JPH01119669A - 基板保持機構 - Google Patents
基板保持機構Info
- Publication number
- JPH01119669A JPH01119669A JP27771287A JP27771287A JPH01119669A JP H01119669 A JPH01119669 A JP H01119669A JP 27771287 A JP27771287 A JP 27771287A JP 27771287 A JP27771287 A JP 27771287A JP H01119669 A JPH01119669 A JP H01119669A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- jig
- substrate
- disk substrate
- disk
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 42
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 abstract 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は薄膜を製造するスパッタ装置の基板を保持する
機構に関する。
機構に関する。
従来のスパッタリング装置で基板ホルダー内全面にわた
り、膜厚分布の無い、組成均一な膜を作るだめには、基
板ホルダーに取り付ける基板を自公転させる必要があっ
た。そして、基板がディスク基板の場合には第２図に示
す自公転治具を用いていた断面図であり、１０が自公転
治具で１１がディスク基板である。この治具はディスク
基板を入れる径口の方が、ディスク基板の径ｄより大き
いため、サイドスパッタリングで基板ホルダーが回転す
る間に、ディスク基板は自公転するというものである。
り、膜厚分布の無い、組成均一な膜を作るだめには、基
板ホルダーに取り付ける基板を自公転させる必要があっ
た。そして、基板がディスク基板の場合には第２図に示
す自公転治具を用いていた断面図であり、１０が自公転
治具で１１がディスク基板である。この治具はディスク
基板を入れる径口の方が、ディスク基板の径ｄより大き
いため、サイドスパッタリングで基板ホルダーが回転す
る間に、ディスク基板は自公転するというものである。
この方式によりディスク基板内全領域にわたり組成分布
がない良好な薄膜を製造することが可能となった。
がない良好な薄膜を製造することが可能となった。
しかしながら、第２図からもわかる様に１１のディスク
基板は、自公転治具の成膜面とは反対側から挿入される
ため、挿入部分の径Ｒはディスク外径ｄより太き（なけ
ればならない。つまりＲ〉ｄである。それ故ディスクが
自公転している間に、自公転治具の凸部１２にディスク
が乗ってしまい自公転しにくくなる。さらに−度凸部に
ディスクが乗るとディスクの外周まで膜が成膜されてし
まい、貼合せ時に不具合を生じる。あるいは最悪の場合
、ディスクが治具からバズしてしまい、落下してしまう
という欠点があった。凸部に乗った状態が第３図である
。
基板は、自公転治具の成膜面とは反対側から挿入される
ため、挿入部分の径Ｒはディスク外径ｄより太き（なけ
ればならない。つまりＲ〉ｄである。それ故ディスクが
自公転している間に、自公転治具の凸部１２にディスク
が乗ってしまい自公転しにくくなる。さらに−度凸部に
ディスクが乗るとディスクの外周まで膜が成膜されてし
まい、貼合せ時に不具合を生じる。あるいは最悪の場合
、ディスクが治具からバズしてしまい、落下してしまう
という欠点があった。凸部に乗った状態が第３図である
。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、そ
の目的とするところはディスク基板が自公点治具の凸部
に乗らない基板保持機構を提供するところにある。
の目的とするところはディスク基板が自公点治具の凸部
に乗らない基板保持機構を提供するところにある。
１．７．１題点を解決するための手段〕ディスク基板と
ターゲットが対向するサイドスパッタ装置において、デ
ィスク基板を自公転させる基板取付は治具のうち、ディ
スク基板の成膜面裏側外周部と基板取付は治具との接触
する治具側の部位に角度をもたせたことを特徴とする。
ターゲットが対向するサイドスパッタ装置において、デ
ィスク基板を自公転させる基板取付は治具のうち、ディ
スク基板の成膜面裏側外周部と基板取付は治具との接触
する治具側の部位に角度をもたせたことを特徴とする。
第１図に本発明による自公転治具断面図を示す。
１が本発明による自公転治具で、材質はＡＩである。２
がプラスチック基板で、材質はＰＣである。
がプラスチック基板で、材質はＰＣである。
Ａ、Ａ’部が本発明のポイントとなる所で、拡大したも
のを第４図に示す。従来技術では垂直に立っていた基板
保持部分（成膜面と反対側）４５゜の角度を持たせるこ
とにより、従来では凸部に乗ってしまう位置にＰＣ基板
が存在しても、４５゜のスロープに添って溝内に留まり
、乗り上げることはない。又、このことにより、ディス
クの外周裏側に傷がつくという欠点も解消された。
のを第４図に示す。従来技術では垂直に立っていた基板
保持部分（成膜面と反対側）４５゜の角度を持たせるこ
とにより、従来では凸部に乗ってしまう位置にＰＣ基板
が存在しても、４５゜のスロープに添って溝内に留まり
、乗り上げることはない。又、このことにより、ディス
クの外周裏側に傷がつくという欠点も解消された。
本発明の効果をみるために、本発明治具と従来治具を用
い光磁気記録媒体を作成した。膜構成はＩＮ目Ａｌ５ｉ
Ｎ保護膜１０００人、２層目ＮｄＤｙＦｅＣ。
い光磁気記録媒体を作成した。膜構成はＩＮ目Ａｌ５ｉ
Ｎ保護膜１０００人、２層目ＮｄＤｙＦｅＣ。
光磁気記録膜８００人、３層目Ａｌ５ｉＮ保護膜８００
人という媒体である。１バッチ６枚（９０φデイスク）
をセットできる自公転治具を用い２０バッチ１２０枚の
ディスク媒体を作成し、治具から何枚落下したか、ある
いは何枚が凸部に乗り上げディスク外周まで膜が付着し
てしまったかを調べた。法衣がその結果である。
人という媒体である。１バッチ６枚（９０φデイスク）
をセットできる自公転治具を用い２０バッチ１２０枚の
ディスク媒体を作成し、治具から何枚落下したか、ある
いは何枚が凸部に乗り上げディスク外周まで膜が付着し
てしまったかを調べた。法衣がその結果である。
一表一
この結果より、本発明治具によれば落下、凸部乗り上げ
はかなり少なく９６％の歩留りであるが、従来治具では
４０％の歩留りにとどまっていることがわかる。
はかなり少なく９６％の歩留りであるが、従来治具では
４０％の歩留りにとどまっていることがわかる。
以上述べたように、本発明によれば基板上に単層及び多
層成膜する薄膜の製造装置で、ディスク基板を自公転さ
せる基板取付は治具のうち、ディスク基板の成膜面裏側
外周部と基板取付は治具との接触する治具側の部位に角
度をもたせたことにより、ディスク基板の治具からの落
下、凸部乗り上げも非常に少なくなり従来法と比較して
歩留りが向上し、量産性向上に多大な効果を有するもの
である。
層成膜する薄膜の製造装置で、ディスク基板を自公転さ
せる基板取付は治具のうち、ディスク基板の成膜面裏側
外周部と基板取付は治具との接触する治具側の部位に角
度をもたせたことにより、ディスク基板の治具からの落
下、凸部乗り上げも非常に少なくなり従来法と比較して
歩留りが向上し、量産性向上に多大な効果を有するもの
である。
尚、本実施例において自公転治具のうち、ディスク基板
の成膜面裏側外周部と基板取付は治具との接触する治具
側の部位の角度は４５度であるが、４５度に限定される
ものでなく少しでも角度があれば凸部乗り上げもなくな
り有効である。また、ディスク基板にはＰＣ基板を用い
たが、ＰＭＭＡ、エポキシ樹脂、ガラスｅ ｔ ｃ、の
全での基板に有効であり、特にプラスチック基板では擦
傷面でより一層の効果がある。さらに実施例に示した光
磁気記録媒体作成だけでなく、全ての薄膜作成に有効な
ことは言うまでもない。
の成膜面裏側外周部と基板取付は治具との接触する治具
側の部位の角度は４５度であるが、４５度に限定される
ものでなく少しでも角度があれば凸部乗り上げもなくな
り有効である。また、ディスク基板にはＰＣ基板を用い
たが、ＰＭＭＡ、エポキシ樹脂、ガラスｅ ｔ ｃ、の
全での基板に有効であり、特にプラスチック基板では擦
傷面でより一層の効果がある。さらに実施例に示した光
磁気記録媒体作成だけでなく、全ての薄膜作成に有効な
ことは言うまでもない。
第１図は本発明による自公転治具断面図。
第２図は従来法による自公転治具断面図。
第３図は凸部に乗った状態断面図。
第４図は本発明による自公転治具拡大図。
１・・・本発明による自公転治具
２・・・プラスチック基板（ＰＣ）
１０・・・従来の自公転治具
１１・・・ディスク基板
１２・・・凸部
以上
出願人 セイコーエプソン株式会社
一−
＼−−・
方
菌 第 １ ロ
Claims (1)
- ディスク基板とターゲットが対向するサイドスパッタ装
置において、前記ディスク基板を自公転させる基板取付
け治具のうち前記ディスク基板の成膜面裏側外周部と前
記基板取付け治具との接触する前記治具側の部位に角度
をもたせたことを特徴とする基板保持機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27771287A JPH01119669A (ja) | 1987-11-02 | 1987-11-02 | 基板保持機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27771287A JPH01119669A (ja) | 1987-11-02 | 1987-11-02 | 基板保持機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01119669A true JPH01119669A (ja) | 1989-05-11 |
Family
ID=17587264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27771287A Pending JPH01119669A (ja) | 1987-11-02 | 1987-11-02 | 基板保持機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01119669A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0198165U (ja) * | 1987-12-18 | 1989-06-30 | ||
| CN112593200A (zh) * | 2020-12-28 | 2021-04-02 | 芯思杰技术(深圳)股份有限公司 | 镀膜治具、镀膜装置及镀膜方法 |
-
1987
- 1987-11-02 JP JP27771287A patent/JPH01119669A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0198165U (ja) * | 1987-12-18 | 1989-06-30 | ||
| CN112593200A (zh) * | 2020-12-28 | 2021-04-02 | 芯思杰技术(深圳)股份有限公司 | 镀膜治具、镀膜装置及镀膜方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH04123314A (ja) | ディスク型記録媒体および記憶装置 | |
| JPS63201917A (ja) | 磁気ディスクメモリの基板及びその製造方法 | |
| JPH01119669A (ja) | 基板保持機構 | |
| JPH02190258A (ja) | チタン板の両面研磨方法 | |
| US4802160A (en) | Optical disk substrate | |
| JPH01119670A (ja) | 基板保持機構 | |
| JP3378043B2 (ja) | スパッタリング装置 | |
| KR20040058283A (ko) | 스탬퍼의 제조방법, 원판, 지지 구조와, 이 스탬퍼의 용도 | |
| JPH054128Y2 (ja) | ||
| JPH0280568A (ja) | 薄膜製造装置における基板保持機構 | |
| JP3537701B2 (ja) | 光学記録媒体、光学記録媒体の製造方法、および、光学記録媒体の製造装置 | |
| JPS59172173A (ja) | ディジタル信号記録再生ディスクの製造方法 | |
| JPH1074350A (ja) | メディア用スペーサとメディア用クランプおよびハードディスク装置 | |
| JPS61236049A (ja) | デイスク成形方法 | |
| JPH0733574B2 (ja) | 薄膜の製造装置における基板保持機構 | |
| JP2892723B2 (ja) | スパッタリング装置 | |
| JPS6428372A (en) | Substrate holding mechanism | |
| JPH0997456A (ja) | 光記録媒体の製造方法および製造装置 | |
| JPH01211342A (ja) | 光学式ディスクの製造法 | |
| JPH03130944A (ja) | 光ディスク製造用スタンパの裏面研磨方法 | |
| JPH0625837A (ja) | スパッタリング用サンプルホルダ装置 | |
| JPH0343232Y2 (ja) | ||
| JPH059726A (ja) | スパツタリング用サンプルホルダー装置 | |
| JPH0246526A (ja) | 磁気ディスク基板 | |
| JPH02101155A (ja) | 基板への成膜方法及びその装置 |