to the lowering speed of the coil plate and the state of ring accumulation so as to make the rings denser.
この目的を達成するために、この発明では、リ
ング集束装置におけるコイルプレートの上昇時と
下降時における速度を切換える装置と、コイルプ
レート上に堆積するリングを検出する複数のリン
グ検出器と、このリング検出器の出力信号を用い
て、リング堆積速度とコイルプレートの下降速度
とを比較し、この比較結果に基づき、コイルプレ
ート下降速度を補正演算する速度補正演算装置
と、上記リング検出器の出力信号により、リング
の堆積状態を求めリングの堆積状態に応じてばら
まき装置を駆動制御するリングのばらまき制御装
置とを備え、リング集束装置のリング上端位置を
設定された範囲内に保持するとともに集束リング
を密に堆積させるように、コイルプレートの下降
速度制御とリングのばらまき制御を同時に行う。
In order to achieve this object, the present invention includes a device for switching the speed at which the coil plate is raised and lowered in a ring focusing device, a plurality of ring detectors for detecting rings deposited on the coil plate, and a plurality of ring detectors for detecting rings deposited on the coil plate. A speed correction calculation device that compares the ring deposition speed and the lowering speed of the coil plate using the output signal of the detector, and corrects the coil plate lowering speed based on the comparison result, and the output signal of the ring detector. The ring scattering control device determines the ring accumulation state and drives and controls the scattering device according to the ring accumulation state. The descending speed of the coil plate and the scattering of the rings are controlled simultaneously to ensure dense deposition.
この発明によると、コイルプレートの上昇時と
下降時における速度を切換える装置を設けたの
で、コイルプレートの上昇時と下降時における速
度差を大きくとることができるばかりでなく、広
い速度範囲で高精度に制御することが可能とな
る。また、リング堆積速度とコイルプレートのフ
イードバツク速度との比較値を、コイルプレート
上に堆積するリングの上端位置を検出する検出器
により得られる信号から求めることができる。こ
の比較値を用いて、比較値に応じてコイルプレー
トの下降速度を補正演算装置により補正し、集束
装置のリング上端位置を設定された範囲内に保持
するようにコイルプレートの下降速度を制御する
ことが可能となる。
According to this invention, since a device is provided to switch the speed when the coil plate is raised and lowered, it is possible not only to have a large speed difference between the rise and fall of the coil plate, but also to achieve high precision over a wide speed range. It becomes possible to control the Also, a comparison value between the ring deposition rate and the feedback rate of the coil plate can be determined from a signal obtained by a detector that detects the top position of the ring deposited on the coil plate. Using this comparison value, a correction calculation device corrects the descending speed of the coil plate according to the comparison value, and controls the descending speed of the coil plate so that the upper end position of the ring of the focusing device is maintained within a set range. becomes possible.
さらに、ばらまき装置のレバーの出し入れを位
置検出器の検出信号とリング堆積状態判別回路の
出力信号とにより、ばらまき装置を介して、駆動
制御を行ない、集束リングを密に堆積させるよう
にリングのばらまき制御を可能とした。 Furthermore, the lever of the scattering device is driven in and out by the detection signal of the position detector and the output signal of the ring accumulation state determination circuit, and the drive control is performed via the scattering device, so that the rings are scattered so that the focusing rings are densely deposited. control was possible.
以下、図面に基づいて、この発明の実施例を説
明する。第１図は、この発明によるコイルプレー
トの下降速度制御とリングのばらまき制御装置を
用いたリング集束装置の一実施例を示す図であ
る。この図において、ｒはリング、１はコンベ
ア、２は集束装置、３はコイルプレート、４は十
字状のセイル、５ａはコイルプレート駆動用モー
タ、５ｂは駆動伝達部、５ｃはスプロケツトホイ
ール、５ｄはスプロケツトチエーン、５ｅはコイ
ルプレートの下降速度を検出するためのパルスジ
エネレータ、５ｆはコイルプレートの高さを検出
する高さの検出器、６ａはリングｒの有無を検出
するフラグスイツチ、６ｂはフラグスイツチ６ａ
の動きに応じてON、OFFするリミツトスイツ
チ、６ｃはスイツチ、７ａ，７ｂ及び７ｃは、そ
れぞれ第１、第２及び第３の光電検出器で、コン
ベア１先端近傍の集束装置２内をコンベアの進行
方向と直交する方向に投光するように設けられ
る。８はコイルプレートの下降速度を補正するた
めの速度補正演算回路、９は速度補正設定器、１
０は速度制御回路、１１は基準速度設定器で、初
期急下降速度と初期速度が設定されている。１２
はモータ５ａの駆動タイミング条件をとるための
駆動制御回路、上記７ａ〜ｃ、８〜１２でコイル
プレート３の下降速度を制御する速度補正演算装
置を構成する。１３ａはコイルプレート制御回
路、１３ｂは第１のクラツチ＆ブレーキ回路、で
あり、この回路でコイルプレート３の上昇、下降
時の速度を切換える。１４はリング堆積状態判別
回路、１５はばらまき装置、１５ａはばらまき装
置制御回路、１５ｂは第２のクラツチ＆ブレーキ
回路、１５ｃはばらまきレバー駆動回路である。
上記の１４，１５ａ〜ｃと後述するレバー検出器
２５でばらまき装置１５を駆動制御するリングの
ばらまき制御を構成する。
Embodiments of the present invention will be described below based on the drawings. FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of a ring focusing device using a coil plate descending speed control and ring scattering control device according to the present invention. In this figure, r is a ring, 1 is a conveyor, 2 is a focusing device, 3 is a coil plate, 4 is a cross-shaped sail, 5a is a motor for driving the coil plate, 5b is a drive transmission unit, 5c is a sprocket wheel, and 5d 5e is a sprocket chain, 5e is a pulse generator for detecting the descending speed of the coil plate, 5f is a height detector for detecting the height of the coil plate, 6a is a flag switch for detecting the presence or absence of ring r, 6b is flag switch 6a
6c is a switch that turns on and off according to the movement of It is provided so as to project light in a direction perpendicular to the direction. 8 is a speed correction calculation circuit for correcting the descending speed of the coil plate; 9 is a speed correction setting device; 1
0 is a speed control circuit, and 11 is a reference speed setter, in which an initial rapid descent speed and an initial speed are set. 12
7a-c and 8-12 constitute a speed correction calculation device that controls the lowering speed of the coil plate 3. 13a is a coil plate control circuit, and 13b is a first clutch and brake circuit, which switches the speed at which the coil plate 3 moves up and down. 14 is a ring accumulation state determination circuit, 15 is a spreading device, 15a is a spreading device control circuit, 15b is a second clutch and brake circuit, and 15c is a spreading lever drive circuit.
The above-described elements 14, 15a to 15c and a lever detector 25, which will be described later, constitute a ring spreading control that drives and controls the spreading device 15.
駆動伝達部５ｂはトルクリミツターと、クラツ
チカプラー、セルパツククラツチ等からなる減速
機とを有し、モータ−５ａの回転駆動力をスプロ
ケツトホイール５ｃに伝達する役割を果たし、減
速機を適宜、切り換えることにより、コイルプレ
ートを低速で下降させ、高速で上昇させることを
可能にするものである。また、スプロケツトチエ
ーン５ｄはコイルプレート３と固定されており、
スプロケツトホイール５ｃの回転に応じてコイル
プレート３を上下方向に駆動することになる。 The drive transmission section 5b has a torque limiter and a reduction gear consisting of a clutch coupler, a cell pack clutch, etc., and plays the role of transmitting the rotational driving force of the motor 5a to the sprocket wheel 5c, and can switch the reduction gear as appropriate. This allows the coil plate to be lowered at low speed and raised at high speed. In addition, the sprocket chain 5d is fixed to the coil plate 3,
The coil plate 3 is driven in the vertical direction according to the rotation of the sprocket wheel 5c.
駆動伝達部５ｂにおける減速機は、高さ検出器
５ｆの出力等に応じて、コイルプレート制御回路
１３ａと第１のクラツチ＆ブレーキ回路１３ｂを
介して高速と低速に切換制御される。即ち、高さ
検出器５ｆによつてコイルプレート３の最下端位
置が検出され、リングがコイルプレート３から取
り除かれると、減速機のクラツチは高速側に切換
えられ、コイルプレート３は高速で上昇される。
次いで、コイルプレート３が最上端位置に達し、
フラグスイツチ６ａによつてリングｒが検出され
ると、高さ検出器５ｆの出力等により減速機のク
ラツチは低速側に切換えられ、コイルプレート３
はリングｒの堆積速度に応じた速度でゆつくりと
下降していくことになる。この上昇速度と下降速
度の速度比は１：40程度に設定される。速度補正
演算回路８には、第２、第３の光電検出器７ｂ，
７ｃの出力信号と、パルスジエネレータ５ｅの出
力信号VFと、速度補正設定器９からの補正係数
α、βの出力信号と、リング堆積状態判別回路１
４の出力信号とが入力され、これらの信号を用い
て補正演算を行う。なお、リング堆積状態判断回
路１４は第２、第３の光電検出器７ｂ，７ｃの出
力信号を用いて、リングｒが斜めに堆積されてい
るか否か等の判断を行うものである。 The speed reducer in the drive transmission section 5b is controlled to be switched between high speed and low speed via the coil plate control circuit 13a and the first clutch and brake circuit 13b, depending on the output of the height detector 5f, etc. That is, when the lowest position of the coil plate 3 is detected by the height detector 5f and the ring is removed from the coil plate 3, the clutch of the reducer is switched to the high speed side and the coil plate 3 is raised at high speed. Ru.
Then, the coil plate 3 reaches the uppermost position,
When the ring r is detected by the flag switch 6a, the clutch of the reducer is switched to the low speed side by the output of the height detector 5f, etc., and the coil plate 3
will slowly descend at a speed corresponding to the deposition speed of ring r. The speed ratio between the rising speed and the falling speed is set to about 1:40. The speed correction calculation circuit 8 includes second and third photoelectric detectors 7b,
7c, the output signal V F of the pulse generator 5e, the output signals of correction coefficients α and β from the speed correction setting unit 9, and the ring accumulation state determination circuit 1.
4 output signals are input, and correction calculations are performed using these signals. The ring stacking state determining circuit 14 uses output signals from the second and third photoelectric detectors 7b and 7c to determine whether the ring r is stacked diagonally or not.
この速度補正演算回路８の出力信号は、速度制
御回路１０に入力されるが、速度制御回路１０に
は、基準速度設定器１１の出力信号が入力されて
おり、コイルプレート３が上限まで上昇し、リン
グｒを受けとると第１、第２、第３の光電検出器
７ａ，７ｂ，７ｃはリング「有」の信号を出力
し、基準速度設定器１１，１２に入力され、設定
器１１から初期急下降速度の信号VP′が出力さ
れ、速度制御回路１０、駆動制御回路１２を介し
てモータ５ａを急速回転させ、コイルプレート３
を急速下降させる。次に光電検出器７ａと７ｂが
リング無し、７ｃがリング有の信号になつたとき
（第３図ａ）、基準速度設定器１１から初期速度の
出力信号VP(1)が出力され、速度制御回路１０に
入力されコイルプレート３はVP(1)で下降される。
光電検出器７ａ，７ｂ，７ｃがすべてリング無を
検出した時点（第３図ｂ）で速度補正演算回路８
からの出力信号が速度制御回路１０に入力され
る。 The output signal of this speed correction calculation circuit 8 is input to the speed control circuit 10, but the output signal of the reference speed setting device 11 is input to the speed control circuit 10, and the coil plate 3 is raised to the upper limit. , upon receiving the ring r, the first, second, and third photoelectric detectors 7a, 7b, and 7c output a ring "presence" signal, which is input to the reference speed setters 11 and 12, and the initial speed is output from the setter 11. A rapid descending speed signal V P ' is output, and the motor 5a is rapidly rotated via the speed control circuit 10 and the drive control circuit 12, and the coil plate 3
descend rapidly. Next, when the photoelectric detectors 7a and 7b signal that there is no ring and the signal 7c indicates that there is a ring (Fig. 3a), the output signal V P (1) of the initial speed is output from the reference speed setting device 11, and the speed It is input to the control circuit 10 and the coil plate 3 is lowered at V P (1) .
When the photoelectric detectors 7a, 7b, and 7c all detect the absence of a ring (Fig. 3b), the speed correction calculation circuit 8
An output signal from the speed control circuit 10 is inputted to the speed control circuit 10.
次に、速度補正演算について説明すると、速度
補正演算回路８では、
Vp（ｎ＋１）＝VF（ｎ）−ΔVo（１＋α）
Vp（ｎ＋１）＝VF（ｎ）−ΔVo（１＋β）
の基準速度が演算される。ここで
ΔVo＝VF（ｎ）−VR（ｎ）
である。但し、ｎはコンベア１で搬送されてきた
リングｒの集束装置２内に落下し、リングｒの上
端位置が第２の光電検出器７ｂにより初めてリン
グ有りからリング無しが検出され、さらに第３の
光電検出器７ｃによりリング有りからリング無し
が検出されたときをｎ＝１とし、次にリングｒの
上端が上昇して、第２の光電検出器７ｂによりリ
ング無しからリング有りが検出されたときをｎ＝
２とする、以下、順次リングｒの上端位置の有無
が検出されるごとにｎが１ずつ増加し、各時点に
おけるコイルプレート３のフイードバツク速度
VFとリングｒの堆積速度VRとの差がΔVoである。 Next, to explain the speed correction calculation, in the speed correction calculation circuit 8, V p (n+1)=V F (n)−ΔV o (1+α) V p (n+1)=V F (n)−ΔV o (1+β ) is calculated. Here, ΔV o =V F (n)−V R (n). However, n falls into the focusing device 2 of the ring r conveyed by the conveyor 1, and the upper end position of the ring r is detected for the first time by the second photoelectric detector 7b from the presence of a ring to the absence of a ring. The time when the photoelectric detector 7c detects from the presence of a ring to the absence of a ring is defined as n=1, and then the upper end of the ring r rises and the second photoelectric detector 7b detects from the presence of a ring to the presence of a ring. n=
2. Hereafter, each time the presence or absence of the upper end position of the ring r is detected, n increases by 1, and the feedback speed of the coil plate 3 at each point in time is
The difference between V F and the deposition rate V R of ring r is ΔV o .
また、VF（ｎ）はｎがｎ−１のときに与えられ
るコイルプレート３の下降速度である基準速度信
号Vp（ｎ）により駆動された結果としてのコイル
プレート３のフイードバツク速度であるので、
VF（ｎ）をVp（ｎ）と置き換えることができる。 Also, V F (n) is the feedback speed of the coil plate 3 as a result of being driven by the reference speed signal V p (n), which is the descending speed of the coil plate 3 given when n is n-1. ,
V F (n) can be replaced with V P (n).
即ち、
Vp（ｎ＋１）＝VP（ｎ）−ΔVo（１＋α） ……(1)
Vp（ｎ＋１）＝VP（ｎ）−ΔVo（１＋β） ……(2)
となる。ここで、(1)式は第３図ｂに示すように、
堆積されたリングｒの上端位置が第３の光電検出
器７ｃ以下となつた場合、即ち、ｎが奇数のとき
の補正式で、次のようにして求められる。堆積さ
れたリングｒの上端を第２の光電検出器７ｂが検
出してから第３の光電検出器７ｃが検出するまで
の時間をTRとすると、この場合、リングｒの堆
積速度VRより下降するコイルプレート３のフイ
ードバツク速度VFの方が速いので、
l2／TR＝VF（ｎ）−VR（ｎ）＝ΔVo＞０
となる。ここでl2は第２の光電検出器７ｂと第３
の光電検出器７ｃ間の距離で50〜80mm程度であ
る。 That is, V p (n+1)=V p (n)−ΔV o (1+α) (1) V p (n+1)=V p (n)−ΔV o (1+β) (2). Here, equation (1) is as shown in Figure 3b,
When the upper end position of the deposited ring r is below the third photoelectric detector 7c, that is, when n is an odd number, the correction formula is calculated as follows. If the time from when the second photoelectric detector 7b detects the upper end of the deposited ring r until the third photoelectric detector 7c detects it is T R , in this case, the deposition rate of the ring r is Since the feedback speed V F of the descending coil plate 3 is faster, l 2 /T R =V F (n) - V R (n) = ΔV o >0. Here, l 2 is the second photoelectric detector 7b and the third photoelectric detector 7b.
The distance between the photoelectric detectors 7c is approximately 50 to 80 mm.
VF（ｎ）とVR（ｎ）との差であるΔVoをVp（ｎ）
から引くと、これ以降の速度差ΔVは、理論的に
は０となり、リング上端位置は一定に保持される
はずであるが、現実には、問題が起こる。即ち、
このような制御を行う場合には、光電検出器は１
対あれば足りることになるが、これは、従来技術
の(3)に対応することになり、問題があることは既
に説明したとうりである。そこで、リングｒの上
端が、ゆつくりと上昇するように下降速度を減速
制御すればよいであろう。即ち、
Vp（ｎ＋１）＝Vp（ｎ）−ΔVo−ΔVo・α
＝Vp（ｎ）−ΔVo（１＋α）
となり、(1)式が得られる。ここで補正係数αは、
ΔVが０にだんだん近づくように制御するため
に、α＜１とする必要がある。種々検討した結果
によれば、αは0.2〜0.3が適当である。 ΔV o, which is the difference between V F (n) and V R (n), is expressed as V p (n)
The speed difference ΔV after this should theoretically be 0 and the ring top position should be kept constant, but in reality, a problem occurs. That is,
When performing such control, the photoelectric detector is
A pair would be sufficient, but this corresponds to (3) of the prior art, and as already explained, there is a problem. Therefore, the descending speed may be controlled to be reduced so that the upper end of ring r rises slowly. That is, V p (n+1)=V p (n)−ΔV o −ΔV o ·α =V p (n)−ΔV o (1+α), and equation (1) is obtained. Here, the correction coefficient α is
In order to control ΔV to gradually approach 0, it is necessary to set α<1. According to the results of various studies, 0.2 to 0.3 is appropriate for α.
次に、(2)式は第３図ｃに示されるように、堆積
されたリングｒの上端位置が第２の光電検出器７
ｂ以上となつた場合、即ち、ｎが偶数のときの補
正式で、(1)式の場合と同様にして、
l2／TR＝VF（ｎ）−VR（ｎ）＝ΔVo＜０
となる。従つて、リングｒの上端がゆつくりと下
降するように下降速度を増速制御すること、即
ち、
Vp（ｎ＋１）＝Vp（ｎ）−ΔVo−ΔVo・β
＝Vp（ｎ）−ΔVo（１＋β）
となり、(2)式が得られる。この場合の補正係数β
もαと同様にすればよい。 Next, as shown in FIG. 3c, equation (2) indicates that the upper end position of the deposited ring
When the value is greater than or equal to b, that is, when n is an even number, use the correction formula as in the case of equation (1), l 2 /T R =V F (n) - V R (n) = ΔV o <0. Therefore, the descending speed must be increased so that the upper end of ring r slowly descends, that is, V p (n+1) = V p (n) - ΔV o - ΔV o · β = V p (n )−ΔV o (1+β), and formula (2) is obtained. Correction coefficient β in this case
can also be done in the same way as α.
ばらまき装置１５は、図には示されていない
が、集束装置２の周囲に複数、例えば５個、ほぼ
等間隔に配置されており、集束装置２内に落下さ
れるリングｒを水平方向に変化させて、コイルプ
レート３上に堆積されるリングｒの高さをできる
かぎり低く抑えリングを密にするためのものであ
る。このばらまき装置１５は、ばらまき装置制御
回路１５ａにより制御される第２のクラツチ＆ブ
レーキ回路１５ｂとばらまきレバー駆動回路１５
ｃによつて駆動される。第２図ａは、ばらまき装
置１５の１個だけを詳細に示す図である。この図
において、２１はレバー、２２はクランプ、２３
はモータ、２４はクラツチ＆ブレーキ、２５は位
置検出器である。 Although not shown in the figure, a plurality of scattering devices 15, for example five, are arranged at approximately equal intervals around the focusing device 2, and they change the ring r dropped into the focusing device 2 in the horizontal direction. This is to keep the height of the rings r deposited on the coil plate 3 as low as possible and make the rings dense. This spreading device 15 includes a second clutch and brake circuit 15b controlled by a spreading device control circuit 15a and a spreading lever drive circuit 15.
c. FIG. 2a shows only one of the dispersing devices 15 in detail. In this figure, 21 is a lever, 22 is a clamp, and 23 is a lever.
is a motor, 24 is a clutch and brake, and 25 is a position detector.
モータ２３の回転は、クラツチ＆ブレーキ２４
を介してクランプ２２により直線運動に変換さ
れ、レバー２１の出し入れが行われる。レバー２
１の出し入れはクラツチ＆ブレーキ２４の切換に
より行われるが、そのタイミングは、レバー位置
検出器２５のレバー位置検出信号とリング堆積状
態判別回路１４の出力信号とが入力されるばらま
き装置制御回路１５ａにより決定され、クラツチ
＆ブレーキ回路１５ｂとばらまきレバー駆動回路
１５ｃを介して制御される。 The rotation of the motor 23 is controlled by the clutch and brake 24.
The clamp 22 converts the movement into a linear motion via the clamp 22, and the lever 21 is moved in and out. Lever 2
1 is put in and taken out by switching the clutch & brake 24, but the timing is determined by the spreading device control circuit 15a to which the lever position detection signal of the lever position detector 25 and the output signal of the ring accumulation state determination circuit 14 are input. is determined and controlled via the clutch & brake circuit 15b and the spread lever drive circuit 15c.
第２図ｂは、各ばらまき装置を駆動制御するた
めの信号のタイムチヤートを示す図である。上段
はレバー駆動用モータ２３を制御するレバー駆動
命令信号を示し、下段はレバーの出し入れを制御
するクラツチの入切信号を示す。ここで、Ａ，
Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅは各ばらまき装置の番号を示す。
クラツチ入切信号の最初のON信号によりクラツ
チが入状態になつて、レバー２１は集束装置２内
に入り込み、次のON信号によりクラツチが入状
態になつて、レバー２１は集束装置２から外へ退
避する。 FIG. 2b is a diagram showing a time chart of signals for driving and controlling each spreading device. The upper row shows a lever drive command signal that controls the lever drive motor 23, and the lower row shows a clutch on/off signal that controls the lever movement. Here, A,
B, C, D, and E indicate the numbers of each dispersing device.
The first ON signal of the clutch on/off signal causes the clutch to be in the engaged state, and the lever 21 enters the focusing device 2.The next ON signal causes the clutch to be in the engaged state, and the lever 21 is moved out of the focusing device 2. evacuate.
以下、同様にして、各レバー２１が順次駆動し
て、リングｒが図に示されるように適宜ばらまか
れて堆積するので、リングｒの高さを低くするこ
とが可能となる。 Thereafter, each lever 21 is sequentially driven in the same manner, and the rings r are appropriately scattered and deposited as shown in the figure, so that the height of the rings r can be lowered.
次に、コイルプレートの下降速度制御部につい
て詳細に説明する。コンベア１によつて搬送され
てきたリングｒがフラグスイツチ６ａによつて検
出されると、リミツトスイツチ６ｂがONし、ス
イツチ６ｃがONする。集束装置２に落下したリ
ングｒは、上端位置で待機しているコイルプレー
ト３上に堆積し、その上端位置が第１、第２、第
３の光電検出器７ａ，７ｂ，７ｃによつてリング
有りが検出器されると、その検出信号により基準
速度設定器１１から初期急下降速度Vp′の信号が
速度制御回路１０、駆動制御回路１２を介してモ
ータ５ａにより、コイルプレート３が最高速度で
下降される。なお、この際、駆動伝達部５ｂにお
ける減速機は低速側に切換られているので、低速
側での最高速度を意味している。コイルプレート
３を高速で下降させる理由は、リングｒが堆積し
て、集束装置２内の各種部材を破壊する危険を防
止することにある。 Next, the lowering speed control section of the coil plate will be explained in detail. When the ring r conveyed by the conveyor 1 is detected by the flag switch 6a, the limit switch 6b is turned on and the switch 6c is turned on. The ring r that has fallen onto the focusing device 2 is deposited on the coil plate 3 that is waiting at the upper end position, and the upper end position is detected by the first, second, and third photoelectric detectors 7a, 7b, and 7c. When the presence is detected, a signal of the initial rapid descent speed V p ' is sent from the reference speed setting device 11 by the detection signal to the motor 5a via the speed control circuit 10 and the drive control circuit 12, and the coil plate 3 is set to the maximum speed. It is lowered by Note that at this time, since the speed reducer in the drive transmission section 5b is switched to the low speed side, this means the maximum speed on the low speed side. The reason for lowering the coil plate 3 at a high speed is to prevent the risk of the rings r accumulating and destroying various components within the focusing device 2.
次に、コイルプレート３が下降して、第２の光
電検出器７ｂにより、リングｒの上端位置有りか
ら無しが検出されると、基準速度設定器１１から
初期基準速度信号Vp（１）が出力され、コイルプ
レート３の下降速度は弱められる。しかし、この
初期基準速度信号Vp（１）はリング堆積速度VRよ
りも若干、速い速度でコイルプレート３を下降さ
せる必要がある。 Next, when the coil plate 3 is lowered and the second photoelectric detector 7b detects whether the upper end position of the ring r is present or not, the initial reference speed signal V p (1) is output from the reference speed setter 11. The lowering speed of the coil plate 3 is weakened. However, this initial reference speed signal V p (1) requires the coil plate 3 to be lowered at a speed slightly faster than the ring deposition speed V R .
さらに、コイルプレート３が下降して、第３の
光電検出器７ｃにより、リングｒの上端位置有り
から無しが検出されると、速度補正演算回路８に
よつてΔV1（１＋α）が演算され、速度制御回路
１０から、
Vp（２）＝VF（１）−ΔVo（１＋α）
の基準速度信号が出力される。但し、VF（１）
は、初期基準速度信号によつて駆動されたモータ
５ａの回転に基づいて、パルスジエネレータ５ｅ
により検出されるコイルプレート３のフイードバ
ツク速度であるが、これは当然のことながらVp
（１）とほぼ等しくなるはずのものである。また、
ΔV1は12／TRによつて求められる。この基準速
度信号Vp（２）によつて、モータ５ａが駆動され
る結果、堆積されたリングｒの上端は、徐々に上
昇を始め、次に第２の光電検出器７ｂにより、リ
ングｒの上端位置無しから有が検出されると、(2)
式に基づいた基準速度信号Vp（３）によつてリン
グｒの上端が下降を始める。以下、同様にして、
リングｒの上端位置が、第２、第３の光電検出器
７ｂ，７ｃの範囲内に保持されるように、コイル
プレート３の下降速度制御が行われる。次に、フ
ラグスイツチ６ａがリングｒ無しの状態を検出す
ると、コイルプレート制御回路１３ａにより、駆
動伝達部５ｂの減速機は高速側に切換られ、集束
されたリングが集束装置２から搬出後、コイルプ
レート３は最高速度で上昇され、以下同様にして
一連の動作が行われる。なお、この過程で、ばら
まき装置１５はコイルプレート３上にリングｒが
堆積を続ける間中、第２図ｂのように動作するこ
とにより、落下されるリングｒを水平方向に規則
正しくばらまくので、リングｒの堆積高さは最小
に抑えられる。 Further, when the coil plate 3 is lowered and the third photoelectric detector 7c detects whether the upper end position of the ring r is present or not, the speed correction calculation circuit 8 calculates ΔV 1 (1+α), The speed control circuit 10 outputs a reference speed signal of V p (2) = V F (1) - ΔV o (1+α). However, V F (1)
is the pulse generator 5e based on the rotation of the motor 5a driven by the initial reference speed signal.
This is the feedback speed of the coil plate 3 detected by V p
This should be approximately equal to (1). Also,
ΔV 1 is determined by 1 2 /T R. As a result of driving the motor 5a by this reference speed signal V p (2), the upper end of the deposited ring r starts to rise gradually, and then the second photoelectric detector 7b detects the upper end of the ring r. When presence is detected from no top position, (2)
The upper end of ring r begins to descend by the reference speed signal V p (3) based on the formula. Similarly, below,
The lowering speed of the coil plate 3 is controlled so that the upper end position of the ring r is maintained within the range of the second and third photoelectric detectors 7b and 7c. Next, when the flag switch 6a detects that there is no ring r, the coil plate control circuit 13a switches the reducer of the drive transmission section 5b to the high speed side, and after the focused ring is carried out from the focusing device 2, the coil The plate 3 is raised at the highest speed, and a series of operations are performed in the same manner. In this process, the scattering device 15 operates as shown in FIG. 2b while the rings r continue to accumulate on the coil plate 3, thereby regularly scattering the falling rings r in the horizontal direction. The stacking height of r is minimized.
また、リングｒが斜めに堆積したとしても、リ
ング堆積状態判別回路１４によつて、リングｒの
堆積状態を予測し、その結果によりばらまき装置
１５、コイルプレート３の下降速度を適宜制御す
る。例えば、堆積状態が不良と判断された場合
は、ばらまき装置１５のレバー２１は正常と判断
されるまで後退位置で停止し、レバーを保護する
ことも可能となる。 Furthermore, even if the rings r are piled up obliquely, the ring stacking state determining circuit 14 predicts the stacking state of the rings r, and the descending speed of the scattering device 15 and the coil plate 3 is appropriately controlled based on the result. For example, when it is determined that the accumulation state is poor, the lever 21 of the spreading device 15 is stopped at the retracted position until it is determined to be normal, thereby making it possible to protect the lever.
あるいはまた、第５図に示すように、線材の材
質、形状及びコンベア速度等に起因してリングｒ
が斜めに堆積（コンベアからリングｒが集束装置
内に落下するときは先方に突込むように落下する
ためコンベア側が高くなる斜め堆積が出来やす
い）したとしてもリングｒと上部の周辺設備との
干渉が生ずる手前の高さ（100〜200mm程度手前）
で斜め堆積の出来やすい位置に設置された光電検
出器７ａにより、例えば７ｃがリング有りを検出
し、７ｂがリング無しを検出し、７ａがリング有
りを検出した場合、速度補正演算回路８に入力さ
れたリングｒの検出信号から斜め堆積であると判
断し、補正速度よりあらかじめ高めに設定したコ
イルプレート下降速度VP″を出力してVP″で３〜
4sec保持した後、再度タイムアツプ後、この状態
が続いていれば速度補正演算回路８から急速下降
（初期急下降速度VP′とほぼ同じ速度）の出力信
号が出され、コイルプレートを下限まで下降さ
せ、リングｒと上部の周辺設備との干渉、破損を
防止する上述の例の他、７ａ，７ｂがリング有
り、７ｃがリング無しを検出した場合、又、７ａ
がリング有り、７ｂ，７ｃがリング無しを検出し
た場合も同様の制御が行われる。従つて、７ａ，
７ｂ間と７ｂ，７ｃ間の距離11（200〜400mm程度）
と12（50〜80mm程度）を適宜設定することにより、
リングｒの上端位置を精度よく設定範囲内に制御
することが出来、さらに７ａの信号により、コイ
ルプレートの下降速度を可変増速することで、リ
ングｒを上部の周辺設備との干渉を防止すること
が可能となる。 Alternatively, as shown in FIG. 5, the ring r
Even if the ring r is deposited diagonally (when the ring r falls from the conveyor into the focusing device, the ring r falls forward, so the conveyor side tends to be higher, resulting in diagonal deposition). Even if the ring r falls into the focusing device, there will be interference between the ring r and the upper peripheral equipment. Front height (approximately 100-200mm in front)
For example, when 7c detects the presence of a ring, 7b detects no ring, and 7a detects the presence of a ring, the photoelectric detector 7a installed at a position where diagonal deposition is likely to occur is input to the speed correction calculation circuit 8. Based on the detected signal of the ring r, it is determined that the deposition is oblique, and the coil plate descending speed V P ″, which is set higher than the corrected speed, is output and the coil plate descending speed V P ″ is set to 3 to 3 at V P ″.
After holding for 4 seconds and after time-up again, if this state continues, the speed correction calculation circuit 8 will output a rapid descent signal (approximately the same speed as the initial rapid descent speed V P '), and the coil plate will be lowered to the lower limit. In addition to the above-mentioned example of preventing interference and damage between the ring r and the upper peripheral equipment, when 7a and 7b detect that a ring is present and 7c detects that there is no ring,
Similar control is performed when the ring is detected and the rings 7b and 7c are detected to have no ring. Therefore, 7a,
Distance between 7b and between 7b and 7c 1 1 (about 200 to 400mm)
By setting 1 2 (approximately 50 to 80 mm) as appropriate,
The upper end position of ring r can be precisely controlled within the set range, and the lowering speed of the coil plate can be variably increased using the signal 7a, thereby preventing ring r from interfering with the upper peripheral equipment. becomes possible.
第４図は、この実施例の作動状態をタイムチヤ
ートにより、示したものであり、横軸に時間Ｔを
とつている。ａは第１、第２、第３の光電検出器
７ａ，７ｂ，７ｃの出力信号の状態を示し、各出
力信号が１のとき、リングｒが、各光電検出器に
よつて検出されていること、即ち、リング「有」
の状態を示す。ｂはコイルプレート３合速度VF
を示し、ｃは堆積されたリングｒの上端位置を示
し、Ａは堆積開始からリング上端を設定範囲に制
御する経過を、Ｂは斜め堆積が発生してコイルプ
レートを下降させた経過である。 FIG. 4 shows the operating state of this embodiment using a time chart, with time T plotted on the horizontal axis. a indicates the state of the output signals of the first, second, and third photoelectric detectors 7a, 7b, and 7c, and when each output signal is 1, the ring r is detected by each photoelectric detector. That is, there is a ring.
Indicates the status of b is the coil plate 3 combined speed V F
, c indicates the upper end position of the deposited ring r, A shows the progress from the start of deposition to controlling the upper end of the ring within the set range, and B shows the progress when oblique deposition occurs and the coil plate is lowered.
なお、この発明の実施例では、光電検出器を３
組用いているが、これに限定されるものではな
く、多いほど斜め堆積の検出精度は高くなる。ま
た、基準速度信号VP（ｎ＋１）を求める際に、コ
イルプレート下降速度として、コイルプレートの
フイードバツク速度VF（ｎ）を用いる必要は必ず
しもなく、基準速度信号VP（ｎ）を用いてもよ
い。 In addition, in the embodiment of this invention, three photoelectric detectors are used.
Although the number is not limited to this number, the higher the number, the higher the accuracy of detecting oblique deposition becomes. Furthermore, when determining the reference speed signal V P (n+1), it is not necessarily necessary to use the coil plate feedback speed V F (n) as the coil plate lowering speed, and even if the reference speed signal V P (n) is used. good.
以上の説明から明らかなように、この発明によ
れば、堆積するリングの上端位置を設定された範
囲内に保持するようにコイルプレートの下降速度
制御を行い、コイルプレートの上昇時と下降時に
おける速度を切換え、リングの堆積状態に応じて
リングばらまき装置を駆動制御することにより、
リングの堆積形状が良好になり、荷くずれ等の発
生を防止し、密にリングを集束することができ
る。また、運転者が常時、監視する必要がなく、
省力化を図ることができる。さらにまた、斜めに
堆積された場合にも、ばらまき装置のレバーを保
護することが可能となる。
As is clear from the above description, according to the present invention, the descending speed of the coil plate is controlled so as to maintain the upper end position of the ring to be deposited within a set range, and when the coil plate is rising and falling, By switching the speed and controlling the ring dispersion device according to the state of ring accumulation,
The stacked shape of the rings is improved, the occurrence of load collapse, etc. can be prevented, and the rings can be tightly focused. Also, there is no need for the driver to constantly monitor the vehicle.
Labor saving can be achieved. Furthermore, it is possible to protect the lever of the scattering device even if the material is deposited obliquely.
第１図は、この発明によるコイルプレート下降
速度制御装置を用いたリング集束装置の一実施例
を示す図、第２図ａはばらまき装置の詳細を示す
図、第２図ｂは各ばらまき装置を駆動制御するた
めの信号のタイムチヤートを示す図、第３図は堆
積するリングの上端位置を検出する部分を説明す
るための図、第４図は各部の動作を示すタイムチ
ヤート、第５図は斜め堆積の状態を示す図、第６
図は従来の集束装置の一例を示す図である。
図中、１：コンベア、２：集束装置、３：コイ
ルプレート、４：セイル、５ａ：モータ、５ｅ：
パルスジエネレータ、７ａ，７ｂ，７ｃ：光電検
出器、８：速度補正演算回路、１０：速度制御回
路、１１：基準速度設定器、１４：リング堆積状
態判別回路、１５：ばらまき装置。
Fig. 1 is a diagram showing an embodiment of a ring focusing device using a coil plate descending speed control device according to the present invention, Fig. 2a is a diagram showing details of a dispersing device, and Fig. 2b is a diagram showing each dispersing device. Figure 3 is a diagram showing a time chart of signals for drive control, Figure 3 is a diagram to explain the part that detects the upper end position of the ring to be deposited, Figure 4 is a time chart showing the operation of each part, and Figure 5 is a diagram to explain the part that detects the upper end position of the ring to be deposited. Diagram showing the state of oblique deposition, No. 6
The figure shows an example of a conventional focusing device. In the figure, 1: conveyor, 2: focusing device, 3: coil plate, 4: sail, 5a: motor, 5e:
Pulse generator, 7a, 7b, 7c: photoelectric detector, 8: speed correction calculation circuit, 10: speed control circuit, 11: reference speed setting device, 14: ring accumulation state determination circuit, 15: scattering device.
Claims (1)
昇時と下降時における速度を切換える装置と、コ
イルプレート上に堆積するリングを検出する複数
のリング検出器と、このリング検出器の出力信号
を用いて、リング堆積速度とコイルプレートの下
降速度とを比較し、この比較結果に基づき、コイ
ルプレート下降速度を補正演算する速度補正演算
装置と、上記リング検出器の出力信号により、リ
ングの堆積状態を求め、リングの堆積状態に応じ
てばらまき装置を駆動制御するリングばらまき制
御装置とを備え、リング集束装置のリング上端位
置を設定された範囲内に保持するとともに集束リ
ングを密に堆積させるように、コイルプレートの
下降速度制御とリングのばらまき制御を同時に行
うことを特徴とするリング集束装置におけるリン
グ堆積制御装置。 ２ 複数のリング検出器は上から順に第１、第２
及び第３のリング検出器からなり、第２のリング
検出器と第３のリング検出器との間にリングの上
端位置がくるようにコイルプレートの下降速度を
制御することを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載のリング集束装置におけるリング堆積制御装
置。 ３ 補正演算装置は、下降するコイルプレートの
フイードバツク速度を検出する速度検出器の出力
信号と、複数のリング検出器の出力信号とを用い
て、コイルプレートの下降速度を補正演算するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のリン
グ集束装置におけるリング堆積制御装置。[Claims] 1. A device for switching the speed of a coil plate during rising and falling in a ring focusing device, a plurality of ring detectors for detecting rings deposited on the coil plate, and an output signal of the ring detector. is used to compare the ring deposition speed and the coil plate descending speed, and based on the comparison result, a speed correction calculation device that corrects the coil plate descending speed, and the output signal of the ring detector is used to calculate the ring deposition speed. and a ring scattering control device that calculates the state and drives and controls the scattering device according to the stacked state of the rings, and maintains the ring top end position of the ring focusing device within a set range and deposits the focusing rings densely. A ring deposition control device in a ring focusing device, characterized in that it simultaneously controls the descending speed of a coil plate and controls the dispersion of rings. 2 The plurality of ring detectors are the first and second ring detectors in order from the top.
and a third ring detector, and the lowering speed of the coil plate is controlled so that the upper end position of the ring is between the second ring detector and the third ring detector. A ring deposition control device in the ring focusing device according to item 1. 3. The correction calculation device is characterized in that the correction calculation device performs a correction calculation on the descending speed of the coil plate using the output signal of a speed detector that detects the feedback speed of the descending coil plate and the output signals of the plurality of ring detectors. A ring deposition control device in a ring focusing device according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19197486A JPS6349325A (en) | 1986-08-19 | 1986-08-19 | Ring accumulation control device in ring focusing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19197486A JPS6349325A (en) | 1986-08-19 | 1986-08-19 | Ring accumulation control device in ring focusing device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6349325A JPS6349325A (en) | 1988-03-02 |
| JPH0257446B2 true JPH0257446B2 (en) | 1990-12-05 |
Family
ID=16283533
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19197486A Granted JPS6349325A (en) | 1986-08-19 | 1986-08-19 | Ring accumulation control device in ring focusing device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6349325A (en) |
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