JPS63127126U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63127126U JPS63127126U JP1931987U JP1931987U JPS63127126U JP S63127126 U JPS63127126 U JP S63127126U JP 1931987 U JP1931987 U JP 1931987U JP 1931987 U JP1931987 U JP 1931987U JP S63127126 U JPS63127126 U JP S63127126U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- center
- semiconductor wafer
- overflow groove
- tank
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 2
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
第1図は本考案の半導体ウエハ洗浄装置の一実
施例の説明図、第2図は従来の洗浄槽と乾燥槽の
平面図、第3図は従来の洗浄装置の説明図である
。 1:洗浄槽、2:乾燥槽、3:遮断壁、4:ウ
エハ、6:最終洗浄槽、7:オーバーフロー溝。
施例の説明図、第2図は従来の洗浄槽と乾燥槽の
平面図、第3図は従来の洗浄装置の説明図である
。 1:洗浄槽、2:乾燥槽、3:遮断壁、4:ウ
エハ、6:最終洗浄槽、7:オーバーフロー溝。
Claims (1)
- ウエハを洗浄液に浸して洗浄し、次工程に移し
て乾燥させる半導体ウエハの洗浄装置において、
前記洗浄液を収納する洗浄槽の中央部にオーバー
フロー溝を設け、該オーバーフロー溝の中央部に
は前記洗浄槽を二つの部分に分離し、洗浄部の環
境が乾燥部におよぼす影響を防止する遮断壁が設
けてあることを特徴とする半導体ウエハ洗浄装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1931987U JPS63127126U (ja) | 1987-02-12 | 1987-02-12 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1931987U JPS63127126U (ja) | 1987-02-12 | 1987-02-12 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63127126U true JPS63127126U (ja) | 1988-08-19 |
Family
ID=30813814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1931987U Pending JPS63127126U (ja) | 1987-02-12 | 1987-02-12 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63127126U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012119603A (ja) * | 2010-12-03 | 2012-06-21 | Japan Display Central Co Ltd | 基板処理装置 |
-
1987
- 1987-02-12 JP JP1931987U patent/JPS63127126U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2012119603A (ja) * | 2010-12-03 | 2012-06-21 | Japan Display Central Co Ltd | 基板処理装置 |