JPH01178822A - 半導体形電磁流量計 - Google Patents
半導体形電磁流量計Info
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- JPH01178822A JPH01178822A JP199488A JP199488A JPH01178822A JP H01178822 A JPH01178822 A JP H01178822A JP 199488 A JP199488 A JP 199488A JP 199488 A JP199488 A JP 199488A JP H01178822 A JPH01178822 A JP H01178822A
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- Measuring Volume Flow (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は半導体形電磁流量計に関するものである。
更に詳述すれば、ソリッドステーl−形の電磁流量計に
関するものである。
関するものである。
〈従来の技術〉
第8図は従来より一般に使用されている従来例の構成説
明図である。
明図である。
図において、1は測定?L体の流れる流路を構成する測
定管である。11は測定管1に設けられた測定電極であ
る。2は励磁コイルである。
定管である。11は測定管1に設けられた測定電極であ
る。2は励磁コイルである。
以上の構成において、励磁コイル2に励磁電流が流され
、これにより発生した磁束の変動を測定電極11により
測定することにより測定流体の流量をa1定することが
出来る。
、これにより発生した磁束の変動を測定電極11により
測定することにより測定流体の流量をa1定することが
出来る。
〈発明が解決しようとする問題点〉
しかしながら、この様な装置においては、第9図に示す
ごとく、 (1)励磁コイル2はエナメル線等がらなり、この励磁
コイル2は容積が大きく、測定管1の測定流体の流れる
管路の直径か小さくなっても、ある程度の大きさが必要
で、流量計全体の大きさは小さくできず、測定管1の測
定流体の流れる管路の直径が小さくなるのに比例してコ
ストが低下しなり・ (2)同様に、測定電極や測定電極の支持機構ら、測定
管1の測定流木の流れる管路の直径が小さくなるのに比
例して、小さくならす、コストが低下しない。
ごとく、 (1)励磁コイル2はエナメル線等がらなり、この励磁
コイル2は容積が大きく、測定管1の測定流体の流れる
管路の直径か小さくなっても、ある程度の大きさが必要
で、流量計全体の大きさは小さくできず、測定管1の測
定流体の流れる管路の直径が小さくなるのに比例してコ
ストが低下しなり・ (2)同様に、測定電極や測定電極の支持機構ら、測定
管1の測定流木の流れる管路の直径が小さくなるのに比
例して、小さくならす、コストが低下しない。
本発明は、この問題点を解決するものである。
本発明の目的は、小形化、低価格、高信頼性の半導体形
@磁流世評を提供するにある。
@磁流世評を提供するにある。
く問題点を解決するための手段〉
この目的を達成するために、本発明は、励磁コイルと測
定電極とを具備する半導体形電磁流量計において、N形
まなはP形の一方の伝導形のシリコン半導本基板に他方
の伝導形の半導体よりなる測定電極が形成されてなり互
いに対向して配置されてなる2個の電極基板と、該電極
基板と共に測定流体が流れる流路を形成し表面上にエツ
チングによりアルミパターンの励磁コイルが形成されて
なる励磁コイル基板とを具備してなる半導体形電磁流量
計を構成したものである。
定電極とを具備する半導体形電磁流量計において、N形
まなはP形の一方の伝導形のシリコン半導本基板に他方
の伝導形の半導体よりなる測定電極が形成されてなり互
いに対向して配置されてなる2個の電極基板と、該電極
基板と共に測定流体が流れる流路を形成し表面上にエツ
チングによりアルミパターンの励磁コイルが形成されて
なる励磁コイル基板とを具備してなる半導体形電磁流量
計を構成したものである。
く作用〉
以上の構成において、励磁コイルに励磁電流か流され、
これにより発生した磁束の変動を測定電極により測定す
ることにより測定流体の流量を測定することが出来る。
これにより発生した磁束の変動を測定電極により測定す
ることにより測定流体の流量を測定することが出来る。
以下、実施例に基づき詳細に説明する。
〈実施例〉
第1図は本発明の一実施例の構成説明図、第2図は第1
図の要部構成説明図である。
図の要部構成説明図である。
図において、3はN形またはP形の一方の伝導形のシリ
コン半導体基板に他方の伝導形の半導体よりなる測定な
i31が形成されてなり互いに対向して配置されてなる
2個の電極基板である。
コン半導体基板に他方の伝導形の半導体よりなる測定な
i31が形成されてなり互いに対向して配置されてなる
2個の電極基板である。
この場合は、P形のシリコン半導体基板32の測定流体
接触面側に、N形エピタキシャルJΔ33を形成後測定
@a 31となるP形不純物を拡散して形成する。
接触面側に、N形エピタキシャルJΔ33を形成後測定
@a 31となるP形不純物を拡散して形成する。
4は電極基板3と共に測定流体Aが流れる流路5を形成
し表面上にエツチングによりアルミパターンの励磁コイ
ル41が形成されてなる励磁コイル基板である。
し表面上にエツチングによりアルミパターンの励磁コイ
ル41が形成されてなる励磁コイル基板である。
この場合は、ガラス材よりなる励磁コイル基板4上にア
ルミパターンコイルを蒸着、スパッタ等で形成し、エツ
チングにより整形する。
ルミパターンコイルを蒸着、スパッタ等で形成し、エツ
チングにより整形する。
しかして、電極基板3と励磁コイル基板4とは、第3図
にしめすごとく、陽極接合Bにより接合され流路5が形
成される。
にしめすごとく、陽極接合Bにより接合され流路5が形
成される。
6は保護部で、プラスチック材よりなり、モールド等に
より作る。
より作る。
61は測定流体接触面側の電極基板3と励磁コイル基板
4とに設けられたパシベーション膜である。
4とに設けられたパシベーション膜である。
以上の構成において、励磁コイル41に励磁電流か流さ
れ、これにより発生した磁束の変動を測定電極31によ
り測定することにより測定流体の流量を測定することが
出来る。
れ、これにより発生した磁束の変動を測定電極31によ
り測定することにより測定流体の流量を測定することが
出来る。
この場合、
(1) W+定電極31は、電極基板3に半導体技術を
利用して形成されている。
利用して形成されている。
(2)励磁コイル41が励磁コイル基板4に蒸着等によ
るアルミ等で形成されており、半導体技術で作られてお
り、ソリッドステート化されている。
るアルミ等で形成されており、半導体技術で作られてお
り、ソリッドステート化されている。
(3)流路5は陽極接合で作られており、接着剤は使用
されていない。
されていない。
この結果、
(1)励磁コイル41が平面上にある為め、小型となる
。
。
(2)測定電極31が電極基板3中に一体で作られるの
で、小型となる。
で、小型となる。
(3)ソリッドステートで、頑丈で、信頼性が高い。
(4)半導体技術で作ることができ、大量生産出来、コ
ストが安くなる。
ストが安くなる。
(5)電極位置を容易に正確に設けることができ、高精
度な装置が構成できる。
度な装置が構成できる。
(6)部品数が少なく、コストが安くなる。
第4図は本発明の他の実施例の要部構成説明図である。
本実施例では、P形のシリコン半導体基板32面に、N
形エピタキシャル層33を形成後、測定電極31と外部
へのリードの取出し端子となる部分34に、P形不純物
を拡散して形成したものである。
形エピタキシャル層33を形成後、測定電極31と外部
へのリードの取出し端子となる部分34に、P形不純物
を拡散して形成したものである。
必要部分のみか電極あるいは端子として露出することに
なり、耐汚染、耐ノイズの良好なものか得られる。
なり、耐汚染、耐ノイズの良好なものか得られる。
第5図は本発明の他の実施例の要部構成説明図である。
本実施例では、電極基板3のリードの取出し側に、信号
処理回路35を設けたもので、いわゆる、集積型か構成
されている。
処理回路35を設けたもので、いわゆる、集積型か構成
されている。
第6図は本発明の他の実施例の要部構成説明図である。
本実施例では、測定電極31を多数設けたものである。
いわゆる、他電極電磁流量計が容易に構成でき、精度の
高いものが得られる。
高いものが得られる。
本実施例では、P形のシリコン半導体基板の両面に、N
形エピタキシャル層33を形成後、測定電極31と外部
へのリードの取出し端子となる部分34をP形不純物を
拡散して形成したものである。
形エピタキシャル層33を形成後、測定電極31と外部
へのリードの取出し端子となる部分34をP形不純物を
拡散して形成したものである。
第7図は本発明の他の実施例の要部構成説明図である。
本実施例では、電極基板3と励磁コイル基板4の、測定
流体接触側の面を球面状にしたものである。
流体接触側の面を球面状にしたものである。
なお、電極基板3とwJ磁ココイル基板4測定流体接触
側の面は、平面状、あるいは、球面状に限ることはない
のは勿論である。
側の面は、平面状、あるいは、球面状に限ることはない
のは勿論である。
また、P形不純物による測定電極31の形成は、イオン
注入でもよい また、電極基板3は、N形のシリコン半導体基板の測定
流体接触面側に、P形エピタキシャル層を形成後、測定
電極31となるN形不純物を拡散して形成してもよい。
注入でもよい また、電極基板3は、N形のシリコン半導体基板の測定
流体接触面側に、P形エピタキシャル層を形成後、測定
電極31となるN形不純物を拡散して形成してもよい。
また、励磁コイル基板4はガラス材の代りに、セラミッ
クス、あるいは、シリコン等でもよく、要するに、絶縁
材であればよい。
クス、あるいは、シリコン等でもよく、要するに、絶縁
材であればよい。
〈発明の効果〉
以上説明したように、本発明は、励磁コイルと測定電極
とを具備する半導体形電磁流量計において、 N形またはP形の一方の伝導形のシリコン半導体基板に
他方の伝導形の半導体よりなる測定電極が形成されてな
り互いに対向して配置されてなる2個の電極基板と、該
電極基板と共に測定流体が流れる流路を形成し表面上に
エツチングによりアルミパターンの励磁コイルが形成さ
れてなる励磁コイル基板とを具備してなる半導体形電磁
流量計を構成しなので、 この結果、 (1)励磁コイルが平面上にある為め、小型となる。
とを具備する半導体形電磁流量計において、 N形またはP形の一方の伝導形のシリコン半導体基板に
他方の伝導形の半導体よりなる測定電極が形成されてな
り互いに対向して配置されてなる2個の電極基板と、該
電極基板と共に測定流体が流れる流路を形成し表面上に
エツチングによりアルミパターンの励磁コイルが形成さ
れてなる励磁コイル基板とを具備してなる半導体形電磁
流量計を構成しなので、 この結果、 (1)励磁コイルが平面上にある為め、小型となる。
(2)測定電極が電極基板中に一体で作られるので、小
型となる。
型となる。
(3)ソリッドステートで、頑丈で、信顆性が高い。
(4)半導体技術で作ることができ、大量生産出来、コ
ストが安くなる。
ストが安くなる。
(5)電極位置を容易に正確に設けることができ、高精
度な装置が構成できる。
度な装置が構成できる。
(6)部品数が少なく、コストが安くなる。
(7)増幅回路部を集積化でき、小形化か出来る。
従って、本発明によれば、小形化、低価格、高信頼性の
半導体形電磁流量計を実現することが出来る。
半導体形電磁流量計を実現することが出来る。
第1図は本発明の一実施例の構成説明図、第2図は第1
図の要部構成説明図、第3図は第1図の要部断面図、第
4図は本発明の他の実施例の要部構成説明図、第5図は
本発明の他の実施例の要部構成説明図、第6図は本発明
の他の実施例の要部構成説明図、第7図は本発明の他の
実施例の要部構成説明図、第8図、第9図は従来より一
般に使用されている従来例の構成説明図である。 1・・・測定管、3・・・電極基板、31・・・測定電
極、32・・・基板、33・・・Nエピタキシャル層、
34・・・リード取出し端子、35・・・信号処理回路
、4・・・励磁コイル基板、41・・・励磁コイル、5
・・・流路、6・・・tLJ部、61・・・パシベーシ
ョン膜。 第6図 第7図 第9図 つ
図の要部構成説明図、第3図は第1図の要部断面図、第
4図は本発明の他の実施例の要部構成説明図、第5図は
本発明の他の実施例の要部構成説明図、第6図は本発明
の他の実施例の要部構成説明図、第7図は本発明の他の
実施例の要部構成説明図、第8図、第9図は従来より一
般に使用されている従来例の構成説明図である。 1・・・測定管、3・・・電極基板、31・・・測定電
極、32・・・基板、33・・・Nエピタキシャル層、
34・・・リード取出し端子、35・・・信号処理回路
、4・・・励磁コイル基板、41・・・励磁コイル、5
・・・流路、6・・・tLJ部、61・・・パシベーシ
ョン膜。 第6図 第7図 第9図 つ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 励磁コイルと測定電極とを具備する半導体形電磁流量計
において、 N形またはP形の一方の伝導形のシリコン半導体基板に
他方の伝導形の半導体よりなる測定電極が形成されてな
り互いに対向して配置されてなる2個の電極基板と、該
電極基板と共に測定流体が流れる流路を形成し表面上に
エッチングによりアルミパターンの励磁コイルが形成さ
れてなる励磁コイル基板とを具備してなる半導体形電磁
流量計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP199488A JPH06103204B2 (ja) | 1988-01-08 | 1988-01-08 | 半導体形電磁流量計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP199488A JPH06103204B2 (ja) | 1988-01-08 | 1988-01-08 | 半導体形電磁流量計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01178822A true JPH01178822A (ja) | 1989-07-17 |
JPH06103204B2 JPH06103204B2 (ja) | 1994-12-14 |
Family
ID=11517013
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP199488A Expired - Lifetime JPH06103204B2 (ja) | 1988-01-08 | 1988-01-08 | 半導体形電磁流量計 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06103204B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0787975A1 (de) | 1996-02-05 | 1997-08-06 | Elsag International N.V. | Magnetisch-induktiver Durchflussmesser |
DE102005043718B3 (de) * | 2005-09-13 | 2007-04-19 | Fachhochschule Kiel | Verfahren zur Messung der Fliessgeschwindigkeit eines Mediums |
GB2575104A (en) * | 2018-06-29 | 2020-01-01 | Iphase Ltd | Method and apparatus for monitoring of the multiphase flow in a pipe |
GB2575253A (en) * | 2018-06-29 | 2020-01-08 | Iphase Ltd | Apparatus for monitoring of the multiphase flow in a pipe |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4986504B2 (ja) * | 2006-05-23 | 2012-07-25 | 愛知時計電機株式会社 | 電磁式流量計測装置 |
-
1988
- 1988-01-08 JP JP199488A patent/JPH06103204B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0787975A1 (de) | 1996-02-05 | 1997-08-06 | Elsag International N.V. | Magnetisch-induktiver Durchflussmesser |
DE102005043718B3 (de) * | 2005-09-13 | 2007-04-19 | Fachhochschule Kiel | Verfahren zur Messung der Fliessgeschwindigkeit eines Mediums |
US7467557B2 (en) | 2005-09-13 | 2008-12-23 | Zylum Beteiligungsgesellschaft Mbh & Co. Patente Ii Kg | Method for measuring the flow rate of a medium |
GB2575104A (en) * | 2018-06-29 | 2020-01-01 | Iphase Ltd | Method and apparatus for monitoring of the multiphase flow in a pipe |
GB2575253A (en) * | 2018-06-29 | 2020-01-08 | Iphase Ltd | Apparatus for monitoring of the multiphase flow in a pipe |
GB2575253B (en) * | 2018-06-29 | 2021-12-08 | Flodatix Ltd | Magnetic induction tomography apparatus with tubular member having outer surface of polygonal cross-section for monitoring a multiphase flow in a pipe |
GB2575104B (en) * | 2018-06-29 | 2022-11-30 | Flodatix Ltd | Method and apparatus for monitoring a multiphase flow in a pipe using magnetic induction tomography apparatus comprising planar coils |
US11994419B2 (en) | 2018-06-29 | 2024-05-28 | Enercorp Engineered Solutions Inc. | Apparatus for monitoring of the multiphase flow in a pipe |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06103204B2 (ja) | 1994-12-14 |
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