JPH01261341A

JPH01261341A - 光学活性アルコールの製造法

Info

Publication number: JPH01261341A
Application number: JP63087268A
Authority: JP
Inventors: Yoji Tachibana; 陽二橘; Shinji Yokoyama; 信二横山
Original assignee: Nisshin Seifun Group Inc
Current assignee: Nisshin Seifun Group Inc
Priority date: 1988-04-11
Filing date: 1988-04-11
Publication date: 1989-10-18
Anticipated expiration: 2011-07-24
Also published as: JP2517743B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、光学活性アルコールの製造法に関する。さら
に詳しくは、本発明は、（Ｓ）−２，３−ジメチル−１
，３−ブタンジオールの製造法に関する。

本発明により得られる上記（Ｓ）−２，３−ジメチル−
１，３−ブタンジオールは、２５−ヒドロキシビタミン
Ｄ２または１α１２５−ジヒドロキシビタミンＤ２の製
造における中間体として有用である。

［従来の技術］２５−ヒドロキシビタミンＤ２及び１α、２５−ジヒド
ロキシビタミンＤ２は、毒性が低く骨組淫症、腫瘍細胞
増殖抑制剤等の医薬品として白°用である。

しかし、−船釣に、活性型ビタミンＤ２は、その側鎖に
二重結合やキラルなメチル基を有するので、活性型ビタ
ミンＤ３に比べて合成が困難である。特に、これら２５
−ヒドロキシビタミンＤ２及び１α、２５−ジヒドロキ
シビタミンＤ２のように側鎖に水酸基を有する誘導体は
、天然界に適当な中間体となりうるステロイドが存在し
ないので、その合成はさらに困難である。

従来の方法としては、Ｃ−２２アルデヒドとケトン誘導
体を結合し、ついでラセミ体の２５−ヒドロキシビタミ
ンＤ２及び１，２５−ジヒドロキシビタミンＤ２に導い
た後、光学分割を行い、１．２５−ジヒドロキシビタミ
ンＤ２を得る方法がある（Ｈ，ｐ、Ｄｅｌｕｃａらによ
るｒＢｌｏｏｒｇ、　Ｃｈｅｍ、Ｊ　、　１３゜１５８
、　　（Ｉ９８５））。

しかしこの方法にはラセミ体を分割するという困難な工
程があり、しかも１β−ＯＨ誘導体やトランス−１，２
５−ジヒドロキシビタミンＤ２などの副生成物を同時に
生成し、その分離が非常に困難であるという欠点がある
。

また、山田らは（ｒＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ
ｅｒＪ１９８４、３３４７）　２５−ヒドロキシビタミ
ンビタミンＤ２の合成のために、中間として側鎖部のア
ルコールを立体選択的に合成している。

しかし、山田らの方法はアリルアルコールを原料に用い
ているので、生成物は完全な立体配置を有しておらず、
望ましい方法とは言えない。２５−ヒドロキシビタミン
・Ｄ２．１．２５−ジヒドロキシビタミンＤ２の合成に
は、完全に立体選択的な側鎖の合成が不可欠である。

そこで本発明者らは、従来の方法と比較して、容易であ
って、しかも完全に光学活性の側鎖アルコールを合成す
る方法を提供すべく研究を重ね、本発明を充成させた。

［問題点を解決するための手段］本発明の上記目的は、（Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−メ
チル−プロピオン酸メチルエステルを出発原料とし、そ
のエーテル誘導体をグリニヤール試薬と反応させ、次い
で保護基を脱離して２．３−ジメチル−１，３−ブタン
ジオールを製造する方法によって達成される。この２，
３−ジメチル−１，３−ブタンジオールは、完全に光学
活性な側鎖アルコールであり、２５−ヒドロキシビタミ
ンＤ２及び１α、２５−ジヒドロキシビタミンＤ２の製
造のための中間体として有用である。

本発明の製造法を以下のスキームに示す。

（以下余白）スキームＩゾ３本発明の製造法において出発原料として用いられる（Ｓ
）−３−ヒドロキシ−２−メチルエステルは、市販品で
あり、商業的入手が容易な化合物である。

この化合物のヒドロキシル基は、保護しておく必要があ
る。保護しておかないと、次の工程においてグリニヤー
ル反応によって得られる生成物がジオールとなってしま
い、単離が非常に困難となるからである。保護基は、グ
リニヤール試薬に対して安定で、脂溶性が高く、また必
要な場合には容易に脱離されうるちのであることが望ま
しい。

従って、保護基はエステル基は不適当であり、エーテル
保護基とすることが望ましい。エーテル保護基とするた
めには、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ジフェニルメチ
ルシリル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メ
トキシメチル基、１−エトキシエチル基等が望ましく、
特にｔ−ブチルジメチルシリル基が特に望ましい。しか
しながらこれらに限定されるものではなく、上記要件を
具備する基であれば好適に用いることができる。

上記出発物質（Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−メチル−プ
ロピオン酸メチルエステルは、適当な有機溶媒中におい
て、−５〜５０℃の温度範囲で、塩基又は酸性条件下に
おいて、対応する各々のハライド等と反応させることに
よって、容易にヒドロキシル基をエーテル保護すること
ができる。

このようにして得られた式（Ｉ）のエーテル誘導体は、
式（ＩＩ）Ｍ　ｅ　Ｍ　ｇ　Ｘ　　　　　　　　　　　（ＩＩ）〔
式中Ｘは、ハロゲン原子を表わす〕で示されるグリニヤール試薬と反応させて、式（Ｉ［［
）の化合物を生成させる。

このグリニヤール試薬は、エーテルまたはエーテル系溶
媒、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、メチルエ
チルエーテル中で、室温から溶媒の還流温度までの温°
度反応において、式（Ｉ）の化合物と、その等モル量か
ら過剰量の量で反応させることによって、容易に式（ｍ
）の化合物を得ることができる。

次にこの生成した化合物（Ｉ［Ｉ）のエーテル保護基を
脱保護する。

この脱保護反応は、式（ＩＩＩ）中のＲが示す基によっ
て方法が異なり、Ｒが示す各々の基の種類に応じた適当
な方法を用いればよい。

例えば、エーテル保護基がシリル基の場合はテトラブチ
ルアンモニウムフルオライド等のフッ素化試薬で、ベン
ジル基の場合は水素添加により、又テトラヒドロピラニ
ル基の場合は酸性条件下で常法により脱保護することが
できる。

この様にして合成された２、３−ジメチル−１，３−ブ
タンジオール（ＩＩ）は、公知の方法により対応するス
ルホン誘導体に変換することができ、さらにこのスルホ
ン誘導体はＣ−２２アルデヒドと縮合抜脱スルホンを行
うことにより、２５−ヒドロキシビタミンＤ２及び１α
、２５−ジヒドロキシビタミンＤ２のような活性型Ｄ２
を合成することができる（例えばＴｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ　Ｌｅｔｔ、、　１９８４．３３４７）。

［発明の効果コ以上説明したように、本発明によれば、２５−ヒドロキ
シビタミンＤ２及び１α、２５−ジヒドロキシビタミン
ｐ２の製造のための中間体として有用な光学活性アルコ
ールの製造法が提供される。

本発明の製造法は、従来の方法と比較して容易であり、
工程数も少ない上、完全に光学活性の側鎖アルコールを
製造することができる。

以下、本発明を実施例及び参考例により、詳しく説明す
るが、これらは本発明を限定するものではない。

実施例　１式（Ｉ）の化合物の製造Ｓ　−（＋）　−３−ヒドロキー２−メチル−プロピオ
ン酸メチルエステル（シグマ社）　２０ｇ（Ｉ８９ｍｍ
ｏｌｅ）と、ｔ−ブチルジメチルシリルクロライド３０
ｇ（２００ｍｍｏｌｅ）を乾燥ＤＭＦ　１００ｍｌ中に
溶解し、水冷下イミダゾール２７．２ｇ　（４００ｍａ
＋ｏｌｅ）を加え２時間撹拌した。反応液を氷水中に注
ぎエーテルで２回抽出し、エーテル層を３回水洗、飽和
食塩水で洗浄しＮａ２ＳＯ４で乾燥さぜ減圧下に三−チ
ルを留去した。粗生成物をカラムクロマトグラフィー（
Ｓｉｌｉｃａ　ｇｅｔ、　１％−ＥｔＯＡｃ−Ｈｅｘａ
ｎｃ）により精製し、Ｓ−３−ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−２−メチループロビオン酸メチルエステル３
４．４ｇ　（収率８７．５％）を得た。

ＮＭＲδ（ＣＤ０ｇ３）３．６１〜３．８１　（２Ｈ，Ｉｌ、３−メチン）３．
８７　　　　（３Ｈ１ｓ、−０ＣＨ３）２．８４　　　
　（ＩＨ，ｍ、２−メチン）１．１４　　　　（３）１
．ｄ、Ｊ−７，１Ｈｚ、２−メチル）０．８３　　　　
（９）１．ｓ、ｔ−ブチル）０．０４　　　　（６Ｈ，
Ｓ、５ｌ−ＣＨ３）（以下余白）実施例　２式（ｍ）の化合物の製造＋Ｓ　ｔｏ　　　　手乾燥したフラスコにＭｇ末１３．６　ｇと無水エーテル
１５０ｍ１を入れ、撹拌しながらＭｅ１８０ｇと無水エ
ーテル１００ｍ１の混合物をおだやかに還流が続くよう
に滴下した。このＭｅＭｇ　ＩのＥｔ２０溶液にＳ−３
−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−メチル−プロ
ピオン酸メチルエステル２０ｇと無水エーテル３０ｍ１
の混合物を１時間かけて滴下し、さらに２時間エーテル
還流下で反応させた。反応フラスコを冷却しながら飽和
ＮＩ（４ＣＮ水溶液を加え反応を停止させ、エーテル層
を分離、水層をさらにエーテル抽出しエーテル層を合わ
せ水洗、飽和食塩水で洗浄後、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥しエ
ーテルを留去し残留物をカラムクロマトグラフィー（Ｓ
ｉｌｉｃａ　ｇｅｔ　２％　ＥｔＯＡｃ−Ｈｅｘａｎｅ
）で精製した。

Ｓ−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２，３−ジ
メチル−２−ブタノール１７．７ｇ　（収率８８．５％
）を得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒδ（ＣＤＣＮ　３）３．５９〜３．８１　（２Ｈ，ｍ、４−メチレン）１．
８０　　　　（ＩＭ、ｍ、３−メチン）１．２１．１．
１５　（６Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ、ｌ−メチル）０．９０　
　　　（９Ｈ，ｓ、ｔ−ブチル）０．８４　　　　（３
Ｈ，ｄ、Ｊ＝７．１Ｈｚ、３−メチル）０．０９　　　
　（８Ｈ，ｓ、Ｓｉ−Ｍｅ）（以下余白）実施例　３式（ＩＶ）の化合物の製造 −ＨＯ手実施例２で得たシリルアルコール１４ｇと乾燥テトラヒ
ドロフラン２０ｍ１の混合物に１　、１　Ｍテトラブチ
ルアンモニウムフルオライド６０ｍ１を滴下し、室温下
３０分反応させた。１ｍｌの水を加え反応を停止させさ
らにベンゼンを加え減圧下溶媒と過剰の水分を除去した
。残留物をカラムクロマトグラフィー　（Ｓｉｌｉｃａ
　ｇｅｌ、　４０％ＥｔＯＡｃ−Ｈｅｘａｎｅ）にて精
製してＳ−２，３−ジメチル−１，３−ブタンジオール
７．５ｇ　（定量的）を得た。

無色液体（α）　、　−＋１．３７”　　（ｃ−８，Ｃ
ＨＣｌ）　３）ＮＭＲδ（ＣＤ０ｇ３）３．７２　　　　（２Ｈ，ｍ、ｌ−メチレン）２．８５
　　　　　　（２Ｈ，ｓ、−０Ｈ）１．８２　　　　（
ＩＨ，ｍ、２−メチン）１．２７．１．２０　（８Ｈ，
ｅａｃｈ　ｓ、３−メチル）０．８６　　　　（３Ｈ，
ｄ、Ｊ＝７．１Ｈｚ、２−メチル）Ｍａｓｓ　　　　　
１１９（Ｍ”＋１，２０）　、１０４（９０）、１０２
（９３）　、８５（９ｇ）、８３（８０）、７０　　（
５０）　、５９（ｔｏｏ）実施例　４式（Ｉ）の化合物の製造５−３−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチルエ
ステル５ｇを乾燥ジクロロメタンに溶解し、２．３−ジ
ヒドロピラン５．３ｇとピリジニウムｐ−）ルエンスル
ホネート５００ｍｇを加え室温で５時間反応させた。反
応液を水、飽和食塩水で洗浄し、Ｎ　ａ　２　Ｓ　Ｏｔ
、で乾燥後、減圧下で溶媒を除去し２−メチル−４−テ
トラヒドロピラニルオキシ−プロピオン酸メチルエステ
ル８．６ｇ　（定量的）を得た。このものは精製するこ
となく次の反応に用いた。

ＮＭＲδ（ＣＤＣｆＩ３）４．７　　　　　（ＩＨ，ｍ、Ｔ）ＩＰ、２°−Ｈ）３
．９　　　　　（ＩＨ，ＩＩｌ、ＴＨＰ、６°−Ｈ）３
．８〜３．８　　（２Ｈ，ｍ、、３−メチレン）３．８
５　　　　（３Ｈ１ｓ、−０ＣＨａ　）２．８　　　　
　（ＩＨ，ｎ＋、２−メチレン）１．５〜２．０　　（
８Ｈ，ｍ、ＴＨＰ、メチレン）１．１４　　　　（３Ｈ
，ｄ、Ｊ−７，０Ｈｚ、２−メチル）（以下余白）実施例　５式（ＩＩＩ）の化合物の合成乾燥したフラスコにＭｇ末５．８ｇと無水エーテル　６
０ｍ１を入れ撹拌しながら臭化メチル２７ｇと無水エー
テル３０ｍ１の混合物をおだやかに還流が続くように滴
下した。このＣＨｓ　Ｍ　ｇ　Ｂ　ｒの溶液に実施例４
で得たテトラヒドロピラニルエーテル体８ｇと無水エー
テル１０ｍ１の混合物を室温で３０分かけて滴下してさ
らに２時間還流させた。

実施例２と同様に反応液を処理し、シリカゲルでカラム
クロマトグラフィーで精製し、Ｓ−２，３−ジメチル−
４−テトラヒドロピラニルオキシ−２−ブタノール８．
８ｇ　（収率８５％）を得た。

ＮＭＲδ（ＣＤＣＪＩ）　３）４．７５　　　　（ＩＨ，ｍ、ＴＨＰ、２’−Ｈ）３．
９〜３．７　　（２Ｈ，ｍ、ＴＨＰ、６°−Ｈ）３．８
　　　　　（ＩＨ，ｂｒ、−０Ｈ）３．４〜３．６　　
（２Ｈ，ｉ、４−メチレン）１．５〜２．０　　（７）
１．ｎ＋、ＴＨＰ、メチレン。

３−メチン）１．２１．１．１９　（６Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ、　Ｌ−メ
チル）０．８　　　　　（３１，ｄ、Ｊ−７，０Ｈｚ、
３−メチル）実施例　６式（ＩＶ）の化合物の合成２．３−ジメチル−４−テトラヒド口ピラニルオキシ−
２−ブタノール６．５ｇをエタノール５０ｍ１に溶解し
、ピリジニウムパラトルエンスルホネート４００＋ｎｇ
を加え、５５℃で４時間反応させた。

ＥｔＯＨを減圧下で留去した残留物を少量のクロロホル
ムに溶解し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製して
２．３−ジメチル−１，３−ブタンジオールＬｅｇ　（
９５％）を得た。

〔α）　　＝＋１．３５　（ｃ＝５．　ＣＨＣＲ３）実
施例　７式（Ｉ）の化合物の製造（φ−Ｃ６Ｈ５ＣＨ２）Ｓ−３−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル５
ｇをＤＭＦ３０ｍｌに溶解し臭化ベンジル１６ｇ：と酸
化銀７．８ｇを加えＮ２気流下、暗所室温で２日間反応
させた。生じた沈殿を手刷し、エーテルを加え水で３回
飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させた後、減
圧下において溶媒を留去し、残留物をシリカゲルクロマ
トグラフィーにて精製し５−３−ベンジルオキシ−２−
メチルプロピオン酸メチル５．９ｇ　（８７％）を得た
。

Ｎ　ＭＲδ（ＣＤ（Ｊｌ　３）７．３４　　　　（５Ｈ，＋ａ、フェニル）４．５１　
　　　（２Ｈ，ｓ、ベンジル）３．５〜３．８　　（２
Ｈ劃、３−メチレン）３．７　　　　　（３Ｈ，ｓ、−
ＯＭｃ）２．８　　　　　（ＩＨ，ｍ、２−メチン）１
．２　　　　　（３Ｈ，ｄ、Ｊ”７．０Ｈｚ、２−メチ
ル）（以下余白）実施例　８式（ＩＩＩ）の化合物の製造Ｍｇ末３．９ｇを乾いたフラスコに入れ無水エーテル４
０ｍ１を加え撹拌しながらＩＭ塩化メチル無水エーテル
溶液１９０ｍ１をおだやかにエーテル還流が続くように
滴下した。このＭｅＭｇＣΩの溶液に５−３−ベンジル
オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル５．５ｇと無水
エーテル７ｍｌの混合物をゆっくりと滴下しさらに２時
間還流反応させた。

実施例２に従って反応液を処理しシリカゲルクロマトグ
ラフィーで精製し５−４−ベンジルオキシ−２，３−ジ
メチル−２−ブタノール４．８ｇ　（収率８８％）を得
た。

ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ２３）７．３４　　　　（５Ｈ，ｍ、フェニル）４．５　　　
　　（２Ｈ，ｓ、ベンジル）３．６９　　　　（Ｉ）１
．ｂｒ、−０Ｈ）３．４８〜３．８　　（２Ｈ，ｍ、４
−メチレン）１．９３　　　　（ＩＨ劃、３−メチン）
１．１２．１．２０　（６８，ｅａｃｈ　Ｓ＋　１−メ
チレン）０．８８　　　　（３１１，ｄ、Ｊ＝７．１Ｉ
ｌｚ、３−メチル）実施例　９式（ＩＶ）の化合物の製造Ｈ〇三実施例８で得たベンジルブタノール４．５ｇ−をＥ　ｔ
　ＯＨ３Ｏｍ１に溶解し５％Ｐｄ　　−Ｃ４５０ｆｆ１
ｇを加え、３時間常圧水素添加した。反応液中のＰｄ−
Ｃをセライトを通して炉別し減圧下で溶媒を留去して、
ジオール２６Ｂｇを得た。

〔α〕２°−＋１．３１（ｃ−６，ＣＨ（Ｊｌ　　）参
考例　ＩＨＯ至ＴｓＯ巨実施例３（又は６．９）で得たジオール６ｇを乾燥ピリ
ジン１５ｍ１に溶解し、水冷下でＰ−トルエンスルホニ
ルクロライド１２．３ｇを加え、２時間反応させた。氷
水中に反応液を注ぎエーテル抽出、エーテル層を希ＨＣ
Ｉ、希Ｎ　ａ　ＨＣＯａ水、水、飽和食塩水で洗浄し、
Ｎ　ａ　２　Ｓ　Ｏ４で乾燥後エーテルを留去した。残
留物をカラムクロマトグラフィー　（Ｓｉｌｉｃａ　ｇ
ｅｔ、　２０％ＥｔＯ）Ｉ−Ｈｅｘａｎｅ）にて精製し
、５−３−ヒドロキシ−２，３−ジメチル−１−ブチル
パラトルエンスルホネート１２．７ｇ　ＣＨ黄色液体）
（収率９６．８％）を得た。

ＮＭＲδ（ＣＤＣΩ３）７．８０　　　　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ−１！、３Ｈｚ、芳
香族）７．３５　　　　（２Ｈ，’ｄ、Ｊ−８４Ｈｚ、
芳香族）４．２３　　　　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝９．５
１１ｚ、Ｊ−４，４１１ｚ。

■−メチレン）３．９２　　　　　（Ｉ１１，ｄｄ、Ｊ＝９．５１１ｚ
、Ｊ−９，８１１ｚ。

１−メチル）２．４５　　　　　（３１１，ｓ、４’−Ｍｅ　（）シ
ル））１．８０　　　　（ＬＨ，ｍ、２−メチン）１．
５４　　　　（ＬＨ，ｓ、−０Ｈ）１．１９．１．１２
　（８Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ＋４−メチル）０．９６　　　
　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７．１Ｈｚ、２−メチル）（以下余
白）参考例　２ＴｓＯ： φＳ　　　：乾燥Ｄ　Ｍ　Ｆ　Ｈｍｌ　、カリウム　ｔ−ブトキシド
４．３ｇ、、チオフェノール４．３ｇの混合物にＮ２気
流下室温で参考例１で得たトシレートｌｏｇを加え４時
間反応させた。反応液をベンゼンに加え、水で３回飽和
食塩水で洗浄、Ｎ　ａ　２　Ｓ　Ｏ４で乾燥させ、減圧
下でベンゼンを留去し残留物をカラムクロマトグラフィ
ー　（Ｓｉ１１ｃａ　ｇｅｌ、　１０％ＥｔＯＨ−ヘキ
サン）にて精製し、Ｓ−２，３−ジメチル−４−フェニ
ルチオ−２−ブタノール７．３．（淡黄色液体）（収率
９５％）淡黄色液体）を得た。

ＮＭＲδ（ＣＤ０ｇ３）７．１５〜７．４８　（５Ｈ，ｍ、フェニル）３．４０
　　　　　　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝ｌＯ，１，２，９Ｈｚ
。

４−メチレン）２．５５　　　　　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ−ＬＱ、１．１２
．７Ｈｚ。

４−メチレン）１．８０　　　　（ＬＨ，ｍ、３−メチン）１．５４　
　　　　（’１）１．ｓ、０Ｈ）１．１８．１．２３　
（８Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ、Ｌ−メチル）０．９Ｂ　　　　
（３８，ｄ、Ｊ−８，８）１ｚ、３−メチル）参考例　
３無水タングステン酸３６ｎｇに水１２ｍ１を加え５０％
ＮａＯＨでｐＨ１１として溶解し、さらに酢酸を滴下し
、ｐＨ５，８とした溶液に参考例２で得たチオフェニル
体６．６ｇとエタノール１０ｍ１の混合物を加え、６０
℃に加温した。この混合物に３０％Ｈ２Ｏ２を２ｍｌを
滴下し１０分間撹拌した。さらに７５℃に加熱し２ｍｌ
の３０％Ｈ２０゜を加え３０分反応させた。冷却後過剰
のＨ２Ｏ２をチオ硫酸ナトリウムで分解し、ベンゼンで
抽出し、水洗し、飽和食塩水で洗浄し、Ｎ　ａ　２　Ｓ
　Ｏ４で乾燥した後、ベンゼンを減圧上濃縮しカラムク
ロマトグラフィー　（Ｓｉｌｉｃａ　ｇｅｌ　ＬＯ−２
０％ＥｔＯＡｃ−ヘキサン）で精製しＳ−２，３−ジメ
チル−４−フェニルスルホニル−２−ブタノール８ｇ（
淡黄色液体）を定量的に得た。

〔α）　ｏ　＝−２４，７５”　　（ｃ−１，５、ＣＨ
ＣΩ３）Ｎ　Ｆｖｌ　Ｒδ（ＣＤ０ｇ３）７．５７〜７．９８　（５Ｈ，ｍ、フェニル）３．４０
　　　　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−１３，７，２Ｈｚ。

４−メチレン）２．８　　　　　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ−１３，７，９Ｈ２
゜４〜メチレン）２．１５　　　　（ＩＨ，ｍ、３−メチン）１．８０　
　　　　（ＩＨ，ｓ、０Ｈ）１．２３．１．０４　（８
Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ、１−メチル）１．０４　　　　（３
Ｈ，ｄ、Ｊ−７，１Ｈｚ、３−メチル）Ｍａｓｓ　　ｍ
／ｅ　　　２４２（Ｍ”　）、２２４参考例　４フェニルスルホニルアルコール７．４ｇを乾燥ＣＨ２Ｃ
１１２１００ｍ１に溶解し、ピリジニウムｐ−トルエン
スルホネート　７８０ＬＩ１ｇを加えジヒドロピラン３
．８０ｇを加え室温で一中夜反応させた。反応液を半飽
和食塩水で３回洗浄し、ＣＨ２ＣｆＩ２層をＮ　ａ　２
　Ｓ　Ｏ４で乾燥させ、減圧下において溶媒を留去した
。残留物をカラムクロマトグラフィー（Ｓｉｌｉｃａ　
ｇｅｌ　１０％ＥｔＯＡｃ−Ｈｅｘａｎｅ）にて精製し
、（３Ｓ）　−２，３−ジメチル−４−フェニルスルホ
ニル２−ブタノール　２−０−テトラヒドロピラニルエ
ーテル８．９ｇ　（９０％）（ジアステレオマー混合物
）を得た。

ＮＭＲδ（ＣＤ０ｇ３）７．５１〜７．９４　（５Ｈ１ＩＩｌ＋フエニル）４．
７３　　　　（ｌＨ，ｍ、ＴｔｔＰ、２’　−）１）３
．８２　　　　（ＩＨ，ｍ、ＴＨＰ、８’　−Ｈ）３．
６５　　　　（ＬＨ，ｍ、４−メチレン）３．４　　　
　　（ＬＨ，ｒＡ、ＴＨＰ、６’　−Ｈ）２．８８　　
　　（ＩＨ，ｍ、４−メチレン）２．１９　　　　（Ｉ
１１，ｍ、３−メチレン）１．３〜１．８　　（ａｌｌ
、ｍ、ＴＩＰ、メチレン）１．１９．１．１８　（３Ｈ
，ｐａｌｒ　ｏｆ　ｓ、２−メチル）１．１３　　　　
（３Ｈ，ｐａｌｒ　ｏｆ　ｄ、３−メチル）１．０６．
１．０４　（３Ｈ，ｐａｉｒ　ｏｆ’　ｓ、２−メチル
）手続補正書昭和６３年５月２３日特許庁長官　　小　川　邦　夫　　殿１、事件の表示事件との関係　特許出願人住所　東京都中央区日本橋小網町１９番１２号名称　日
清製粉株式会社４、代理人７、補正の内容 ■）第３頁下から第５行の「ラセミ体」を「ジアステレ
オマー混合物」と補正します。

２）同頁下から第３行の「光学分割」を「ジアステレオ
マー分割」と補正します。

３）第４頁第２行の「ラセミ体」を「ジアステレオマー
混合物」と補正します。

４）第６頁末行のｒ（Ｓ）−３−・・・・・エステル」
をｒ（Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオン
酸メチルエステル」と補正します。

５）第１Ｏ頁下かも第４〜３行のｒ（Ｓ）−（＋）−３
−・・・・・（シグマ社）」をｒ（Ｓ）−３−ヒドロキ
シ−２−メチル−プロピオン酸メチルエステル（シグマ
社）」と補正します。

６）第２４頁第１２行の「ｌ−メチル」を「ｌ−メチレ
ン」と補正します。

以　　上

Claims

【特許請求の範囲】式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）〔式中Ｒは、それが結合する酸素原子及び炭素原子と一
緒になってエーテル結合を形成する基を表す〕で示される（Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−メチル−プロ
ピオン酸メチルエステル誘導体と、式（II）ＣＨ＿３Ｍ
ｇＸ（II）〔式中Ｘはハロゲン原子を表わす〕で示されるグリニヤール試薬とを反応させて式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）〔式中、Ｒは前記定義の通りである〕で示される化合物を得、次いで式（III）の化合物のエ
ーテル保護基を脱保護することにより式（IV）▲数式、
化学式、表等があります▼（IV）で示される（Ｓ）−２，３−ジメチル−１，３−ブタン
ジオールを製造する方法。