JPH03130944A - 光ディスク製造用スタンパの裏面研磨方法 - Google Patents
光ディスク製造用スタンパの裏面研磨方法Info
- Publication number
- JPH03130944A JPH03130944A JP26769289A JP26769289A JPH03130944A JP H03130944 A JPH03130944 A JP H03130944A JP 26769289 A JP26769289 A JP 26769289A JP 26769289 A JP26769289 A JP 26769289A JP H03130944 A JPH03130944 A JP H03130944A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stamper
- polishing
- optical disk
- reverse side
- roller
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 23
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims abstract description 25
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 79
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 24
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 6
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 13
- 235000019589 hardness Nutrition 0.000 description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000003362 replicative effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、例えば光記録ディスク、光磁気記録ディスク
、光再生専用ディスク等に代表される光ディスクの製造
に用いられるスタンパの裏面研磨方法に関する。
、光再生専用ディスク等に代表される光ディスクの製造
に用いられるスタンパの裏面研磨方法に関する。
〈従来の技術〉
光記録ないし光磁気ディスクや光再生専用ディスクでは
、記録点として、あるいはトラッキングや各種アドレス
用に各種のグループやビットが形成されている。
、記録点として、あるいはトラッキングや各種アドレス
用に各種のグループやビットが形成されている。
そして、この光再生専用ディスクや、光記録ディスクな
いし光磁気記録ディスク基板の製造に際しては、基板の
射出成型時にグループやビットを一体的に形成するイン
ジェクション法の場合でも、基板上にフォトポリマー層
を形成して、このフォトポリマー層にグループやビット
を形成するいわゆる2P法の場合でも、これらのグルー
プやビットを転写するためのスタンパを使用して複製的
に製造する。
いし光磁気記録ディスク基板の製造に際しては、基板の
射出成型時にグループやビットを一体的に形成するイン
ジェクション法の場合でも、基板上にフォトポリマー層
を形成して、このフォトポリマー層にグループやビット
を形成するいわゆる2P法の場合でも、これらのグルー
プやビットを転写するためのスタンパを使用して複製的
に製造する。
この場合、スタンパは、通常、以下のように製造される
。
。
1)スタンパ作製時の基板(原板)となる例えば円板状
ガラス板を平坦面に研磨する工程2)この研磨面をスク
ラブ処理する工程3)スクラブ処理後の研磨面を洗浄す
る工程4)この研磨面にフォトレジスト層を形成する工
程 5)このフォトレジスト層に例えばレーザビームを照射
して、光ディスクのグループおよび/またはビット転写
用のスタンパパターンに対応する母型パターンを露光す
る工程 6)露光後のフォトレジスト層を現像処理して母型パタ
ーン(原盤パターン)を形成する工程 7)この母型パターンの上に金属下地層を形成する工程 8)この金属下地層の上に金属電鋳膜をメツキする工程 9)この金属下地層と金属下地層から形成される金属膜
をガラス板から剥離する工程 10)その外周面および孔部内周面を整形する工程 11)内外周を整形した後の転写面の裏面を平坦面に研
磨する工程 12)その他の必要工程 ところで、光ディスクの場合には、グループおよび/ま
たはビット(以下、通常はグループをもって代表させる
)の形成面の平坦精度がそのまま光ディスクの性能に影
響するため、スタンパ作製時の基板となるガラス板の表
面およびスタンパ裏面の面精度をいかに高めるかが、光
ディスク製造上の重要な問題となってくる。
ガラス板を平坦面に研磨する工程2)この研磨面をスク
ラブ処理する工程3)スクラブ処理後の研磨面を洗浄す
る工程4)この研磨面にフォトレジスト層を形成する工
程 5)このフォトレジスト層に例えばレーザビームを照射
して、光ディスクのグループおよび/またはビット転写
用のスタンパパターンに対応する母型パターンを露光す
る工程 6)露光後のフォトレジスト層を現像処理して母型パタ
ーン(原盤パターン)を形成する工程 7)この母型パターンの上に金属下地層を形成する工程 8)この金属下地層の上に金属電鋳膜をメツキする工程 9)この金属下地層と金属下地層から形成される金属膜
をガラス板から剥離する工程 10)その外周面および孔部内周面を整形する工程 11)内外周を整形した後の転写面の裏面を平坦面に研
磨する工程 12)その他の必要工程 ところで、光ディスクの場合には、グループおよび/ま
たはビット(以下、通常はグループをもって代表させる
)の形成面の平坦精度がそのまま光ディスクの性能に影
響するため、スタンパ作製時の基板となるガラス板の表
面およびスタンパ裏面の面精度をいかに高めるかが、光
ディスク製造上の重要な問題となってくる。
特に、スタンパ裏面の場合には、インジェクション法の
場合にはスタンパを金型内の所定位置に取付け、また、
2P法の場合にはスタンパをスタンピングマシンのプレ
ス面に取付けて使用する関係で、スタンパ裏面の面精度
は、製造される光ディスクのグループの深さや幅に直接
的な影響を及ぼすため、スタンパ裏面を研磨するなどし
てスタンパ裏面の精度を高めるような対策がとられてい
る。
場合にはスタンパを金型内の所定位置に取付け、また、
2P法の場合にはスタンパをスタンピングマシンのプレ
ス面に取付けて使用する関係で、スタンパ裏面の面精度
は、製造される光ディスクのグループの深さや幅に直接
的な影響を及ぼすため、スタンパ裏面を研磨するなどし
てスタンパ裏面の精度を高めるような対策がとられてい
る。
スタンパの裏面研磨法としては、フリーアブレッシブ加
工法など、遊離砥粒を用いる方法、あるいは研磨テープ
を用いる方法などが利用されている。
工法など、遊離砥粒を用いる方法、あるいは研磨テープ
を用いる方法などが利用されている。
研磨テープを用いる場合、例えば特開昭58−1969
62号公報に記載されているように、ゴムローラ等の押
圧部材により研磨テープをスタンパ裏面に押圧しながら
、スタンパを回転させることにより研磨を行なう。
62号公報に記載されているように、ゴムローラ等の押
圧部材により研磨テープをスタンパ裏面に押圧しながら
、スタンパを回転させることにより研磨を行なう。
〈発明が解決しようとする課題〉
光ディスクでは、情報記録面あるいは情報担持面上に再
生ヘッドからレーザ光等の再生光を照射し、情報の再生
を行なう。 このとき情報記録面あるいは情報担持面に
凹凸があると、再生ヘッドはフォーカシングを行なうた
めに下方あるいは上方に加速する。
生ヘッドからレーザ光等の再生光を照射し、情報の再生
を行なう。 このとき情報記録面あるいは情報担持面に
凹凸があると、再生ヘッドはフォーカシングを行なうた
めに下方あるいは上方に加速する。
このときの加速度は面振れ加速度と呼ばれ、これはディ
スク回転数が高いほど大きくなる。
スク回転数が高いほど大きくなる。
例えば、光再生専用ディスクであるコンパクトディスク
(CD)の使用時の回転数は最大でも600 rpm程
度であるが、光磁気記録ディスク等の情報記録用光ディ
スクは、アクセス速度やデータ転送速度が高速であるこ
とが要求されるので、1800〜3600rpLI+程
度の高回転にて使用される。 例えば1800 rpm
で使用する場合、ディスク中心から半径方向に55mm
の位置での面振れ加速度は、CDの8倍程度にも達する
。
(CD)の使用時の回転数は最大でも600 rpm程
度であるが、光磁気記録ディスク等の情報記録用光ディ
スクは、アクセス速度やデータ転送速度が高速であるこ
とが要求されるので、1800〜3600rpLI+程
度の高回転にて使用される。 例えば1800 rpm
で使用する場合、ディスク中心から半径方向に55mm
の位置での面振れ加速度は、CDの8倍程度にも達する
。
従って、高速回転させて使用する情報記録用光ディスク
では、ディスク基板表面の凹凸を極めて小さく抑える必
要があり、このため、スタンパ裏面の研磨精度をさらに
向上させる必要がある。
では、ディスク基板表面の凹凸を極めて小さく抑える必
要があり、このため、スタンパ裏面の研磨精度をさらに
向上させる必要がある。
本発明は、このような事情からなされたものであり、原
盤フォトレジスト層から剥離したスタンパ用金属膜の裏
面を高精度に研磨することのできる光ディスク製造用ス
タンパの裏面研磨方法を提供することを目的とする。
盤フォトレジスト層から剥離したスタンパ用金属膜の裏
面を高精度に研磨することのできる光ディスク製造用ス
タンパの裏面研磨方法を提供することを目的とする。
く課題を解決するための手段〉
このような目的は、下記(1)〜(5)の本発明によっ
て達成される。
て達成される。
(1)回転する光ディスク製造用スタンパの裏面に、押
圧ローラにより研磨テープを押圧してスタンパ裏面を研
磨するに際し、 JIS K 6301に規定された硬度で表示したとき
80度以下であるゴムを表面に有する押圧ローラな用い
ることを特徴とする光ディスク製造用スタンパの裏面研
磨方法。
圧ローラにより研磨テープを押圧してスタンパ裏面を研
磨するに際し、 JIS K 6301に規定された硬度で表示したとき
80度以下であるゴムを表面に有する押圧ローラな用い
ることを特徴とする光ディスク製造用スタンパの裏面研
磨方法。
(2)前記押圧ローラの表面が、厚さ5mm以上のゴム
で被覆されている上記(1)に記載の光ディスク製造用
スタンパの裏面研磨方法。
で被覆されている上記(1)に記載の光ディスク製造用
スタンパの裏面研磨方法。
(3)前記押圧ローラの押圧力が、0.5〜3 、 O
kgf/cm2である上記(1)または(2)に記載の
光ディスク製造用スタンパの裏面研磨方法。
kgf/cm2である上記(1)または(2)に記載の
光ディスク製造用スタンパの裏面研磨方法。
(4)前記研磨テープの移送速度が1.0〜4 、0
mm/ secである上記(1)ないしく3)のいずれ
かに記載の光ディスク製造用スタンパの裏面研磨方法。
mm/ secである上記(1)ないしく3)のいずれ
かに記載の光ディスク製造用スタンパの裏面研磨方法。
(5)前記スタンパの回転数が100〜400rpmで
ある上記(1)ないしく4)のいずれかに記載の光ディ
スク製造用スタンパの裏面研磨方法。
ある上記(1)ないしく4)のいずれかに記載の光ディ
スク製造用スタンパの裏面研磨方法。
く作 用〉
本発明では、研磨テープをスタンパ裏面に押圧するため
の押圧ローラ表面が、上記硬度のゴムで構成されている
ため、押圧ローラが研磨機の振動を拾うことが顕著に減
少し、スタンパ裏面を極めて平滑かつ均一に研磨するこ
とができる。
の押圧ローラ表面が、上記硬度のゴムで構成されている
ため、押圧ローラが研磨機の振動を拾うことが顕著に減
少し、スタンパ裏面を極めて平滑かつ均一に研磨するこ
とができる。
このため、本発明により得られたスタンパを用いて製造
された光ディスクは、面振れ加速度が極めて小さい。
本発明のスタンパを用いて製造された光ディスクは、面
振れ加速度を例えば1800rpmにて10 m/se
c”以下、さらには5 m/sec”以下とすることが
できる。
された光ディスクは、面振れ加速度が極めて小さい。
本発明のスタンパを用いて製造された光ディスクは、面
振れ加速度を例えば1800rpmにて10 m/se
c”以下、さらには5 m/sec”以下とすることが
できる。
なお、特開昭58−196962号公報では、研磨テー
プをスタンパに押圧するための部材としてゴムローラを
用いる旨が開示されているが、ゴムの硬度についての開
示はない。 また、同公報に開示されているスタンパは
オーディオレコードやビデオディスク製造に用いられる
ものであり、同公報には高速回転が要求される情報記録
用光ディスクに関する記載はない。
プをスタンパに押圧するための部材としてゴムローラを
用いる旨が開示されているが、ゴムの硬度についての開
示はない。 また、同公報に開示されているスタンパは
オーディオレコードやビデオディスク製造に用いられる
ものであり、同公報には高速回転が要求される情報記録
用光ディスクに関する記載はない。
く具体的構成〉
以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。
本発明に用いるスタンパ裏面研磨装置の概略図を、第1
図に示す。
図に示す。
第1図に示す研磨装置では、送出リール1から研磨テー
プ2が送り出され、図示しない駆動手段により回転され
る巻き取りリール3に巻き取られる。
プ2が送り出され、図示しない駆動手段により回転され
る巻き取りリール3に巻き取られる。
研磨テープ2は、その走行経路の途中で、押圧ローラ4
によりスタンパ10の裏面に押し付けられる。 押圧ロ
ーラ4は、自由回転ローラであり、図示しない弾性部材
により研磨テープ2を介してスタンパ10裏面に押圧さ
れる。
によりスタンパ10の裏面に押し付けられる。 押圧ロ
ーラ4は、自由回転ローラであり、図示しない弾性部材
により研磨テープ2を介してスタンパ10裏面に押圧さ
れる。
スタンパ10は、通常、N1電鋳膜等の金属膜であり、
その直径は通常80〜300mm程度、厚さは0.2〜
0.5mm程度である。
その直径は通常80〜300mm程度、厚さは0.2〜
0.5mm程度である。
スタンパ10は、ターンテーブル8上に治具により固定
される。 図示例では、ガラス原盤9をターンテーブル
8上に載置し、両面テープ11を用いてスタンパ10を
貼り付けている。
される。 図示例では、ガラス原盤9をターンテーブル
8上に載置し、両面テープ11を用いてスタンパ10を
貼り付けている。
ターンテーブル8の回転軸12は図示しない駆動手段に
より接続され、スタンパ10は回転可能となっている。
より接続され、スタンパ10は回転可能となっている。
スタンパ10の裏面研磨に際しては、スタンパ10を回
転させながら、巻き取りリール3に研磨テープ2を巻き
取り、同時に送出リール1、研磨テープ2、巻き取りリ
ール3および押圧ローラ4を、図示しない駆動手段によ
り、スタンパ10の半径方向に一体的に往復運動させる
。
転させながら、巻き取りリール3に研磨テープ2を巻き
取り、同時に送出リール1、研磨テープ2、巻き取りリ
ール3および押圧ローラ4を、図示しない駆動手段によ
り、スタンパ10の半径方向に一体的に往復運動させる
。
このとき、押圧ローラ4は、研磨テープ2の移送に伴っ
て回転する。 また、研磨時、スタンパ裏面上には、研
磨カスを除去するため、あるいは研磨時の温度上昇を抑
えるために、水や洗剤、潤滑油等が流される。
て回転する。 また、研磨時、スタンパ裏面上には、研
磨カスを除去するため、あるいは研磨時の温度上昇を抑
えるために、水や洗剤、潤滑油等が流される。
本発明では、このような研磨装置によりスタンパ裏面を
研磨するに際し、表面がゴムで構成されている押圧ロー
ラ4を用いる。 図示例では、押圧ローラ4の表面を、
ゴム層41で被覆している。
研磨するに際し、表面がゴムで構成されている押圧ロー
ラ4を用いる。 図示例では、押圧ローラ4の表面を、
ゴム層41で被覆している。
そして、本発明では、JIS K 6301に規定され
た硬度で表示したとき、80度以下の硬度を有するゴム
を押圧ローラに用いる。 ゴムの硬度が80度を超える
と、スタンパ10を駆動するモータ等の振動がスタンパ
10と研磨テープ2との接触状態に与える影響が大きく
なり、研磨を均一に行なうことが困難となる。
た硬度で表示したとき、80度以下の硬度を有するゴム
を押圧ローラに用いる。 ゴムの硬度が80度を超える
と、スタンパ10を駆動するモータ等の振動がスタンパ
10と研磨テープ2との接触状態に与える影響が大きく
なり、研磨を均一に行なうことが困難となる。
なお、用いるゴムの硬度の下限は特にないが、硬度が2
0度未満となると研磨レートが極端に低下するため好ま
しくない。
0度未満となると研磨レートが極端に低下するため好ま
しくない。
押圧ローラ4の表面のゴム層41は、厚さが5+nm以
上、特に8mm以上であることが好ましい。 ゴム層4
1の厚さが上記範囲未満となると、本発明の効果が十分
には発現しない。
上、特に8mm以上であることが好ましい。 ゴム層4
1の厚さが上記範囲未満となると、本発明の効果が十分
には発現しない。
なお、押圧ローラ4の中心部は、通常、金属等の剛性材
質で構成される。
質で構成される。
押圧ローラ4に用いるゴムは上記範囲の硬度を有してい
ればその材質に特に制限はないが、加工が容易であるこ
とから、ウレタンゴムを用いることが好ましい。
ればその材質に特に制限はないが、加工が容易であるこ
とから、ウレタンゴムを用いることが好ましい。
押圧ローラ4の直径および幅に特に制限はなく、研磨す
るスタンパの寸法等に応じて適宜決定すればよいが、通
常、直径40〜60mm程度、幅2ON100mm程度
である。 また、スタンパの研磨面は、通常環状となる
が、押圧ローラ幅はこの研磨面の幅の50〜100%程
度であることが好ましい。
るスタンパの寸法等に応じて適宜決定すればよいが、通
常、直径40〜60mm程度、幅2ON100mm程度
である。 また、スタンパの研磨面は、通常環状となる
が、押圧ローラ幅はこの研磨面の幅の50〜100%程
度であることが好ましい。
研磨テープ2に対する押圧ローラ4の押圧力は、0 、
5〜3 、0 kgf/cm” 特に0.5〜2 、
Okgf/am”であることが好ましい。 押圧力が
上記範囲未満となると研磨速度が低下し、上記範囲を超
えると研磨面の均一性が低下する。
5〜3 、0 kgf/cm” 特に0.5〜2 、
Okgf/am”であることが好ましい。 押圧力が
上記範囲未満となると研磨速度が低下し、上記範囲を超
えると研磨面の均一性が低下する。
研磨テープ2の移送速度は、1.0〜4.0mm/ s
ee 、特に1 、5〜3 、0mm/secであるこ
とが好ましい。 移送速度が上記範囲未満となると研磨
くずを巻き込んで研磨キズが発生することがあり、上記
範囲を超えると研磨テープが上すべりして研磨面にムラ
が生じることがある。
ee 、特に1 、5〜3 、0mm/secであるこ
とが好ましい。 移送速度が上記範囲未満となると研磨
くずを巻き込んで研磨キズが発生することがあり、上記
範囲を超えると研磨テープが上すべりして研磨面にムラ
が生じることがある。
研磨時に、スタンパ10の回転数は100〜400 r
pm 、特に150〜300rpmであることが好まし
い。 回転数が上記範囲未満となると研磨レートが低下
し、上記範囲を超えると研磨時に発生する熱により、ス
タンパに歪みが発生することがある。
pm 、特に150〜300rpmであることが好まし
い。 回転数が上記範囲未満となると研磨レートが低下
し、上記範囲を超えると研磨時に発生する熱により、ス
タンパに歪みが発生することがある。
押圧ローラ4と研磨テープ2とを、スタンパ10の半径
方向に一体的に往復運動させるに際し、往復速度は3〜
30秒/往復、特に5〜10秒/往復とすることが好ま
しい。 1往復あたりの所要時間が上記範囲未満とな
ると研磨キズが発生することがあり、上記範囲を超える
と径方向での厚みムラが発生することがある。
方向に一体的に往復運動させるに際し、往復速度は3〜
30秒/往復、特に5〜10秒/往復とすることが好ま
しい。 1往復あたりの所要時間が上記範囲未満とな
ると研磨キズが発生することがあり、上記範囲を超える
と径方向での厚みムラが発生することがある。
本発明は、スタンパ裏面の荒研磨および仕上げ研磨のい
ずれにも適用されることが好ましい。
ずれにも適用されることが好ましい。
研磨レートは、押圧ローラの押圧力、スタンパ、研磨テ
ープ等の各種条件によって異なるが、荒研磨が10 /
100 HIM /min〜1−/min程度、仕上
げ研磨が2 / 100 u/min〜20/100μ
/min程度であることが好ましい。
ープ等の各種条件によって異なるが、荒研磨が10 /
100 HIM /min〜1−/min程度、仕上
げ研磨が2 / 100 u/min〜20/100μ
/min程度であることが好ましい。
また、研磨により削り取られる厚さは、荒研磨で2.0
〜lQ、Q7m程度、仕上げ研磨で0.5〜2.0−程
度であることが好ましい。
〜lQ、Q7m程度、仕上げ研磨で0.5〜2.0−程
度であることが好ましい。
本発明に用いる研磨テープ2に特に制限はなく、プラス
チックベースにホワイトアルミナ等の各種砥粒をバイン
ダで固定した通常のものを用いればよい。
チックベースにホワイトアルミナ等の各種砥粒をバイン
ダで固定した通常のものを用いればよい。
本発明で用いる研磨装置は、前述した押圧ローラを有す
るものであれば特に制限はなく、市販の各種研磨装置を
用いて、前記各種条件を満足するようにして研磨を行な
えばよい。 本発明に好適な研磨装置としては、■今井
製作所製2ヘッドスタンパー研磨機、■サンシン製スタ
ンパー研磨機等が挙げられる。
るものであれば特に制限はなく、市販の各種研磨装置を
用いて、前記各種条件を満足するようにして研磨を行な
えばよい。 本発明に好適な研磨装置としては、■今井
製作所製2ヘッドスタンパー研磨機、■サンシン製スタ
ンパー研磨機等が挙げられる。
〈実施例〉
以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。
[実施例1]
トラッキング用の母型パターンが形成されたフォトレジ
スト層を有するNi電鋳膜を作製し、スタンパとした。
スト層を有するNi電鋳膜を作製し、スタンパとした。
スタンパの直径は148■、厚さは0.3mmとし、
表面のパターンはスパイラル状のプリグループで、トラ
ックピッチは1.6μm、グループ深さは0.07〜0
.08μmとした。
表面のパターンはスパイラル状のプリグループで、トラ
ックピッチは1.6μm、グループ深さは0.07〜0
.08μmとした。
次に、第1図に示す構成を有する研磨機(サンシン工業
社製スタンパ用テープ研磨機)を用い、下記の条件でス
タンパ裏面の研磨を行なった。
社製スタンパ用テープ研磨機)を用い、下記の条件でス
タンパ裏面の研磨を行なった。
(押圧ローラ)
ゴム層厚さ:10mm
ゴム材質 :ウレタンゴム
押圧力 : 1 kgf/cm”
ローラ直径:40mm
ローラ幅 :50mm
スタンパ半径方向の往復速度
=6秒/往復
(スタンパ)
回転数 :250rpm
(研磨テープ)
日本ミクロコーティング社製のWA2000 (砥粒の
平均粒径的6μ)およびWA4000 (砥粒の平均粒
径的3−)を使用した。
平均粒径的6μ)およびWA4000 (砥粒の平均粒
径的3−)を使用した。
荒研磨は、WA2000を用いて研磨レート0.5μ/
winにて10分間行なった。 また、仕上げ研磨は、
WA4000を用いて研磨レート0. 147w1nに
て10分間行った。
winにて10分間行なった。 また、仕上げ研磨は、
WA4000を用いて研磨レート0. 147w1nに
て10分間行った。
なお、下記表1に示されるように、硬度の異なるゴムを
有する押圧ローラを用いて、複数のスタンパの裏面研磨
を行なった。
有する押圧ローラを用いて、複数のスタンパの裏面研磨
を行なった。
これらのスタンパにて、射出圧縮機構をもった成形機を
用いポリカーボネート樹脂にて成形を行ない光ディスク
基板No、 1〜3を得た。
用いポリカーボネート樹脂にて成形を行ない光ディスク
基板No、 1〜3を得た。
各光ディスク基板製造に用いたスタンパ作製時の押圧ロ
ーラのゴム硬度を、表1に示す。
ーラのゴム硬度を、表1に示す。
これらの光ディスク基板について、面振れ加速度の測定
を行なった。
を行なった。
面振れ加速度の測定は、基板回転数180Orpmにて
基板中心から55mmの位置で行なった。 なお、測定
サンプル数は、各光ディスク基板について3個とし、各
サンプルの最大面振れ加速度の平均値を表1に示した。
基板中心から55mmの位置で行なった。 なお、測定
サンプル数は、各光ディスク基板について3個とし、各
サンプルの最大面振れ加速度の平均値を表1に示した。
面振れ加速度は、フォーカシングサーボ時の光ピツクア
ップの加速度で表わされ、トラッキング用グループが形
成された基板の平坦度を示すものである。
ップの加速度で表わされ、トラッキング用グループが形
成された基板の平坦度を示すものである。
面振れ加速度は10 m/sec”以下であることが好
ましく、1800 rpmにおける面振れ加速度が5
m/sec”以下であれば、3600 rpmでも十分
に使用可能となる。
ましく、1800 rpmにおける面振れ加速度が5
m/sec”以下であれば、3600 rpmでも十分
に使用可能となる。
表 l
基板 ゴム硬度 面振れ加速度No、
(度) (m/sec”)1(比較)
90 17.82 8
0 9、 83
70 5、 0なお、硬度2
0度未満のゴムを有する押圧ローラを用いてスタンパ裏
面の研磨を行なったところ、実用不可能な程度まで研磨
レートが低下した。
(度) (m/sec”)1(比較)
90 17.82 8
0 9、 83
70 5、 0なお、硬度2
0度未満のゴムを有する押圧ローラを用いてスタンパ裏
面の研磨を行なったところ、実用不可能な程度まで研磨
レートが低下した。
以上の実施例の結果から、本発明の効果が明らかである
。
。
〈発明の効果〉
以上述べたように、本発明によれば、光ディスク製造用
スタンパの裏面を高精度に研磨することのできる方法が
実現する。
スタンパの裏面を高精度に研磨することのできる方法が
実現する。
第1図は、本発明に用いるスタンパ裏面研磨装置の概略
図である。 符号の説明 1・・・送出リール 2・・・研磨テープ 3・・・巻き取りリール 4・・・押圧ローラ 41・・・ゴム層 8・・・ターンテーブル 9・・・ガラス原盤 10・・・スタンパ ・・・両面テープ 2・・・回転軸 出 願 人 ティーデイ−ケイ株式会社 代 理 人
図である。 符号の説明 1・・・送出リール 2・・・研磨テープ 3・・・巻き取りリール 4・・・押圧ローラ 41・・・ゴム層 8・・・ターンテーブル 9・・・ガラス原盤 10・・・スタンパ ・・・両面テープ 2・・・回転軸 出 願 人 ティーデイ−ケイ株式会社 代 理 人
Claims (5)
- (1)回転する光ディスク製造用スタンパの裏面に、押
圧ローラにより研磨テープを押圧してスタンパ裏面を研
磨するに際し、 JISK6301に規定された硬度で表示したとき80
度以下であるゴムを表面に有する押圧ローラを用いるこ
とを特徴とする光ディスク製造用スタンパの裏面研磨方
法。 - (2)前記押圧ローラの表面が、厚さ5mm以上のゴム
で被覆されている請求項1に記載の光ディスク製造用ス
タンパの裏面研磨方法。 - (3)前記押圧ローラの押圧力が、0.5〜3.0kg
f/cm^2である請求項1または2に記載の光ディス
ク製造用スタンパの裏面研磨方法。 - (4)前記研磨テープの移送速度が1.0〜4.0mm
/secである請求項1ないし3のいずれかに記載の光
ディスク製造用スタンパの裏面研磨方法。 - (5)前記スタンパの回転数が100〜400rpmで
ある請求項1ないし4のいずれかに記載の光ディスク製
造用スタンパの裏面研磨方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1267692A JP2807836B2 (ja) | 1989-10-13 | 1989-10-13 | 光ディスク製造用スタンパの裏面研磨方法 |
US07/819,067 US5209027A (en) | 1989-10-13 | 1992-01-10 | Polishing of the rear surface of a stamper for optical disk reproduction |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1267692A JP2807836B2 (ja) | 1989-10-13 | 1989-10-13 | 光ディスク製造用スタンパの裏面研磨方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03130944A true JPH03130944A (ja) | 1991-06-04 |
JP2807836B2 JP2807836B2 (ja) | 1998-10-08 |
Family
ID=17448210
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1267692A Expired - Fee Related JP2807836B2 (ja) | 1989-10-13 | 1989-10-13 | 光ディスク製造用スタンパの裏面研磨方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2807836B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007258240A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Tokyo Electron Ltd | 表面処理方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58196962A (ja) * | 1982-05-11 | 1983-11-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄板表面研摩装置 |
JPS6389264A (ja) * | 1986-10-03 | 1988-04-20 | Hitachi Ltd | デイスク加工装置 |
-
1989
- 1989-10-13 JP JP1267692A patent/JP2807836B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58196962A (ja) * | 1982-05-11 | 1983-11-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄板表面研摩装置 |
JPS6389264A (ja) * | 1986-10-03 | 1988-04-20 | Hitachi Ltd | デイスク加工装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007258240A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Tokyo Electron Ltd | 表面処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2807836B2 (ja) | 1998-10-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5209027A (en) | Polishing of the rear surface of a stamper for optical disk reproduction | |
US5932042A (en) | Compact disc curing assembly line with deforming to a predetermined curvature prior to complete cure | |
KR100284728B1 (ko) | 광 디스크 제조방법 및 이 제조방법에 의한 광 디스크 | |
US20070202260A1 (en) | Method of manufacturing an information recording medium | |
JPS63201917A (ja) | 磁気ディスクメモリの基板及びその製造方法 | |
US20050271856A1 (en) | Optical recording medium and method for producing the same | |
JP2003016697A (ja) | 光情報記録媒体、スタンパー及びスタンパーの製造方法 | |
JPH03130944A (ja) | 光ディスク製造用スタンパの裏面研磨方法 | |
JPH09245345A (ja) | 磁気ディスクの製造方法および磁気ディスク | |
JP2000331377A (ja) | 光ディスク | |
JP3980992B2 (ja) | 光学記録媒体の製造方法および光学記録媒体 | |
JP2000293842A (ja) | 磁気記録媒体、ディスク基板及びディスク基板製造用原盤 | |
JP3477839B2 (ja) | 光ディスク用スタンパーの研磨装置 | |
JPH01264644A (ja) | 光デイスク基板の製造方法 | |
JP2002123980A (ja) | 光学記録媒体およびその製造方法 | |
JP3196259B2 (ja) | 光学ディスク用スタンパの研磨方法 | |
JP2661361B2 (ja) | 光ディスク用スタンパ研磨装置 | |
JPH0326527A (ja) | 光記録媒体用ロール型の製造方法 | |
JPH06168483A (ja) | 成形用金型、成形方法、スタンパーの研磨装置、スタンパーの研磨方法、スタンパーおよび光学的情報記録媒体 | |
JP2002237106A (ja) | 光学記録媒体の製造方法 | |
JP2004039104A (ja) | スタンパー、スタンパーの製造方法、光情報記録媒体の製造方法 | |
JPH06150402A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
JP2003317329A (ja) | 光ディスクの製造方法及び光ディスク原盤の作製方法 | |
JP2009285806A (ja) | スタンパの研磨方法及びスタンパの製造方法 | |
JP2003006938A (ja) | ディスク表面の傷修復方法及びその装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |