JPH02235229A - 情報記録媒体製造用マスク - Google Patents
情報記録媒体製造用マスクInfo
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- JPH02235229A JPH02235229A JP5590689A JP5590689A JPH02235229A JP H02235229 A JPH02235229 A JP H02235229A JP 5590689 A JP5590689 A JP 5590689A JP 5590689 A JP5590689 A JP 5590689A JP H02235229 A JPH02235229 A JP H02235229A
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は，光磁気ディスク等の情報記録媒体のガラス基
板にマスク露光法により番地情報等のビットを形成する
際に用いられる情報記録媒体製造用マスクに関する． 【従来の技術〕 光磁気ディスク等の情報記録媒体に用いられるガラス基
板には凹凸状のビット信号の形で番地情報などが記録さ
れているが，このビット信号が記録されたガラス基板の
作製は、通常、マスク露光によってぼなわれている． 第２図は、そのマスク露光法による光磁気ディスク用ガ
ラス基板の作製工程を示す図であって、以下、同図を参
照して説明する． 先ず，光磁気ディスク用ガラス基板の作製に先だって露
光用のマスクが作製される． 第２図（１）に示すように、先ず、鏡面研磨された透明
なマスク用ガラス基板１１上に、Ｃｒ等の金属材料を蒸
着して光遮光層１２を形成し、この光遮光層１２の上に
、さらにフォトレジスト層が塗布形成される． 次に、第２図（２）に示すように、マスク用ガラス基板
１１を回転しながら記録信号に対応して光強度変調され
たレーザ光ｒを上記フォトレジスト層１３上に集光して
スパイラル状に露光した後、現像して第２図（３）に示
すように，フォトレジスト層１３に所望のピットパター
ンを形成し、この後，第２図（４）に示すように、エッ
チング処理により光遮光層１２に上記ピットパターンを
形成し、第２図（５）に示すように，所望のビットパタ
ーンが形成されたマスク１４が作製される。
板にマスク露光法により番地情報等のビットを形成する
際に用いられる情報記録媒体製造用マスクに関する． 【従来の技術〕 光磁気ディスク等の情報記録媒体に用いられるガラス基
板には凹凸状のビット信号の形で番地情報などが記録さ
れているが，このビット信号が記録されたガラス基板の
作製は、通常、マスク露光によってぼなわれている． 第２図は、そのマスク露光法による光磁気ディスク用ガ
ラス基板の作製工程を示す図であって、以下、同図を参
照して説明する． 先ず，光磁気ディスク用ガラス基板の作製に先だって露
光用のマスクが作製される． 第２図（１）に示すように、先ず、鏡面研磨された透明
なマスク用ガラス基板１１上に、Ｃｒ等の金属材料を蒸
着して光遮光層１２を形成し、この光遮光層１２の上に
、さらにフォトレジスト層が塗布形成される． 次に、第２図（２）に示すように、マスク用ガラス基板
１１を回転しながら記録信号に対応して光強度変調され
たレーザ光ｒを上記フォトレジスト層１３上に集光して
スパイラル状に露光した後、現像して第２図（３）に示
すように，フォトレジスト層１３に所望のピットパター
ンを形成し、この後，第２図（４）に示すように、エッ
チング処理により光遮光層１２に上記ピットパターンを
形成し、第２図（５）に示すように，所望のビットパタ
ーンが形成されたマスク１４が作製される。
次に，光磁気ディスク用ガラス基板の作製に当っては、
第２図（６）に示すように、フォトレジスト層１５が塗
布されたガラス基板１６に上記マスク１４を密着した後
，紫外光（ＵＶ光）を全面に同時露光した後、フォトレ
ジスト層１５を現像処理し、第７図（７）に示すように
フォトレジスト層１５にピットパターンを形成する．こ
の後、ガラスエッチングにより第２図（８）に示すよう
にガラス基板１６にビットパターンを形成する．そして
、第２図（９）に示すようにフォトレジスト層を除去し
てピットパターンが形成された光磁気ディスク用ガラス
基板が作製される． 〔発明が解決しようとする課題〕 ところで、上記光磁気ディスク用ガラス基板の作製時に
使用されるマスク１４の光遮光層１２にビットパターン
を形成する際には、前述したように、記録信号に対応し
て第３図（ａ）のように光強度変調されたレーザ光によ
る露光が行なわれるが、このように、レーザ光をＯＮ−
ＯＦＦするだけの光強度変調方式での露光では、マスク
用ガラス基板１１の熱伝導率が小さいため、光遮光層１
２がレーザ光のＯＮ一〇ＦＦ間で加熱され、この熱の影
響により、第４図（ａ）に示すように、レーザ光がＯＮ
となった所（光の入射する所）で細く、レーザ光がＯＦ
Ｆとなった所で太い所謂″涙形状″のピットが形成され
てしまうという問題が生じる．そこで，これを第４図（
ｂ）に示すような適正な形状のピットに整形する方法と
して、入射されるレーザ光の強度変調を第３図（ｂ）に
示すようにＯＮ時（入射時）とＯＦＦ時（切る時）との
間で変化させる方法が行なわれるが，この方法の場合、
レーザ光の強度を高速に且つ精密に制御する必要がある
ため、多様な大きさのピットを適正なピットに補正する
ためには、ピット毎にレーザーパルスの形状を変える必
要があり、露光装置が非常に大掛かりな装置となってし
まい好ましくない．本発明は上記事情に鑑みてなされた
ものであって、露光器側のレーザ光の制御が単なるＯＮ
−ＯＦＦ制御であっても、適正なビット形状を得ること
ができる情報記録媒体製造用マスクを提供することを目
的とする． 〔課題を解決するための手段〕 上記目的を達成するため、本発明では、光磁気ディスク
等の情報記録媒体のガラス基板にマスク露光法によって
所定の凹凸パターンを形成する際に用いられるマスクで
あって透明性基板上にパターン形成用の光遮光層を形成
してなる情報記録媒体製造用マスクにおいて，上記透明
性基板と上記光遮光層の間に透明な熱伝導層を設けたこ
とを特徴とする． 〔作 用〕 本発明によれば，ガラス基板と光遮光層の間に透明な熱
伝導層を設けたことにより，露光光によって光遮光層が
加熱された場合にもこの熱が熱伝導層によって拡散され
るため、局所的な加熱が防止され、フォトレジスト層へ
の熱の影響を排織することができる． 〔実 施 例〕 以下、本発明による情報記録媒体製造用マスクについて
詳細に説明する． 前述した従来の情報記録媒体製造用マスクにおいては、
マスク用ガラス基板状に直接Ｃｒ等の光遮光層が形成さ
れていたため、レーザ光照射時に、この光強度の強い光
が光遮光屡に吸収されて熱となり、この熱のため，フォ
トレジスト層の感度が露光開始時と終了時とで変化して
しまいピット形状が″涙形状″となってしまうという問
題が発生した． そこで、本発明では、上記熱の作用を除去するため、ガ
ラス基板と光遮光層の間に透明な熱伝導層を設ける． ここで、第１図（ｎ）は本発明の一実施例を示す情報記
録媒体製造用マスクの概略的断面構成図であって，この
マスクを形成するには、第１図（１）に示すように、透
明性のガラス基板１の上に透明性の熱伝導率の高い材料
からなる熱伝導層２を蒸着等によって形成し、この熱伝
導層２の上にＣｒ等からなる光遮光層３を形成した後、
光遮光層３の上にフォトレジスト層４を塗布形成したも
のに、レーザ光によってビットパターンを露光し、現像
，エッチングの工程を経て第１図（ＩＩ）に示すように
ビットパターンが形成された情報記録媒体製造用マスク
が形成される． このように光遮光層３とガラス基板１との間に光伝導層
２を設けた場合には、レーザ光による露光時に、光遮光
層３で発生する熱はこの熱伝導層２を通って直ちに拡散
されるため、光遮光層３の加熱が防止され、フォトレジ
スト層４への熱の影響を排除することができ、フォトレ
ジスト層４の光感度をレーザ光のＯＮ一〇ＦＦ間でほぼ
一定に保ことかできる． したがって、本発明による情報記録媒体製造用マスクで
は、露光器側のレーザ光の制御が単なるＯＮ−ＯＦＦ制
御であっても、第４図（ｂ）に示すような適正なピット
形状を得ることができる。
第２図（６）に示すように、フォトレジスト層１５が塗
布されたガラス基板１６に上記マスク１４を密着した後
，紫外光（ＵＶ光）を全面に同時露光した後、フォトレ
ジスト層１５を現像処理し、第７図（７）に示すように
フォトレジスト層１５にピットパターンを形成する．こ
の後、ガラスエッチングにより第２図（８）に示すよう
にガラス基板１６にビットパターンを形成する．そして
、第２図（９）に示すようにフォトレジスト層を除去し
てピットパターンが形成された光磁気ディスク用ガラス
基板が作製される． 〔発明が解決しようとする課題〕 ところで、上記光磁気ディスク用ガラス基板の作製時に
使用されるマスク１４の光遮光層１２にビットパターン
を形成する際には、前述したように、記録信号に対応し
て第３図（ａ）のように光強度変調されたレーザ光によ
る露光が行なわれるが、このように、レーザ光をＯＮ−
ＯＦＦするだけの光強度変調方式での露光では、マスク
用ガラス基板１１の熱伝導率が小さいため、光遮光層１
２がレーザ光のＯＮ一〇ＦＦ間で加熱され、この熱の影
響により、第４図（ａ）に示すように、レーザ光がＯＮ
となった所（光の入射する所）で細く、レーザ光がＯＦ
Ｆとなった所で太い所謂″涙形状″のピットが形成され
てしまうという問題が生じる．そこで，これを第４図（
ｂ）に示すような適正な形状のピットに整形する方法と
して、入射されるレーザ光の強度変調を第３図（ｂ）に
示すようにＯＮ時（入射時）とＯＦＦ時（切る時）との
間で変化させる方法が行なわれるが，この方法の場合、
レーザ光の強度を高速に且つ精密に制御する必要がある
ため、多様な大きさのピットを適正なピットに補正する
ためには、ピット毎にレーザーパルスの形状を変える必
要があり、露光装置が非常に大掛かりな装置となってし
まい好ましくない．本発明は上記事情に鑑みてなされた
ものであって、露光器側のレーザ光の制御が単なるＯＮ
−ＯＦＦ制御であっても、適正なビット形状を得ること
ができる情報記録媒体製造用マスクを提供することを目
的とする． 〔課題を解決するための手段〕 上記目的を達成するため、本発明では、光磁気ディスク
等の情報記録媒体のガラス基板にマスク露光法によって
所定の凹凸パターンを形成する際に用いられるマスクで
あって透明性基板上にパターン形成用の光遮光層を形成
してなる情報記録媒体製造用マスクにおいて，上記透明
性基板と上記光遮光層の間に透明な熱伝導層を設けたこ
とを特徴とする． 〔作 用〕 本発明によれば，ガラス基板と光遮光層の間に透明な熱
伝導層を設けたことにより，露光光によって光遮光層が
加熱された場合にもこの熱が熱伝導層によって拡散され
るため、局所的な加熱が防止され、フォトレジスト層へ
の熱の影響を排織することができる． 〔実 施 例〕 以下、本発明による情報記録媒体製造用マスクについて
詳細に説明する． 前述した従来の情報記録媒体製造用マスクにおいては、
マスク用ガラス基板状に直接Ｃｒ等の光遮光層が形成さ
れていたため、レーザ光照射時に、この光強度の強い光
が光遮光屡に吸収されて熱となり、この熱のため，フォ
トレジスト層の感度が露光開始時と終了時とで変化して
しまいピット形状が″涙形状″となってしまうという問
題が発生した． そこで、本発明では、上記熱の作用を除去するため、ガ
ラス基板と光遮光層の間に透明な熱伝導層を設ける． ここで、第１図（ｎ）は本発明の一実施例を示す情報記
録媒体製造用マスクの概略的断面構成図であって，この
マスクを形成するには、第１図（１）に示すように、透
明性のガラス基板１の上に透明性の熱伝導率の高い材料
からなる熱伝導層２を蒸着等によって形成し、この熱伝
導層２の上にＣｒ等からなる光遮光層３を形成した後、
光遮光層３の上にフォトレジスト層４を塗布形成したも
のに、レーザ光によってビットパターンを露光し、現像
，エッチングの工程を経て第１図（ＩＩ）に示すように
ビットパターンが形成された情報記録媒体製造用マスク
が形成される． このように光遮光層３とガラス基板１との間に光伝導層
２を設けた場合には、レーザ光による露光時に、光遮光
層３で発生する熱はこの熱伝導層２を通って直ちに拡散
されるため、光遮光層３の加熱が防止され、フォトレジ
スト層４への熱の影響を排除することができ、フォトレ
ジスト層４の光感度をレーザ光のＯＮ一〇ＦＦ間でほぼ
一定に保ことかできる． したがって、本発明による情報記録媒体製造用マスクで
は、露光器側のレーザ光の制御が単なるＯＮ−ＯＦＦ制
御であっても、第４図（ｂ）に示すような適正なピット
形状を得ることができる。
尚、熱伝導層２の材料としては、ガラスと比較して熱伝
導率がはるかに大きい、石英、サファイヤ（Ａｎ ＊
０ ３ ）、ダイヤモンド薄膜等の透明性材料が適当で
ある．特に、ダイヤモンドの場合，ガラスに比べて９０
０倍以上の熱伝導率を持つので，非常に薄い膜でも十分
な熱拡散効果が得られる。したがって、光遮光層３の形
成前に，例えば、メタンガスをいれた蒸着槽で化学的蒸
着（ＣＶＤ）を行ない，ガラス基板上に１００〜数１０
０人のダイヤモンド薄膜を予め形成しておけば、″涙形
状″のピットの発生が完全に防止される。
導率がはるかに大きい、石英、サファイヤ（Ａｎ ＊
０ ３ ）、ダイヤモンド薄膜等の透明性材料が適当で
ある．特に、ダイヤモンドの場合，ガラスに比べて９０
０倍以上の熱伝導率を持つので，非常に薄い膜でも十分
な熱拡散効果が得られる。したがって、光遮光層３の形
成前に，例えば、メタンガスをいれた蒸着槽で化学的蒸
着（ＣＶＤ）を行ない，ガラス基板上に１００〜数１０
０人のダイヤモンド薄膜を予め形成しておけば、″涙形
状″のピットの発生が完全に防止される。
以上説明したように、本発明では、マスクの透明性基板
と光遮光層との間に新たに熱伝導層を設けたことにより
，レーザ光の光強度変調信号を整形することなく、適正
なピット形状を得ることができる． また、上記熱伝導層の形成は蒸着法等により容易に行な
えるため、製造コストもかからず安価に製造できる． また，熱伝導層としてダイヤモンド薄膜等の高熱伝導率
材料を用いることにより、非常に薄い膜でも十分な熱拡
散効果が得られ、″涙形状”のピットの発生が完全に防
止される．
と光遮光層との間に新たに熱伝導層を設けたことにより
，レーザ光の光強度変調信号を整形することなく、適正
なピット形状を得ることができる． また、上記熱伝導層の形成は蒸着法等により容易に行な
えるため、製造コストもかからず安価に製造できる． また，熱伝導層としてダイヤモンド薄膜等の高熱伝導率
材料を用いることにより、非常に薄い膜でも十分な熱拡
散効果が得られ、″涙形状”のピットの発生が完全に防
止される．
第１図（１）は本発明による情報記録媒体製造用マスク
の露光処理前の状態を示す概略的断面構成図、第１図（
ＩＩ）は本発明による情報記録媒体製造用マスクの完成
時の状態を示す概略的断面構成図、第２図は従来の情報
記録媒体製造用マスクを用いた光磁気ディスク用ガラス
基板の製造工程を示す図、第３図（ａ），（ｂ）はマス
ク作製時に露光されるレーザ光の光強度変調信号波形の
説明図、第４図はマスクの光遮光層に形成されるビット
形状の説明図であって、同図（ａ）は涙形状のビットを
示す図、同図（ｂ）は適正形状のピットを示す図である
． １・・・・透明性基板、２・・・・熱伝導層、３・・・
・光遮光層，４・・・・フォトレジスト溜、５・・・・
情報記録媒体製造用マスク． κ７で−し イ Ｃ＝ク（■） ｃ丁） 処 ？ ■ ＜ｑ） φ ／７ 処 ■ Ｃ） ０ ０ ０ Ｃ＝Ｄ Ｃ＝Ｄ
の露光処理前の状態を示す概略的断面構成図、第１図（
ＩＩ）は本発明による情報記録媒体製造用マスクの完成
時の状態を示す概略的断面構成図、第２図は従来の情報
記録媒体製造用マスクを用いた光磁気ディスク用ガラス
基板の製造工程を示す図、第３図（ａ），（ｂ）はマス
ク作製時に露光されるレーザ光の光強度変調信号波形の
説明図、第４図はマスクの光遮光層に形成されるビット
形状の説明図であって、同図（ａ）は涙形状のビットを
示す図、同図（ｂ）は適正形状のピットを示す図である
． １・・・・透明性基板、２・・・・熱伝導層、３・・・
・光遮光層，４・・・・フォトレジスト溜、５・・・・
情報記録媒体製造用マスク． κ７で−し イ Ｃ＝ク（■） ｃ丁） 処 ？ ■ ＜ｑ） φ ／７ 処 ■ Ｃ） ０ ０ ０ Ｃ＝Ｄ Ｃ＝Ｄ
Claims (1)
- 光磁気ディスク等の情報記録媒体のガラス基板にマスク
露光法によって所定の凹凸パターンを形成する際に用い
られるマスクであって透明性基板上にパターン形成用の
光遮光層を形成してなる情報記録媒体製造用マスクにお
いて、上記透明性基板と上記光遮光層の間に透明な熱伝
導層を設けたことを特徴とする情報記録媒体製造用マス
ク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5590689A JPH02235229A (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | 情報記録媒体製造用マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5590689A JPH02235229A (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | 情報記録媒体製造用マスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02235229A true JPH02235229A (ja) | 1990-09-18 |
Family
ID=13012157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5590689A Pending JPH02235229A (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | 情報記録媒体製造用マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02235229A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5633101A (en) * | 1993-09-14 | 1997-05-27 | Nikon Corporation | Mask and projection exposure method |
| JP2008192281A (ja) * | 2007-01-12 | 2008-08-21 | Ricoh Co Ltd | パターン及びその形成方法 |
-
1989
- 1989-03-08 JP JP5590689A patent/JPH02235229A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5633101A (en) * | 1993-09-14 | 1997-05-27 | Nikon Corporation | Mask and projection exposure method |
| JP2008192281A (ja) * | 2007-01-12 | 2008-08-21 | Ricoh Co Ltd | パターン及びその形成方法 |
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