JPH022832U - - Google Patents
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- JPH022832U JPH022832U JP7970388U JP7970388U JPH022832U JP H022832 U JPH022832 U JP H022832U JP 7970388 U JP7970388 U JP 7970388U JP 7970388 U JP7970388 U JP 7970388U JP H022832 U JPH022832 U JP H022832U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- semiconductor substrate
- processing tank
- uniform
- fluid
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
Landscapes
- Weting (AREA)
Description
第1図は本考案の一実施例の配管図、第2図は
本考案の実施例2の配管図、第3図は従来の配管
図である。 1,12……処理槽、2……ドレン口、3……
バツフア槽、4……貯液用バルブ、5,13,1
7……送液ポンプ、6……ノズル、7……蓋、8
……キヤリア、9,11,15……処理液供給バ
ルブ、10,14,18……フイルター、16…
…外槽、19……内槽。
本考案の実施例2の配管図、第3図は従来の配管
図である。 1,12……処理槽、2……ドレン口、3……
バツフア槽、4……貯液用バルブ、5,13,1
7……送液ポンプ、6……ノズル、7……蓋、8
……キヤリア、9,11,15……処理液供給バ
ルブ、10,14,18……フイルター、16…
…外槽、19……内槽。
Claims (1)
- 半導体基板を浸漬処理するための処理槽に於い
て、半導体基板処理中の処理槽内の流体の流れを
均一かつ上方から下方にすることを特徴とする半
導体基板浸漬処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7970388U JPH022832U (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7970388U JPH022832U (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH022832U true JPH022832U (ja) | 1990-01-10 |
Family
ID=31304560
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7970388U Pending JPH022832U (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH022832U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6366106U (ja) * | 1986-10-16 | 1988-05-02 | ||
JP2012142419A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Mitsubishi Electric Corp | ウェットエッチング装置 |
-
1988
- 1988-06-15 JP JP7970388U patent/JPH022832U/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6366106U (ja) * | 1986-10-16 | 1988-05-02 | ||
JP2012142419A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Mitsubishi Electric Corp | ウェットエッチング装置 |
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