JPH02265738A - 透明ガスバリアフィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、透明ガスバリアフィルムに関する。

更に詳しくは、透明性を有し、かつ、水蒸気や酸素等の
気体の透過率が小さい透明ガスバリアプラスチックフィ
ルムに関するもので、特に電子部品、食品および薬品等
に好適に使用される透明ガスバリアフィルムに関する。

［従来の技術］ 従来、透明ガスバリアフィルムとしては、例えば電界発
光素子（エレクトロルミネッセンス発光素子）用として
、次のようなものが知られている。

（１）防湿性の優れたプラスチックフィルム、例えば、
１塩化３弗化エチレン（以下ＰＣＴＦＥと略す）を用い
る方法。

（２）２層のポリオレフィンフィルムの間に酸化珪素の
蒸着層を設けたもの（実公昭６ｌ−４２３１９）。

（３）透明樹脂フィルムに酸化珪素や窒化珪素のスパッ
タ膜を設けたもの（実公昭６２−２４９５９）。

（４）本発明者らが先に提案した、プラスチックフィル
ムにＩ　ｎ、Ｓｎ、Ｚｎなどの金属酸化物層を積層した
もの（特開昭６３−２３７９４０）。

［発明が解決しようとする課題］ しかし、かかる従来のガスバリアフィルムには、次のよ
うな問題点があった。

（１）のプラスチックフィルムを用いた場合には、防湿
性が十分でないため厚いフィルムを用いる必要があり、
可撓性が劣る。防湿性に優れたＰＣＴＦＥフィルムの場
合でも２００μｍ以上の厚さが必要である。また、プラ
スチックフィルムは、高温での防湿性能が劣るため、高
温で使用すると電界発光素子の寿命が短くなる。

■や（３）の酸化珪素や窒化珪素を蒸着やスパッタした
ものは、高い防湿性能を得るためには厚さを３００Å以
上、実用的には５００八以上と厚くする必要があり、可
撓性がなくなり、亀裂や剥離が生ずる。また、酸化珪素
や窒化珪素の膜厚が厚くなるに伴い、透明性が低下して
くるため発光輝度が小さくなる。

（４）は（１）〜（３）の問題点を改善したものである
が、ピンホールが存在し、ガスバリア性を改善する余地
がある。またガスバリア層は透明導電膜とじて使用され
ているものであり、表面抵抗値で１０Ω／ロ〜１０６Ω
／口程度の導電性がある。しかしながら、この範囲の導
電性を有する場合、例えば第４図に示すように発光素子
内部より引き出し電極を引き出そうした場合、引き出し
電極と導電性のガスバリア層の端部とが接触し、短絡す
る問題が生ずるおそれがあった。

本発明者らは、かかる問題点を解決するため、鋭意検討
した結果、ピンホールが少なく、かつ導電性を低下可能
であるとともに、水蒸気や酸素等の気体のガスバリア性
に優れた透明ガスバリアフィルムを見出し、本発明に到
達したものである。

［問題点を解決するための手段］ すなわち、本発明は、プラスチックフィルムから成る基
体の少なくとも片面に、ガスバリア層を積層した透明ガ
スバリアフィルムにおいて、該ガスバリア層はＩｎおよ
び／またはＳｎからなる金属の酸化物層であって、かつ
該金属酸化物層が金属１原子に対し０．０５〜１．０原
子のフッ素を含むことを特徴とする透明ガスバリアフィ
ルムを提供するものである。

ここでフッ素の含有比率はＥ　１　ｅ　ｃ　ｔ　ｒ　ｏ
　ｎ５ｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ　　ｆｏｒ　　Ｃｈｅｍ
ｉｃａ　ｌ　　Ａｎａ　ｌｙｓ　ｉｓ　（ＥＳＣＡ）分
析による広帯域スペク１ヘルから、その原子数比（ｍ対
積分強度／光イオン化断面積）より算出したものである
。すなわち、フッ素を含む酸化インジウム膜においては
インジウム１原子に対するフッ素原子数の比で示し、フ
ッ素を含む酸化錫膜においては錫１原子に対するフッ素
原子数の比で示したものである。またフッ素を含むイン
ジウムと錫の合金の酸化物においては、インジウムと錫
の原子数比の和を１原子とし、該１原子に対するフッ素
原子数の比で示すものとする。。

以下本発明の詳細を図面を用いて説明する。

第１図は本発明の透明ガスバリアフィルムの１例を示す
もので、■はプラスチックフィルム、２は該フィルム１
の片面に積層されたガスバリア層で、ＩｎまたはＳｎの
単一金属あるいはこれらの合金からなる金属の酸化物層
であって、特定量のフッ素原子を含んでなるものである
。

第１図のものは本発明の透明ガスバリアフィルムの基本
構成を示すもので、必要に応じてヒートシール可能な熱
可塑性樹脂接着層を積層したり、第１図の基本構成を複
数層積層して使用することらできる。また基体の両面に
ガスバリア層を設けることもできる。

第２図は第１図の透明ガスバリアフィルムのガスバリア
層２の上にさらにヒートシール可能な熱可塑性接着層３
を設けた例を示したものであり、また第３図は、第１図
に示す基本構成を有機薄膜層４を介して積層せしめると
ともに端面に接着層３を形成せしめたものである。

第４図は本発明の透明ガスバリアフィルムを用いた電界
発光素子の１例を示すもので、５はポリエステルフィル
ムなどのプラスチックフィルムにアルミニウム箔や銅箔
などを接着したり、銅、酸化インジウム、アルミニウム
などを真空析出させて形成した電極層、６はチタン酸バ
リウムやチタン酸ストロンチウムなどの高誘電率粉末を
、ジメチルホルムアミドなどの溶媒とともに、シアノエ
チルセルロース、シュクロース、グリセロールプルラン
、グリセロールシュクロースなどの高誘電率バインダー
中に分散した塗料を、電極層上にスクリーン印刷して乾
燥した高誘電率層、７は銅やアルミニウム、マンガンな
どをドープした硫化亜鉛やセレン化亜鉛、硫化カドミウ
ムなどの蛍光体を、溶媒とともにシアノエチルセルロー
ス、シュクロースなどの高誘電率バインダー中に分散し
た塗料を、高誘電率層上にスクリーン印刷して乾燥した
発光層、８はポリエステルフィルムなどの片面に、酸化
錫、酸化インジウム、酸化インジウム−酸化錫複合酸化
物などからなる透明電極層であり、加熱プレスなどの方
法で透明導電面が発光層と積層される。９は本発明の透
明ガスバリアフィルムであり、透明ガスバリアフィルム
のヒートシール可能な熱可塑性接着層側を対向させ、図
示のように電極層、高誘電率層、発光層および透明電極
層からなる電界発光体全体を密封状に包むように接着積
層される。１０は電極層５および透明導電面８からの引
き出し電極である。

電界発光素子の内部には、必要に応じてポリアミドフィ
ルムなどの捕水層が含まれていても良い。

本発明でいうプラスチックフィルムからなる基体とは、
次の代表的有機重合体を溶融または、溶解押出しし、必
要に応じて長手方向および／または幅方向に延伸したも
のである。有機重合体としては、ポリエチレン、ポリプ
ロピレンなどのポリオレフィン、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−２，６−ナフタレートなどのポ
リエステル、ナイロン６、ナイロン１２などのポリアミ
ド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリビニルアルコル
、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、
ポリエーテルイミド、ポリサルフオン、ポリエーテルサ
ルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ボリアリレー
ト、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキ
サイド、テトラフルオロエチレン、１塩化３弗化エチレ
ン、弗素化エチレンプロピレン共重合体などが挙げられ
る。また、これらの共重合体や、他の有機重合体との共
重合体であっても良く、他の有機重合体を含有するもの
であっても良い。これらの有機重合体に公知の添加剤、
例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着
色剤などが添加されていても良い。

本発明のプラスチックフィルムの光線透過率は、包装内
容物の視認性と美観のため重要であり、白色光線での全
光線透過率が少なくとも６０％以上、好ましくは、８０
％以上であることが望ましい。

着色剤など公知の添加剤は、この範囲内で添加されるの
が良い。本発明のプラスチックフィルムは、フッ素を含
む金属酸化物層のスパッタリングに先立ち、コロナ放電
処理、プラズマ処理、グロー放電処理、逆スパツタ処理
、粗面化処理などの表面処理や、公知のアンカーコート
処理が施されても良く、また、印刷が施されていても良
い。

本発明のプラスチックフィルムの厚さは、特に制限を受
けないが、包装材料としての適性から３〜４００μｍの
範囲が望ましい。機械的特性や可とう性の点では、更に
好ましくは、２５〜２００μｍの範囲であることが望ま
しい。

本発明におけるガスバリア層は、ＩｎまたはＳｎからな
る単一金属あるいはこれらの合金のフッ素を含む金属酸
化物であり、ＩｎとＳｎのフッ素を含む混合酸化物や複
合酸化物膜も含まれる。

これらのフッ素を含む金属酸化物層は金属１原子に対し
、フッ素が０．０５〜１原子結合していることが重要で
あり、さらに好ましくは金属１原子に対し、フッ素が０
．２〜０．８原子結合しているものがよい。フッ素が金
属１原子に対し、０゜０５原子未満の場合には、電気導
電性が発現し、例えば第４図に示すごとき電界発光素子
の防湿用フィルムに使用した場合、引き出し電極との間
で短絡の発生のおそれがある。またフッ素が金属１原子
に対し、１原子を超えて含まれる場合には、基体とフッ
素を含む金属酸化物層との接着性が悪くなり、ガスバリ
ア性が損われるため好ましくない。

金属酸化物層中には、上記の金属原子以外の元素、例え
ば、Ｔ　ｉ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｓｂ、Ｃ。

Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕ、ＡＩ、Ｓｔ、Ｎｉなどが、微量台まれ
ていても良い。

フッ素を含む金属酸化物層の厚さとしては、防湿性と可
とう性の点で、３０〜３００人の範囲が好ましい。これ
らのフッ素を含む金属酸化物層は、３０Å以上でガスバ
リア性が発現し、５０Ａ以上の膜厚で十分なガスバリア
性が得られる。また、必要以上に膜厚を厚くしても、こ
れらのフッ素を含む金属酸化物層の場合にはガスバリア
性能が向上せず、３００人を超えるとかえって透明性や
可とう性が低下する。さらに好ましくは７０〜２５０人
である。

またガスバリア層を形成した本発明の透明ガスバリアフ
ィルムは、その表面抵抗値が１×１×１０７Ω／□以上
であることが好ましく、これにより例えば電界発光素子
などに用いる場合でも、透明ガスバリアフィルムの端部
と引き出し電極との間の短絡を確実に防止できる。

本発明においては、ガスバリア層に金属酸化物が金属１
原子に対し、０．０５〜１原子のフッ素を含むことでガ
スバリア性を損わずに表面電気抵抗値を高くできる点で
有効である。

またプラスチックフィルム上に、２層以上のフッ素を含
む金属酸化物層を積層すると、ガスバリア性がさらに向
上する。この際、それぞれのフッ素を含む金属酸化物層
が有機薄膜層によって隔てられていることが好ましい。

このため、プラスチックフィルム上にフッ素を含む金属
酸化物層を形成した後、このフッ素を含む金属酸化物層
上に有機薄膜層を形成し、この有機薄膜上にさらにもう
−ｍのフッ素を含む金属酸化物層を形成する方法をとる
ことが望ましい。

有機薄膜層として用いられる樹脂としては、ポリエステ
ル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ビニル樹脂、メ
ラミン樹脂、ウレタン樹脂、アイオノマー、ポリカーボ
ネートなどが挙げられる。

有機薄膜層の厚さとしては、０．１〜１０μｍの範囲が
好ましく、さらに好ましくは０．３〜２μｍである。

かかる透明ガスバリアフィルム片面に必要に応じて熱可
塑性接着層が積層される。熱可塑性接着層は、プラスチ
ックフィルム側でも、金属酸化物層側であってもよいが
、好ましくは金属酸化物層側に形成するのがよい。

本発明でいう熱可塑性接着層きは、加熱および加圧によ
り接着が可能な高分子層をいい、その代表的な例として
は、次のようなものがある。

ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン
共重合体などのポリオレフィン、ポリエステル、ポリア
ミド、アイオノマー、エチレン酢ビ共重合体、アクリル
酸エステル、メタアクリル酸エステルなどのアクリル樹
脂、ポリビニルアセタール、フェノール、変成エポキシ
樹脂などおよび、これらの共重合体や、混合物なとが挙
げられる。

このうち、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド
、アイオノマー、エチレン酢ビ共重合体が望ましい。

ヒートシール可能な熱可塑性接着層の厚さは、接着力の
点で、１０〜２００μｍの範囲が好ましく、３０〜１０
０μｍがより好ましい。

透明ガスバリアフィルムの片面に熱可塑性接着層を積層
する方法としては、熱可塑性接着層の成分を有機溶剤に
溶解してコーティングする方法や、熱可塑性接着層の成
分を溶融し、押出しラミネートする方法、あるいは、あ
らかじめ熱可塑性接着層のシートを作製し、これをドラ
イラミネートなどにより接着積層する方法などの公知の
方法が採用できる。

熱可塑性接着層のヒートシール温度は、使用する熱可塑
性接着層の特性に合せて適宜、選択することができるが
、８０℃〜１８０℃の温度でヒトシールできるものであ
ることが好ましい。

本発明のガスバリア層は、いわゆる真空蒸着、スパッタ
リングなどの真空薄膜形成法で形成できるが、防湿効果
を十分に発揮させるためには、スパッタリングで形成す
ることが好ましい。

本発明でいうスパッタリングとは、直流２極スパツタ、
高周波２極スパツタ、直流マグネトロンスパッタ、高周
波マグネトロンスパッタなどの、公知のスパッタリング
法が、全て含まれる。また、スパッタリングの際、酸素
などの反応性ガスを導入する、いわゆる反応性スパッタ
リングも含まれる。

なかでも、プラスチックフィルムを基体として用いた本
発明の場合には、ＩｎまたはＳｎ、あるいはこれらの合
金の金属ターゲットを使用し、アルゴンガス、酸素ガス
およびフロロアルカン系ガス等からなる混合ガスを真空
槽内に導入して行う、いわゆる、反応性スパッタリング
が望ましく、更に、反応性直流マグネトロンスパッタ、
反応性高周波マグネトロンスパッタが、金属酸化物層の
均一性、生産性の点で最も好ましい。

反応性スパッタリングの際の真空装置内の圧力は、金属
酸化物層の透明性やガスバリア性に大きく影響し、好ま
しくは、８Ｘ１０”〜８　Ｘ　１０′３トール、さらに
好ましくは、２　Ｘ　１０′４〜５×１０″３トール、
最も好ましくは、５　Ｘ　１０”〜１×１０−３トール
の範囲が望ましい。

反応性スパッタリングの際に使用するガス組成は、使用
するターゲット材料や投入電力に応じて、適宜、選択さ
れる。

混合ガスとしてアルゴン、酸素およびフロロアルカンガ
スを使用する場合は、アルゴンに対する酸素の割合は１
〜５０容量％の範囲が好ましく、ガスバリア性を増すた
めには２０〜５０容量％がより好ましい。該アルゴンと
酸素の混合ガスに対するフロロアルカンガスの割合は１
〜３０容量％の範囲が好ましく、高抵抗とするためには
５〜３０容量％がさらに好ましい。

フロロアルカンガスとしては特に限定されないが、透明
性を向上させるためにＣ２Ｆ６、Ｃ３ＦＢ　、Ｃ４Ｆ　
８などのパーフルオロアルカン、ＣＨ２Ｆ２　、Ｃ２Ｈ
４Ｆ２などのフロロアルカンを使用することが好ましく
、中でも０２Ｆ６．０３ＦＢ、Ｃ４Ｆ８などのパーフル
オロアルカンがより好ましい。

本発明の透明ガスバリアフィルムは、湿気を嫌う電子部
品の包装、湿気および酸化を防ぐための食品包装、医薬
品の包装などとして広く用いることができる。中でも電
界発光素子などの電子部品の防湿用フィルムとして有用
である。

［発明の効果］ 本発明の透明ガスバリア性フィルムは、上述のごとく構
成したので、以下のような優れた効果を有する。

（１）高抵抗のため発光素子等に用いる場合、引き出し
電極との間で短絡のおそれがない。

■　ピンホールが少なく水蒸気、酸素等の気体のガスバ
リア性に優れる。

（３）　　可とう性に優れる。

（４）高温での防湿性に優れる。

（５）透明性に優れている。

（６）薄膜化できる。

［実施例］ 以下、実施例について説明する。

本発明における特性の測定には、次の方法を用いた。

（イ）光線透過率 分光光度計（日立製作所■、自記分光光度計３２３型）
にて、分光光線透過率を測定し、波長５５０ｎｍでの透
過率を光線透過率とした。

（ロ）透湿度 第２図に示される構成の透明ガスバリアフィルムから１
０ｃｍ角の大きさ２枚を切り出し、ヒートシーラーで内
寸法７ｃｍｘ７ｃｍの袋とした。

この袋の中には粒状の乾燥シリカゲル５〜１０ｇを充填
した。この袋を４０℃、９０％ＲＨの恒温恒湿槽に入れ
、２４時間後の袋全体の重量Ｗ。

（ｇ）と９６時間後の重量Ｗ１を測定し、次式から４０
℃での透湿度を計算した。

（ＷＩ　　ＷＯ）　／　（３Ｘ　０．　０７２Ｘ　２）
単位　　：　　　［ｇ／ｒｒｆ・２４ｈｒｌ（ハ）ピン
ホールテスト 第２図に示される構成の透明ガスバリアフィルムを１０
ｃｍｘ６ｃｍの大きさで２枚切り出し、この２枚のフィ
ルムの間に８ｃｍＸ４ｃｍの大きさの清浄な銅を真空蒸
着したプラスチックフィルムをラミネーターを用いて熱
圧着し、密閉した。

この試料を硫化水素ガスを充満したデシケータに７２時
間放置し、２枚の透明ガスバリアフィルムの内部に密閉
された銅蒸着フィルム面１０ｍ２あたりの腐食点の数を
ピンホールの数とした。

（ニ）表面電気抵抗値 三菱油化（株）製の表面電気抵抗測定器（Ｍ。

ｄｅｌ　　ＨＴ−２１０）を用いてフッ素を含んだ金属
酸化物層の表面電気抵抗値を測定した。

（ホ）フッ素の含有率測定法 ＶＧ　　５ｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製、Ｘ線型子分光測定
装置ｒＥｓｃＡＬＡＢ５Ｊにより、インジウム、錫とフ
ッ素の原子数比を測定した。

実施例１〜５．比較例に 軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ５０
μｍ）を幅３００ｍｍ、長さ５００ｍのロール状とし、
巻取式直流マグネトロンスパッタリング装置に装着した
。ターゲットはインジウム金属板（純度９９゜９％）を
使用し、真空容器を５Ｘ１０”トール以下に真空排気し
た後、アルゴン・酸素混合ガス（混合比　７０　：　３
０体積％）を０．２２１／ｍｉｎとＣ２Ｆ６で示される
パーフロロアルカンガス０，０５１／ｍｉｎを導入し、
圧力を６Ｘ１０’！−ルとして、ガスバリア層を形成し
た。投入電力を２ＫＷに設定して、フィルム速度により
、フッ素を含む酸化インジウム層の膜厚をそれぞれ５０
０人、２５０人、１００人。

７０人、５０人のものを作製した。

次いで、これらのスパッタしたフィルムのフッ素を含む
金属酸化物が形成された側に、ポリエステル系接着剤（
東洋モートン（株）製“アトコート”ＡＤ−５７８）を
乾燥後の厚みが約３μｍとなるよう塗布して、ドライラ
ミネート法により未延伸ポリプロピレンフィルム（厚さ
５０μｍ）を接着した。

フッ素を含む酸化インジウムの厚さが、５００人、２５
０人、１００Ａ、７０Ａ、５０人のものをそれぞれ、実
施例１．２．３．４および５とする。

実施例１〜５のインジウム１原子に対するフッ素原子の
割合は０．５８であった。測定結果を表１に示す。

比較例１〜５ 実施例１〜５において、Ｃ２Ｆ６ガスを混合せず、アル
ゴンと酸素の混合ガスのみにして、実施例１〜５と同様
の条件でスパッタリングを行って、酸化インジウム層を
作製し、実施例１〜５と同様に未延伸ポリプロピレンフ
ィルムをドライラミネートしたものをそれぞれ、比較例
１．２，３．４および５とする。測定結果をを表１に示
す。

実施例６〜１〇 二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ５
０μｍ）を基体として、この上に反応性直流マグネトロ
ンスパッタ法により、フッ素を含む酸化インジウムと酸
化錫からなる複合酸化物膜を形成した。

ターゲットはインジウムと錫の合金板（インジウムと錫
の組成比　９０　：　１０重量％、サイズ５ビンチ×１
２インチ）を使用し、５×１０″５トール以下に真空排
気した後、アルゴン・酸素混合ガス（混合比　７０　：
　３０体積％）を０．２７１／ｍｉｎとＣ３Ｆ８で示さ
れるパーフロロアルカンガス０．０５１／ｍｉｎを導入
し、圧力を８×１０′４トールとして、スパッタリグを
行った。投入電力を２ＫＷ一定にして、フィルム速度に
より、フッ素を含む酸化インジウムと酸化錫からなる複
合酸化膜の膜厚をそれぞれ５００人、２５０人。

１００人、７０人、５０Ａのものを作製した。

次いで、これらのスパッタしたフィルムのフッ素を含む
金属酸化物が形成された側に、ポリエステル系接着剤（
東洋モートン（株）製“アトコート”ＡＤ−５７８）を
乾燥後の厚みが約３μｍととなるように塗布して、ドラ
イラミネート法により、５０μｍの未延伸ポリプロピレ
ンフィルムを接着した。

フッ素を含む酸化インジウム−酸化錫複合酸化物膜の厚
さが、５００人、２５０人、１００Ａ。

７０人、５０人のものを、それぞれ実施例６．７．８．
９および１０とする。

実施例６〜１０のガスバリア層であるフッ素を含む複合
酸化物膜中のフッ素原子は、インジウムと錫の原子数比
の和（１原子）に対し０．７１で表１ あった。測定結果を表１に示す。

比較例６〜１０ 実施例６〜１０において、導入混合ガスのうちＣ３ＦＢ
ガスを導入せず、アルゴン・酸素（混合比７０：３０）
のみを導入し、実施例６〜１０と同様の条件でスパッタ
リングして得られた酸化インジウム−酸化錫複合酸化物
膜に未延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネート
法により接着したものをそれぞれ比較例６．７．８．９
および１０とする。測定結果を表１に示す。

表１に記載された光線透過率、表面電気抵抗、透湿度お
よびピンホールの値から明らかなように、本発明を満足
する実施例１〜１０の透明ガスバリアフィルムは透明性
が優れ、表面電気抵抗が高い。

またピンホールが少なくなり優れたガスバリア性を示す
防湿フィルムであった。一方、比較例１〜１０はピンホ
ールが多く、表面電気抵抗値の低いものであった。

実施例１１ （電界発光体の作製） 片面に、酸化インジウム−酸化錫の透明導電膜とアルミ
ニウム箔の引き出し電極を形成した二軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム（厚さ７５μｍ）の透明導電
層上に、スクリーン印刷法で、シアノエチルセルロース
（４０部）、銅をドープした硫化亜鉛粉末（６０部）、
ＤＭＦ　（１００部）の混合溶液を塗布乾燥して、８０
μｍの発光層を形成した。

この発光層の上に、スクリーン印刷法で、シアノエチル
セルロース（５０部）、チタン酸バリウム粉末（５０部
）　、ＤＭＦ　（１００部）の混合溶液を塗布乾燥して
、１００μｍの高誘電率層を形成した。

次いで、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム
（厚さ５０μｍ）の片面に、アルミニウム箔（厚さ３５
μｍ）と引き出し電極を積層した電極層のアルミニウム
箔面と、前記の高誘電率層面とを重ね合せ、１５０℃で
加熱接着し、切断して、１０１００Ｘ１００のサイズの
電界発光体を得た。

（透明ガスバリアフィルムの作製） 二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ５
０μｍ１幅３００ｍ、ｍ、長さ２００ｍ）の片面に、反
応性スパッタ法でフッ素を含む酸化インジウムの膜を形
成した。

反応性スパッタは、巻取式マグネトロンスパッタ装置を
使用し、インジウム板（厚さ５ｍｍ、１１５０ｘ３５０
ｍｍ）をターゲットとして、アルゴン・酸素混合ガス（
混合比７０　：　３０容量％）を０．２２１部ｍｉｎと
Ｃ２Ｆ６で示されるパーフロロアルカンガス０．０５／
／ｍｉｎとをガスミキサーにより混合した後、真空槽内
に導入し、圧力６．０Ｘ１０−’トールとし、巻取速度
を調整して膜厚が１００Ａのフッ素を含む酸化インジウ
ム膜を得た。得られたフッ素を含む酸化インジウム膜の
表面抵抗は１０８Ω／口以上であった。

次いで、このフッ素を含む酸化インジウム膜の上に、押
出しラミネート法により、厚さ５０μｍのエチレン−酢
ビ共重合樹脂からなるヒートシール層を積層し、透明ガ
スバリアフィルムを作製した。得られた透明ガスバリア
フィルムのガスバリア層のインジウムとフッ素の組成比
はインジウム１原子に対しフッ素が０．５８原子であっ
た。この透明ガスバリアフィルムを実施例１１とする。

（電界発光素子の作製） 前記の透明ガスバリアフィルムを２枚、ヒートシール層
が互いに内側になるようにして重ね、この間に前記の電
界発光体を挿入して、加熱プレスにより１５０℃で接着
して電界発光素子を得た。

次に、実施例１１において、透明ガスバリアフィルムの
作製時に、Ｃ２Ｆ６ガスを導入せず、アルゴン・酸素の
混合ガス（混合比６０−４０容量％）を０．２２／／ｍ
ｉｎとした以外は実施例１１と同様にして透明ガスバリ
アフィルムを作製した。この透明ガスバリアフィルムを
比較例１１とする。

比較例１１のフッ素を含んでいない酸化インジウム層の
表面抵抗は４Ｘ１０３Ω／口であった。

実施例１１と比較例１１を用いた電界発光素子を各々５
０個作製し、これらについてそれぞれ各素子の引き出し
電極に４００Ｈｚ、１００Ｖの電圧を印加し短絡テスト
を行った。

比較例１１については５０個中２３個が短絡により発光
しないか、著しく輝度が低下した。一方、本発明を満足
する実施例１１は短絡不良は全く生じなかった。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図はそれぞれ本発明の透明ガスバリアフィ
ルムの１例を示す概略断面図、第４図は本発明の透明ガ
スバリアフィルムを用いた電界発光素子の１例を示す概
略断面図である。 １はプラスチックフィルム、２はガスバリア層、３は接
着層、４は有機薄膜層、５は電極層、６は誘電率層、７
は発光層、８は透明電極層である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　プラスチックフィルムから成る基体の少なくとも片
   面に、ガスバリア層を積層した透明ガスバリアフィルム
   において、該ガスバリア層はＩｎおよび／またはＳｎか
   らなる金属の酸化物層であって、かつ該金属酸化物層が
   金属１原子に対し０．０５〜１．０原子のフッ素を含む
   ことを特徴とする透明ガスバリアフィルム。 ２　表面電気抵抗値が１×１０＾７Ω／□以上である請
   求項１記載の透明ガスバリアフィルム。 ３　金属酸化物層がスパッタリングにより形成されてな
   る請求項１記載の透明ガスバリアフィルム。