JPH0276837U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0276837U JPH0276837U JP15699088U JP15699088U JPH0276837U JP H0276837 U JPH0276837 U JP H0276837U JP 15699088 U JP15699088 U JP 15699088U JP 15699088 U JP15699088 U JP 15699088U JP H0276837 U JPH0276837 U JP H0276837U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate processing
- drain port
- processing
- perforated
- section
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 6
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Weting (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例を示す洗浄処理装置
の縦断面図、第２図は第１図の−線矢視縦断
面図、第３図は従来例を示す第１図相当図である
。 ３……基板処理槽、３Ａ……処理液供給部、３
Ｂ……基板処理部、４……整流多孔板、８……排
液口、８ａ……排液口の下端縁、１１……処理液
（純水洗浄液）、１２……給液弁、２０……開閉
弁、Ｗ……基板。
の縦断面図、第２図は第１図の−線矢視縦断
面図、第３図は従来例を示す第１図相当図である
。 ３……基板処理槽、３Ａ……処理液供給部、３
Ｂ……基板処理部、４……整流多孔板、８……排
液口、８ａ……排液口の下端縁、１１……処理液
（純水洗浄液）、１２……給液弁、２０……開閉
弁、Ｗ……基板。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 処理液を貯溜する基板処理槽内の下部に処理液
供給部を配置するとともに、その上部に基板を浸
漬処理する基板処理部を配置し、基板処理槽の側
壁下部に排液口を設け、排液口に開閉弁を設けて
成り、使用済みの用尽処理液を急速に排出するよ
うに構成した浸漬型基板処理装置において、 基板処理槽内の処理液供給部を基板処理部とを
整流多孔板で仕切り、整流多孔板をその表面が排
液口の下端縁とほぼ一致もしくはそれ以上の高さ
となるように配置するとともに、排液時に処理液
を供給するように構成したことを特徴とする浸漬
型基板処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15699088U JPH0650982Y2 (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | 浸漬型基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15699088U JPH0650982Y2 (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | 浸漬型基板処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0276837U true JPH0276837U (ja) | 1990-06-13 |
| JPH0650982Y2 JPH0650982Y2 (ja) | 1994-12-21 |
Family
ID=31436033
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15699088U Expired - Lifetime JPH0650982Y2 (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | 浸漬型基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0650982Y2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0430729U (ja) * | 1990-07-10 | 1992-03-12 | ||
| JPH0492632U (ja) * | 1990-12-28 | 1992-08-12 | ||
| JPH0497336U (ja) * | 1990-09-10 | 1992-08-24 | ||
| JP2010091727A (ja) * | 2008-10-07 | 2010-04-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理槽及びその製造方法 |
-
1988
- 1988-11-30 JP JP15699088U patent/JPH0650982Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0430729U (ja) * | 1990-07-10 | 1992-03-12 | ||
| JPH0497336U (ja) * | 1990-09-10 | 1992-08-24 | ||
| JPH0492632U (ja) * | 1990-12-28 | 1992-08-12 | ||
| JP2010091727A (ja) * | 2008-10-07 | 2010-04-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理槽及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0650982Y2 (ja) | 1994-12-21 |