JPH01116435U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01116435U JPH01116435U JP1050788U JP1050788U JPH01116435U JP H01116435 U JPH01116435 U JP H01116435U JP 1050788 U JP1050788 U JP 1050788U JP 1050788 U JP1050788 U JP 1050788U JP H01116435 U JPH01116435 U JP H01116435U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- inner tank
- chemical solution
- chemical liquid
- chemical
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 2
Landscapes
- Weting (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例の模式的断面図、第
２図は従来の一例の模式的断面図である。 １……内槽、２……外槽、３……ポンプ、４…
…フイルタ、５……バルブ、６……配管、Ｍ……
薬液。
２図は従来の一例の模式的断面図である。 １……内槽、２……外槽、３……ポンプ、４…
…フイルタ、５……バルブ、６……配管、Ｍ……
薬液。
Claims (1)
- 半導体基板を処理するための薬液を入れた内槽
と、この内槽の外側に配設して内槽からオーバフ
ローされた薬液を溜める外槽と、この外槽内の薬
液を清浄化して前記内槽に戻す配管、ポンプ及び
フイルタ手段と、前記内槽の底部に接続されて内
槽内の薬液を下側から外槽内に排液するバルブと
を備えることを特徴とする半導体基板薬液処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1050788U JPH01116435U (ja) | 1988-01-30 | 1988-01-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1050788U JPH01116435U (ja) | 1988-01-30 | 1988-01-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01116435U true JPH01116435U (ja) | 1989-08-07 |
Family
ID=31218233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1050788U Pending JPH01116435U (ja) | 1988-01-30 | 1988-01-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01116435U (ja) |
-
1988
- 1988-01-30 JP JP1050788U patent/JPH01116435U/ja active Pending
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