JPH0225558A - 溶射方法 - Google Patents
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- JPH0225558A JPH0225558A JP63174799A JP17479988A JPH0225558A JP H0225558 A JPH0225558 A JP H0225558A JP 63174799 A JP63174799 A JP 63174799A JP 17479988 A JP17479988 A JP 17479988A JP H0225558 A JPH0225558 A JP H0225558A
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- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、溶融状態の金属やセラミックス等の粒子群を
被溶射物の表面に吹きつけて皮膜を形成させる被覆法で
ある溶射方法に関する。
被溶射物の表面に吹きつけて皮膜を形成させる被覆法で
ある溶射方法に関する。
〔従来の技術と発明が解決しようとする課題〕従来の溶
射によって形成される皮膜には被溶射物の表面に達する
多数の気孔が存在し、そこから腐食性ガスや溶剤等が侵
入して皮膜の剥離や破損等の原因となるという問題を生
じていた。
射によって形成される皮膜には被溶射物の表面に達する
多数の気孔が存在し、そこから腐食性ガスや溶剤等が侵
入して皮膜の剥離や破損等の原因となるという問題を生
じていた。
本発明は、上記問題点を解決し、酸化物含有率及び気孔
率が極めて低い皮膜を形成することの出来る溶射方法を
提供することを目的としている。
率が極めて低い皮膜を形成することの出来る溶射方法を
提供することを目的としている。
上記目的を達成するために、本発明の溶射方法において
は、容器状の被溶射物自体を密封し、該被溶射物内の空
気を排出すると共に不活性ガスを容器状の該被溶射物に
注入し不活性ガスの雰囲気中で該被溶射物の内面を溶射
するものである。
は、容器状の被溶射物自体を密封し、該被溶射物内の空
気を排出すると共に不活性ガスを容器状の該被溶射物に
注入し不活性ガスの雰囲気中で該被溶射物の内面を溶射
するものである。
また、密封室内に不活性ガスを注入すると共に該密封室
内の空気を排除して該密封室内を大気圧を僅かに越える
所定圧力に保持し、該密封室内の不活性ガスの雰囲気中
で該密封室内に置かれた被溶射物の溶射をおこなうもの
である。
内の空気を排除して該密封室内を大気圧を僅かに越える
所定圧力に保持し、該密封室内の不活性ガスの雰囲気中
で該密封室内に置かれた被溶射物の溶射をおこなうもの
である。
容器状の被溶射物の内部の空気を不活性ガスと置き換え
ることにより金属等の溶融粒子の吹きつけ時、不活性領
域と空気との混合が防止され、溶融粒子内へ酸素や水分
等が混入しない、また、容器状の被溶射物自体の内部で
溶射作業を行うので、密封構造の作業室が不要となる。
ることにより金属等の溶融粒子の吹きつけ時、不活性領
域と空気との混合が防止され、溶融粒子内へ酸素や水分
等が混入しない、また、容器状の被溶射物自体の内部で
溶射作業を行うので、密封構造の作業室が不要となる。
密封室内を１気圧を僅かに越える所定圧力に保持するの
で、密封室に特別な強度を要せず密封室を特別な耐圧構
造等とする必要はない。
で、密封室に特別な強度を要せず密封室を特別な耐圧構
造等とする必要はない。
溶融粒子の吹きつけ時、溶融粒子は化学的に不活発な不
活性ガスの雰囲気中に包まれるので酸素や水分等のまき
こみがなく、母材表面には酸化物含有率及び気孔率が極
めて低い皮膜が形成される。
活性ガスの雰囲気中に包まれるので酸素や水分等のまき
こみがなく、母材表面には酸化物含有率及び気孔率が極
めて低い皮膜が形成される。
実施例について図面を参照して説明すると、第１図と第
２図と第３図に於いて、１は圧力容器等の容器状の被溶
射物であり、該被溶射物１は一端が開口状であって円筒
部１ａ及び中空状の円錐部１ｂからなり、水平上に置か
れた鉄板等の平面板５上に！！置されている。該平面板
５と被溶射物ｌの開口端２との間には、略矩形断面の硬
質ゴム製等のシール部材６が介装され、該開口＠２と平
面５との間が密封される。８は被溶射物ｌ内部への出入
り口であって平面板５の所定部位を開設して形成したも
のであり、９はこの出入り口８を開閉可能に密封してい
るシール板９である。平面板５の下方には外部と被溶射
物ｌ内部との連絡用の通路３が形成されており、該通路
３は出入り口８及び外部へ通じる連絡口４に連通してい
る。なお、該連絡口４には開き戸７が設けられている。
２図と第３図に於いて、１は圧力容器等の容器状の被溶
射物であり、該被溶射物１は一端が開口状であって円筒
部１ａ及び中空状の円錐部１ｂからなり、水平上に置か
れた鉄板等の平面板５上に！！置されている。該平面板
５と被溶射物ｌの開口端２との間には、略矩形断面の硬
質ゴム製等のシール部材６が介装され、該開口＠２と平
面５との間が密封される。８は被溶射物ｌ内部への出入
り口であって平面板５の所定部位を開設して形成したも
のであり、９はこの出入り口８を開閉可能に密封してい
るシール板９である。平面板５の下方には外部と被溶射
物ｌ内部との連絡用の通路３が形成されており、該通路
３は出入り口８及び外部へ通じる連絡口４に連通してい
る。なお、該連絡口４には開き戸７が設けられている。
被溶射物ｌの円錐部１ｂには被溶射物１内の空気Ａの排
出時に操作するための排気バルブＩＯが、円筒部１ａに
は被溶射物１内に不活性ガスＧを注入するときに操作す
るための操作バルブ１１が設けられており、具体的には
、該両パルプ１０．１１は被溶射物ｌの開口部１２．１
３に連通して取りつけられた排気管１４．不活性ガス注
入管１５に付設されている。
出時に操作するための排気バルブＩＯが、円筒部１ａに
は被溶射物１内に不活性ガスＧを注入するときに操作す
るための操作バルブ１１が設けられており、具体的には
、該両パルプ１０．１１は被溶射物ｌの開口部１２．１
３に連通して取りつけられた排気管１４．不活性ガス注
入管１５に付設されている。
なお、両開口部１２．１３は、圧力容器としての被溶射
物１の各種部品取りつけ孔、マンホール等をそのまま使
用したものである。
物１の各種部品取りつけ孔、マンホール等をそのまま使
用したものである。
１６は被溶射物１内に配置されると共に平面Ｆｉ、５上
を走行可能に設けられたアーク溶線方式等の自動溶射装
置であって、該溶射装置１６は溶射ガン１７゜コンプレ
ッサー１８．アルゴンや窒素等の不活性ガスの吹きつけ
用としての不活性ガスのタンク１９等を備えている。溶
射ガン１７は横方向ガイド２０に沿って水平方向に、竪
方向ガイド２１に沿って上下方向に移動自在とされてい
る。
を走行可能に設けられたアーク溶線方式等の自動溶射装
置であって、該溶射装置１６は溶射ガン１７゜コンプレ
ッサー１８．アルゴンや窒素等の不活性ガスの吹きつけ
用としての不活性ガスのタンク１９等を備えている。溶
射ガン１７は横方向ガイド２０に沿って水平方向に、竪
方向ガイド２１に沿って上下方向に移動自在とされてい
る。
溶射を行うには、図外のアルゴンや窒素等の不活性ガス
を供給する供給装置から注入管１５．操作バルブ１１．
開口部１３を介して不活性ガスＧを被溶射物ｌの内部空
間に供給・注入し、同時に、開口部１２．排気バルブ１
０．排気管１４を介して内部の空気を外部へ排出する。
を供給する供給装置から注入管１５．操作バルブ１１．
開口部１３を介して不活性ガスＧを被溶射物ｌの内部空
間に供給・注入し、同時に、開口部１２．排気バルブ１
０．排気管１４を介して内部の空気を外部へ排出する。
被溶射物ｌ内部の空気を不活性ガスＧに置き変えたうえ
、不活性ガスＧの圧力を、大気圧を僅かに越える程度つ
まりゲージ圧力にテ＋０．１ ｋｇ （／ｃｊ 〜０．
２ ｋｇ ｒ ／ｃｄ（７）Ｉ回内ニ設定保持し、不活
性ガスＧの飽和状態とした後、このような不活性ガスＧ
の雰囲気内で、溶射ガン１７から金属等の溶融粒子を吹
きつけ電気溶線式溶射を行うことにより被溶射物ｌの内
面２２に酸化物含有率及び気孔率が極めて低い皮膜を形
成することが出来る。溶射ガン１７と内面２２との距Ｍ
Ｗは５０〜２５０−に設定して行うのが好ましい。
、不活性ガスＧの圧力を、大気圧を僅かに越える程度つ
まりゲージ圧力にテ＋０．１ ｋｇ （／ｃｊ 〜０．
２ ｋｇ ｒ ／ｃｄ（７）Ｉ回内ニ設定保持し、不活
性ガスＧの飽和状態とした後、このような不活性ガスＧ
の雰囲気内で、溶射ガン１７から金属等の溶融粒子を吹
きつけ電気溶線式溶射を行うことにより被溶射物ｌの内
面２２に酸化物含有率及び気孔率が極めて低い皮膜を形
成することが出来る。溶射ガン１７と内面２２との距Ｍ
Ｗは５０〜２５０−に設定して行うのが好ましい。
他の実施例として、第４図に示すように、箱状等の構造
物２５によって密封室２３を形成し、該密封室２３の内
部を、上記実施例と同様にしで、＋０．１ｋｇ ｆ ／
ｃｊ〜０．２ ｋｇ ｒ ／ ｃｄ （ゲージ圧力）の
範囲内における所定圧力の不活性ガスＧの雰囲気とした
うえ、溶射装置１６により被溶射物２４の表面を溶射す
るようにしてもよい０図例では、被溶射物２４である円
柱状のシャフトをローラ２８，２８で支持しつつ同時に
該被溶射物２４を回転させながらその表面に溶射する場
合を示している。なお、排気バルブｌＯは構造物２５の
天井壁２６に、操作バルブ１１は側壁２７に付設されて
いる。２９ば密封構造の出入り周界である。
物２５によって密封室２３を形成し、該密封室２３の内
部を、上記実施例と同様にしで、＋０．１ｋｇ ｆ ／
ｃｊ〜０．２ ｋｇ ｒ ／ ｃｄ （ゲージ圧力）の
範囲内における所定圧力の不活性ガスＧの雰囲気とした
うえ、溶射装置１６により被溶射物２４の表面を溶射す
るようにしてもよい０図例では、被溶射物２４である円
柱状のシャフトをローラ２８，２８で支持しつつ同時に
該被溶射物２４を回転させながらその表面に溶射する場
合を示している。なお、排気バルブｌＯは構造物２５の
天井壁２６に、操作バルブ１１は側壁２７に付設されて
いる。２９ば密封構造の出入り周界である。
図示省略するが、自動溶射装置１６に代えて、溶射口ボ
ットにて行わせるようにするも好ましい。
ットにて行わせるようにするも好ましい。
勿論、手持式溶射ガン１７を持って作業を行うようにし
てもよい。
てもよい。
第５図乃至第８図に於いて、種々の条件下で溶射実験を
行って形成した溶射皮膜の顕微鏡写真を示しく拡大率１
００倍）、図中、Ｃは形成された溶射皮膜、Ｓはその溶
射皮膜層、Ｂは被溶射物である母材の表面層である。
行って形成した溶射皮膜の顕微鏡写真を示しく拡大率１
００倍）、図中、Ｃは形成された溶射皮膜、Ｓはその溶
射皮膜層、Ｂは被溶射物である母材の表面層である。
第５図に於いて、圧縮空気を用いて一般大気中で行った
場合の母材の表面に形成された溶射皮膜Ｃを示し、該溶
射皮膜Ｃには多数の気孔が生じている。
場合の母材の表面に形成された溶射皮膜Ｃを示し、該溶
射皮膜Ｃには多数の気孔が生じている。
第６図（１）乃至第６図（Ｖ）に於いて、アルゴンを用
いて一般大気中で行った場合であり、圧縮空気で吹きつ
けた場合（第５図の場合）よりも、単位面積当たりの気
孔の数量つまり分布率はかなり小さいが、孔径の大きい
気孔が存在している。
いて一般大気中で行った場合であり、圧縮空気で吹きつ
けた場合（第５図の場合）よりも、単位面積当たりの気
孔の数量つまり分布率はかなり小さいが、孔径の大きい
気孔が存在している。
なお、第１表のような条件にて溶射を行った０表中のＤ
は液体アルゴンを、Ｅは高圧容器によるガスアルゴンを
夫々示している。
は液体アルゴンを、Ｅは高圧容器によるガスアルゴンを
夫々示している。
第１表 溶射条件
但し、
ガス溶線式による。
第７図（１）乃至第７図（ＩＶ）に於いて、アルゴンを
用い一般大気中で行った点については、第６図の場合と
同条件であるが、溶射距離を変更した点で相違し、この
場合、溶射距離が大きくなるに伴い気孔率も大きくなっ
ている。
用い一般大気中で行った点については、第６図の場合と
同条件であるが、溶射距離を変更した点で相違し、この
場合、溶射距離が大きくなるに伴い気孔率も大きくなっ
ている。
第８図（１）乃至第８図（ＩＶ）に於いては、前記１図
又は第４図の実施例による方法にて行った場合を示して
いる。その内、第８図（ｉ）及び第８図（■）は電気溶
線式にて、第８図（！Ｉｔ）及び第８図（ＩＶ）はガス
溶線式にて、また、吹き付けにはアルゴンガスを使用し
て行った場合を示している。上記電気溶線式の場合、つ
まり、第８図（１）では気孔は掘めて微細であり、第８
図（■）では気孔の分布率が極めて小さいうえに母材表
面の近傍には橿めて微細な気孔しか存在していない、さ
らに、第８図（ｍ）及び第８図（ＩＶ）では、極めて微
細な気孔しか存在せず、しかも分布率は橿めて小さい。
又は第４図の実施例による方法にて行った場合を示して
いる。その内、第８図（ｉ）及び第８図（■）は電気溶
線式にて、第８図（！Ｉｔ）及び第８図（ＩＶ）はガス
溶線式にて、また、吹き付けにはアルゴンガスを使用し
て行った場合を示している。上記電気溶線式の場合、つ
まり、第８図（１）では気孔は掘めて微細であり、第８
図（■）では気孔の分布率が極めて小さいうえに母材表
面の近傍には橿めて微細な気孔しか存在していない、さ
らに、第８図（ｍ）及び第８図（ＩＶ）では、極めて微
細な気孔しか存在せず、しかも分布率は橿めて小さい。
第１図の実施例においては、被溶射物ｌとして圧力容器
の場合を示したが、これと異なり容器状つまり開口部を
有する建物等の構造物の一部であってもよい。
の場合を示したが、これと異なり容器状つまり開口部を
有する建物等の構造物の一部であってもよい。
上記何れの実施例においても、空気を不活性ガスの飽和
状態に置き換えて溶射作業を不活性ガスＧの雰囲気中で
行うのでで、金属等の溶融粒子の吹き付は時、溶融粒子
内への酸素や水分等の混入が無く、酸化物含有率及び気
孔率が極めて低い皮膜が形成される。溶射距離を小さく
して行う必要もないので、母材を加熱し過ぎることもな
い。
状態に置き換えて溶射作業を不活性ガスＧの雰囲気中で
行うのでで、金属等の溶融粒子の吹き付は時、溶融粒子
内への酸素や水分等の混入が無く、酸化物含有率及び気
孔率が極めて低い皮膜が形成される。溶射距離を小さく
して行う必要もないので、母材を加熱し過ぎることもな
い。
第１図の実施例においては、被溶射物１自体を密封室と
して用いるので、不活性ガスＧを保持するための密封室
を別に必要としない。また、不活性ガスＧは低圧（０，
１〜０．２ ｋｇ ｒ ／ ｃｄ ：ゲージ圧）である
から被溶射物１は強度を要しない、第４図に示す実施例
に於いては、密封室２３内の不活性ガスＧの圧力を低圧
の０．１〜０．２ ｋｇ ｆ ／ ｃｄ 、（ゲージ圧
）に設定したので、密封室２３は強度を要しない。
して用いるので、不活性ガスＧを保持するための密封室
を別に必要としない。また、不活性ガスＧは低圧（０，
１〜０．２ ｋｇ ｒ ／ ｃｄ ：ゲージ圧）である
から被溶射物１は強度を要しない、第４図に示す実施例
に於いては、密封室２３内の不活性ガスＧの圧力を低圧
の０．１〜０．２ ｋｇ ｆ ／ ｃｄ 、（ゲージ圧
）に設定したので、密封室２３は強度を要しない。
〔発明の効果］
本発明は、以上説明したように構成されＣいるので、以
下に記載されるような効果を奏する。
下に記載されるような効果を奏する。
■ 被溶射物１，２４の内面２２又は表面に酸化物含有
率及び気孔率が極めて低い皮膜を形成することが出来る
。従って、防錆・防蝕効果があり、耐薬品性が向上する
。
率及び気孔率が極めて低い皮膜を形成することが出来る
。従って、防錆・防蝕効果があり、耐薬品性が向上する
。
■ 不活性ガスＧを保持するための密封室を別に必要と
しない。
しない。
■ 被溶射物１内及び密封室２３内を密封するのに、そ
れらの内部を高圧や高・低真空に保持する必要が無いの
で、被溶射物１及び密封室２３における大気とのシール
部は簡易なものでよい、被溶射物１及び密封室２３は機
械的強度を要しないので、密封室２３を構成するのが大
構造物である場合にも、容易に適用可能である。
れらの内部を高圧や高・低真空に保持する必要が無いの
で、被溶射物１及び密封室２３における大気とのシール
部は簡易なものでよい、被溶射物１及び密封室２３は機
械的強度を要しないので、密封室２３を構成するのが大
構造物である場合にも、容易に適用可能である。
第１図は本発明の一実施例を示す断面側面図、第２図と
第３図は夫々拡大部分断面図、第４図は他の実施例を示
す断面側面図、第５図乃至第８図は母材表面に形成され
た溶射皮膜の夫々顕微鏡写真である。 ｌ・・・被溶射物、２２・・・内面、２３・・・密封室
、２４・・・被溶射物、Ａ・・・空気、Ｇ・・・不活性
ガス。 カンメタエンジニアリング 株式会社 第 図 参Ａ ／″ 手続補正書（試） 昭和６３年１０月１５日 １、羽生のＪしＲ 昭和６３年 １猶嘲第１７４７９９号 ２、発明の名称 溶射方法 ３、′４正をする者 ４、代 人 事件との関係 特許出願人 名 称 カンメタエンジニアリング株式会社曇５
３０ 電話（０６）３４４−０１７７番大阪市北区梅
田２丁目５番８号 千代田ビル西別館（全送日 昭和６
３年 ９月２７日） ６、補正の対象 （１）明細書の図面の簡単な説明の欄。 ７、補正の内容 （１）明細書第１１頁第１８１テ〜２斬テ目の「第５図
乃至第８図＼１、−ン′
第３図は夫々拡大部分断面図、第４図は他の実施例を示
す断面側面図、第５図乃至第８図は母材表面に形成され
た溶射皮膜の夫々顕微鏡写真である。 ｌ・・・被溶射物、２２・・・内面、２３・・・密封室
、２４・・・被溶射物、Ａ・・・空気、Ｇ・・・不活性
ガス。 カンメタエンジニアリング 株式会社 第 図 参Ａ ／″ 手続補正書（試） 昭和６３年１０月１５日 １、羽生のＪしＲ 昭和６３年 １猶嘲第１７４７９９号 ２、発明の名称 溶射方法 ３、′４正をする者 ４、代 人 事件との関係 特許出願人 名 称 カンメタエンジニアリング株式会社曇５
３０ 電話（０６）３４４−０１７７番大阪市北区梅
田２丁目５番８号 千代田ビル西別館（全送日 昭和６
３年 ９月２７日） ６、補正の対象 （１）明細書の図面の簡単な説明の欄。 ７、補正の内容 （１）明細書第１１頁第１８１テ〜２斬テ目の「第５図
乃至第８図＼１、−ン′
Claims (2)
- １．容器状の被溶射物１自体を密封し、該被溶射物１内
の空気Ａを排出すると共に不活性ガスＧを容器状の該被
溶射物１内に注入し不活性ガスＧの雰囲気中で該被溶射
物ｌの内面２２を溶射することを特徴とする溶射方法。 - ２．密封室２３内に不活性ガスＧを注入すると共に該密
封室２３内の空気Ａを排除して該密封室２３内を大気圧
を僅かに越える所定圧力に保持し、該密封室２３内の不
活性ガスＧの雰囲気中で該密封室２３内に置かれた被溶
射物２４の溶射をおこなうことを特徴とする溶射方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63174799A JPH0225558A (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | 溶射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63174799A JPH0225558A (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | 溶射方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0225558A true JPH0225558A (ja) | 1990-01-29 |
Family
ID=15984871
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63174799A Pending JPH0225558A (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | 溶射方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0225558A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0489520A1 (en) * | 1990-11-21 | 1992-06-10 | Sermatech International Inc. | Chamber for applying a thermal spray coating and method of using the same |
| FR2675821A1 (fr) * | 1991-04-26 | 1992-10-30 | Pechiney Recherche | Methode de preparation d'echantillons de reference pour analyse spectrographique. |
| US5456951A (en) * | 1993-12-09 | 1995-10-10 | Sermatech International, Inc. | Thermal spray coating chamber and method of using same |
| US6350798B1 (en) * | 1997-06-20 | 2002-02-26 | Bayer Aktiengesellschaft | Use of saccharin for stabilizing thermoplastic, aromatic polycarbonates |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5951860A (ja) * | 1982-09-17 | 1984-03-26 | 田辺製薬株式会社 | 輸液用バツグおよびその製造方法 |
| JPS6315343A (ja) * | 1986-07-07 | 1988-01-22 | Fujitsu Ltd | ログデ−タのダンプ回路 |
-
1988
- 1988-07-13 JP JP63174799A patent/JPH0225558A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5951860A (ja) * | 1982-09-17 | 1984-03-26 | 田辺製薬株式会社 | 輸液用バツグおよびその製造方法 |
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| US5389407A (en) * | 1990-11-21 | 1995-02-14 | Sermatech International, Inc. | Thermal spraying coating method |
| FR2675821A1 (fr) * | 1991-04-26 | 1992-10-30 | Pechiney Recherche | Methode de preparation d'echantillons de reference pour analyse spectrographique. |
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