JP7495231B2 - 化合物およびそれを用いた発光素子 - Google Patents
化合物およびそれを用いた発光素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7495231B2 JP7495231B2 JP2020000660A JP2020000660A JP7495231B2 JP 7495231 B2 JP7495231 B2 JP 7495231B2 JP 2020000660 A JP2020000660 A JP 2020000660A JP 2020000660 A JP2020000660 A JP 2020000660A JP 7495231 B2 JP7495231 B2 JP 7495231B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- represented
- compound
- formula
- substituent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 488
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 222
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 110
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 110
- -1 alkali metal cation Chemical class 0.000 claims description 107
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 96
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 88
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 81
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 80
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 79
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 76
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 58
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 58
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 43
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 claims description 41
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 38
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 34
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 34
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 31
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 31
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 27
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 claims description 25
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 25
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 claims description 24
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 21
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims description 15
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 9
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 5
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 4
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 claims description 3
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 claims description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 261
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 175
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 130
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 117
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 115
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 115
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 109
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 95
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 85
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 79
- 238000000034 method Methods 0.000 description 73
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 71
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 66
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 60
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 58
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical class [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 55
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 55
- JUGSKHLZINSXPQ-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoropentan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)F JUGSKHLZINSXPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 51
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 50
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 47
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 47
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 44
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 36
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 36
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 35
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 35
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 31
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 31
- YMWUJEATGCHHMB-DICFDUPASA-N dichloromethane-d2 Chemical compound [2H]C([2H])(Cl)Cl YMWUJEATGCHHMB-DICFDUPASA-N 0.000 description 30
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 30
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 28
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 27
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 26
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 23
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 23
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 20
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 19
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 18
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 18
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 18
- XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M methyltrioctylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 17
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 17
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 17
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- ABSOMGPQFXJESQ-UHFFFAOYSA-M cesium;hydroxide;hydrate Chemical compound O.[OH-].[Cs+] ABSOMGPQFXJESQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 16
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 15
- 238000000375 direct analysis in real time Methods 0.000 description 15
- 238000012063 dual-affinity re-targeting Methods 0.000 description 15
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 14
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 14
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 13
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 12
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 12
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 12
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 11
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 10
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 10
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 9
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004895 liquid chromatography mass spectrometry Methods 0.000 description 9
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- GYCKQBWUSACYIF-UHFFFAOYSA-N Ethyl salicylate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1O GYCKQBWUSACYIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 229940005667 ethyl salicylate Drugs 0.000 description 8
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 8
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 8
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 8
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 8
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- LCCCTXULXHJDLA-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-bromoethoxy)ethoxy]-2-methoxyethane Chemical compound COCCOCCOCCBr LCCCTXULXHJDLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 7
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 7
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 6
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 6
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 6
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 6
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 6
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 6
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 6
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 5
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 5
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 5
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 5
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 5
- HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N phenylboronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=CC=C1 HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 5
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- QPTWWBLGJZWRAV-UHFFFAOYSA-N 2,7-dibromo-9h-carbazole Chemical compound BrC1=CC=C2C3=CC=C(Br)C=C3NC2=C1 QPTWWBLGJZWRAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-MZCSYVLQSA-N Deuterated methanol Chemical compound [2H]OC([2H])([2H])[2H] OKKJLVBELUTLKV-MZCSYVLQSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IPWKHHSGDUIRAH-UHFFFAOYSA-N bis(pinacolato)diboron Chemical compound O1C(C)(C)C(C)(C)OB1B1OC(C)(C)C(C)(C)O1 IPWKHHSGDUIRAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N compound E Chemical compound N([C@@H](C)C(=O)N[C@@H]1C(N(C)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=N1)=O)C(=O)CC1=CC(F)=CC(F)=C1 JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N 0.000 description 4
- ONCCWDRMOZMNSM-FBCQKBJTSA-N compound Z Chemical compound N1=C2C(=O)NC(N)=NC2=NC=C1C(=O)[C@H]1OP(O)(=O)OC[C@H]1O ONCCWDRMOZMNSM-FBCQKBJTSA-N 0.000 description 4
- TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N dibenzofuran Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3OC2=C1 TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IYYZUPMFVPLQIF-UHFFFAOYSA-N dibenzothiophene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3SC2=C1 IYYZUPMFVPLQIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 4
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 4
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 4
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 238000001542 size-exclusion chromatography Methods 0.000 description 4
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 4
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TZMSYXZUNZXBOL-UHFFFAOYSA-N 10H-phenoxazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3OC2=C1 TZMSYXZUNZXBOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IXHWGNYCZPISET-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(dicyanomethylidene)-2,3,5,6-tetrafluorocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene]propanedinitrile Chemical compound FC1=C(F)C(=C(C#N)C#N)C(F)=C(F)C1=C(C#N)C#N IXHWGNYCZPISET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MCGROFKAAXXTBN-VIZOYTHASA-N 3,5-dihydroxy-N-[(E)-(4-hydroxy-3-nitrophenyl)methylideneamino]benzamide Chemical compound C1=CC(=C(C=C1/C=N/NC(=O)C2=CC(=CC(=C2)O)O)[N+](=O)[O-])O MCGROFKAAXXTBN-VIZOYTHASA-N 0.000 description 3
- DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-oxocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)cyclohexa-2,5-dien-1-one Chemical compound C1=CC(=O)C=CC1=C1C=CC(=O)C=C1 DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005577 Kumada cross-coupling reaction Methods 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006411 Negishi coupling reaction Methods 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000006619 Stille reaction Methods 0.000 description 3
- 238000006069 Suzuki reaction reaction Methods 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 3
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 3
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- ZTQSADJAYQOCDD-UHFFFAOYSA-N ginsenoside-Rd2 Natural products C1CC(C2(CCC3C(C)(C)C(OC4C(C(O)C(O)C(CO)O4)O)CCC3(C)C2CC2O)C)(C)C2C1C(C)(CCC=C(C)C)OC(C(C(O)C1O)O)OC1COC1OCC(O)C(O)C1O ZTQSADJAYQOCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N hydrate;hydrochloride Chemical compound O.Cl DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N methoxycyclopentane Chemical class COC1CCCC1 SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Chemical group 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 3
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000003613 toluenes Chemical class 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- CYPYTURSJDMMMP-WVCUSYJESA-N (1e,4e)-1,5-diphenylpenta-1,4-dien-3-one;palladium Chemical compound [Pd].[Pd].C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 CYPYTURSJDMMMP-WVCUSYJESA-N 0.000 description 2
- MNKCGUKVRJZKEQ-MIXQCLKLSA-N (1z,5z)-cycloocta-1,5-diene;iridium;methanol Chemical compound [Ir].[Ir].OC.OC.C\1C\C=C/CC\C=C/1.C\1C\C=C/CC\C=C/1 MNKCGUKVRJZKEQ-MIXQCLKLSA-N 0.000 description 2
- UXJHQQLYKUVLIE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydroacridine Chemical compound C1=CC=C2N=C(C=CCC3)C3=CC2=C1 UXJHQQLYKUVLIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VFBJMPNFKOMEEW-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylbut-2-enedinitrile Chemical group C=1C=CC=CC=1C(C#N)=C(C#N)C1=CC=CC=C1 VFBJMPNFKOMEEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CUQDFWJBGBDKLC-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1-iodo-9h-fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=C(Br)C(I)=C3CC2=C1 CUQDFWJBGBDKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPPTUDPKJRJKRR-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-7-iodofluoren-9-one Chemical compound C1=C(I)C=C2C(=O)C3=CC(Br)=CC=C3C2=C1 WPPTUDPKJRJKRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXNLQUKVUJITMX-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butyl-2-(4-tert-butylpyridin-2-yl)pyridine Chemical group CC(C)(C)C1=CC=NC(C=2N=CC=C(C=2)C(C)(C)C)=C1 TXNLQUKVUJITMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005725 8-Hydroxyquinoline Substances 0.000 description 2
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000846 In alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 2
- 102000016304 Origin Recognition Complex Human genes 0.000 description 2
- 108010067244 Origin Recognition Complex Proteins 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000292 Polyquinoline Polymers 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical group C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 2
- 229920005603 alternating copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000001502 aryl halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 2
- KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N but-1-yne Chemical compound CCC#C KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N but-2-ene Chemical compound CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M caesium hydroxide Chemical compound [OH-].[Cs+] HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- SKOLWUPSYHWYAM-UHFFFAOYSA-N carbonodithioic O,S-acid Chemical compound SC(S)=O SKOLWUPSYHWYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- WCZVZNOTHYJIEI-UHFFFAOYSA-N cinnoline Chemical compound N1=NC=CC2=CC=CC=C21 WCZVZNOTHYJIEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 2
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N deuterated acetone Substances [2H]C([2H])([2H])C(=O)C([2H])([2H])[2H] CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-LIDOUZCJSA-N ethanol-d6 Chemical compound [2H]OC([2H])([2H])C([2H])([2H])[2H] LFQSCWFLJHTTHZ-LIDOUZCJSA-N 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 2
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002220 fluorenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 2
- NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N isobutane Chemical compound CC(C)C NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N isopentane Chemical compound CCC(C)C QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000004768 lowest unoccupied molecular orbital Methods 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000002082 metal nanoparticle Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 2
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 description 2
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 2
- CRSOQBOWXPBRES-UHFFFAOYSA-N neopentane Chemical compound CC(C)(C)C CRSOQBOWXPBRES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-SVYQBANQSA-N oxolane-d8 Chemical compound [2H]C1([2H])OC([2H])([2H])C([2H])([2H])C1([2H])[2H] WYURNTSHIVDZCO-SVYQBANQSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 2
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 2
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 description 2
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 2
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- CPRMKOQKXYSDML-UHFFFAOYSA-M rubidium hydroxide Chemical compound [OH-].[Rb+] CPRMKOQKXYSDML-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 2
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- IIOSDXGZLBPOHD-UHFFFAOYSA-N tris(2-methoxyphenyl)phosphane Chemical compound COC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)OC)C1=CC=CC=C1OC IIOSDXGZLBPOHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- SSJXIUAHEKJCMH-PHDIDXHHSA-N (1r,2r)-cyclohexane-1,2-diamine Chemical compound N[C@@H]1CCCC[C@H]1N SSJXIUAHEKJCMH-PHDIDXHHSA-N 0.000 description 1
- UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N (e)-2-phenylethenamine Chemical class N\C=C\C1=CC=CC=C1 UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- GILIYJDBJZWGBG-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoropropan-2-ol Chemical compound CC(O)C(F)(F)F GILIYJDBJZWGBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXBSSAFKXWFUMF-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trinitrofluoren-9-one Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C([N+](=O)[O-])C([N+]([O-])=O)=C2[N+]([O-])=O ZXBSSAFKXWFUMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005654 1,2-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([*:2])C([H])([*:1])C1([H])[H] 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSRLURSZEMLAFO-UHFFFAOYSA-N 1,3-dibromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC(Br)=C1 JSRLURSZEMLAFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004955 1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 description 1
- VERMWGQSKPXSPZ-BUHFOSPRSA-N 1-[(e)-2-phenylethenyl]anthracene Chemical compound C=1C=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C2C=1\C=C\C1=CC=CC=C1 VERMWGQSKPXSPZ-BUHFOSPRSA-N 0.000 description 1
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical group C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006039 1-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000530 1-propynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- DJMUYABFXCIYSC-UHFFFAOYSA-N 1H-phosphole Chemical compound C=1C=CPC=1 DJMUYABFXCIYSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSQZJKGXDGNDFP-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)(F)F PSQZJKGXDGNDFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXJFKAZDSQLPBX-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F WXJFKAZDSQLPBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYKNGMLDSIEFFG-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-dodecafluoroheptan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)F BYKNGMLDSIEFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCEUVAQYYKMPRC-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4-hexafluorobutan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)(F)C(F)F FCEUVAQYYKMPRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)F NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SULWTXOWAFVWOY-PHEQNACWSA-N 2,3-bis[(E)-2-phenylethenyl]pyrazine Chemical compound C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=NC=CN=C1\C=C\C1=CC=CC=C1 SULWTXOWAFVWOY-PHEQNACWSA-N 0.000 description 1
- MTCARZDHUIEYMB-UHFFFAOYSA-N 2-bromofluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Br)=CC=C3C2=C1 MTCARZDHUIEYMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- 125000000069 2-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006176 2-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- RBPHBIMHZSTIDT-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoropentan-2-ol Chemical compound CC(O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F RBPHBIMHZSTIDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCMNMOBHVPONLD-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexan-1-ol Chemical compound OCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F JCMNMOBHVPONLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- 125000000474 3-butynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CCPOGGQELUULQK-UHFFFAOYSA-N 3-methylfluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 CCPOGGQELUULQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- MRWWWZLJWNIEEJ-UHFFFAOYSA-N 4,4,5,5-tetramethyl-2-propan-2-yloxy-1,3,2-dioxaborolane Chemical compound CC(C)OB1OC(C)(C)C(C)(C)O1 MRWWWZLJWNIEEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-naphthalen-1-ylethylamino)-4-oxobutanoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CCNC(=O)CCC(=O)O)=CC=CC2=C1 CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006043 5-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- IGDNJMOBPOHHRN-UHFFFAOYSA-N 5h-benzo[b]phosphindole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3PC2=C1 IGDNJMOBPOHHRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYASLTYCYTYKFC-UHFFFAOYSA-N 9-methylidenefluorene Chemical compound C1=CC=C2C(=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 ZYASLTYCYTYKFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N Amitrole Chemical group NC1=NC=NN1 KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYNSBQPICQTCGU-UHFFFAOYSA-N Benzopyrane Chemical compound C1=CC=C2C=CCOC2=C1 KYNSBQPICQTCGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007125 Buchwald synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQFBYFPFKXHELB-UHFFFAOYSA-N Chalcone Natural products C=1C=CC=CC=1C(=O)C=CC1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000284156 Clerodendrum quadriloculare Species 0.000 description 1
- PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N Cyclobutane Chemical compound C1CCC1 PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N Cyclopropane Chemical compound C1CC1 LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical class [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005727 Friedel-Crafts reaction Methods 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical compound CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019440 Mg(OH) Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical group [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007099 Yamamoto allylation reaction Methods 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULGYAEQHFNJYML-UHFFFAOYSA-N [AlH3].[Ca] Chemical compound [AlH3].[Ca] ULGYAEQHFNJYML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N [Li].[Al] Chemical compound [Li].[Al] JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHYLKGDXMUDNEO-UHFFFAOYSA-N [Mg].[In] Chemical compound [Mg].[In] JHYLKGDXMUDNEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N aluminum magnesium Chemical compound [Mg].[Al] SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 1
- QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N carbon disulfide-14c Chemical compound S=[14C]=S QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 235000005513 chalcones Nutrition 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 1
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 1
- SNRCKKQHDUIRIY-UHFFFAOYSA-L cyclopenta-1,4-dien-1-yl(diphenyl)phosphane;dichloromethane;dichloropalladium;iron(2+) Chemical compound [Fe+2].ClCCl.Cl[Pd]Cl.C1=C[CH-]C(P(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1.C1=C[CH-]C(P(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 SNRCKKQHDUIRIY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NXQGGXCHGDYOHB-UHFFFAOYSA-L cyclopenta-1,4-dien-1-yl(diphenyl)phosphane;dichloropalladium;iron(2+) Chemical compound [Fe+2].Cl[Pd]Cl.[CH-]1C=CC(P(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1.[CH-]1C=CC(P(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 NXQGGXCHGDYOHB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000001212 derivatisation Methods 0.000 description 1
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004431 deuterium atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004986 diarylamino group Chemical group 0.000 description 1
- XXPBFNVKTVJZKF-UHFFFAOYSA-N dihydrophenanthrene Natural products C1=CC=C2CCC3=CC=CC=C3C2=C1 XXPBFNVKTVJZKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N dimethylacetylene Natural products CC#CC XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008376 fluorenones Chemical class 0.000 description 1
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005980 hexynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHJOPRPDWDXEIY-UHFFFAOYSA-N indium lithium Chemical compound [Li].[In] LHJOPRPDWDXEIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YZASAXHKAQYPEH-UHFFFAOYSA-N indium silver Chemical compound [Ag].[In] YZASAXHKAQYPEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 238000009830 intercalation Methods 0.000 description 1
- 230000002687 intercalation Effects 0.000 description 1
- 235000013847 iso-butane Nutrition 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- DZFWNZJKBJOGFQ-UHFFFAOYSA-N julolidine Chemical compound C1CCC2=CC=CC3=C2N1CCC3 DZFWNZJKBJOGFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- GCICAPWZNUIIDV-UHFFFAOYSA-N lithium magnesium Chemical compound [Li].[Mg] GCICAPWZNUIIDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N magnesium silver Chemical compound [Mg].[Ag] SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- CWOMTHDOJCARBY-UHFFFAOYSA-N n,n,3-trimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC(C)=C1 CWOMTHDOJCARBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N octadecyltrimethoxysilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N oxazine, 1 Chemical compound C([C@@H]1[C@H](C(C[C@]2(C)[C@@H]([C@H](C)N(C)C)[C@H](O)C[C@]21C)=O)CC1=CC2)C[C@H]1[C@@]1(C)[C@H]2N=C(C(C)C)OC1 AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N palladium(2+) Chemical compound [Pd+2] MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Chemical class 0.000 description 1
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 235000015320 potassium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical compound CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPFGFHJALYCVMO-UHFFFAOYSA-L rubidium carbonate Chemical compound [Rb+].[Rb+].[O-]C([O-])=O WPFGFHJALYCVMO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000026 rubidium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- KBXGMZXLKCUSEB-UHFFFAOYSA-M sodium;[ethyl(oxidosulfinothioyl)amino]ethane Chemical compound [Na+].CCN(CC)S([O-])=S KBXGMZXLKCUSEB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoethylene Chemical group N#CC(C#N)=C(C#N)C#N NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoquinodimethane Chemical compound N#CC(C#N)=C1C=CC(=C(C#N)C#N)C=C1 PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N thiopyran Chemical compound S1C=CC=C=C1 IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C65/00—Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
- C07C65/21—Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups containing ether groups, groups, groups, or groups
- C07C65/24—Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups containing ether groups, groups, groups, or groups polycyclic
- C07C65/26—Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups containing ether groups, groups, groups, or groups polycyclic containing rings other than six-membered aromatic rings
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/615—Polycyclic condensed aromatic hydrocarbons, e.g. anthracene
- H10K85/626—Polycyclic condensed aromatic hydrocarbons, e.g. anthracene containing more than one polycyclic condensed aromatic rings, e.g. bis-anthracene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/76—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C69/84—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of monocyclic hydroxy carboxylic acids, the hydroxy groups and the carboxyl groups of which are bound to carbon atoms of a six-membered aromatic ring
- C07C69/92—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of monocyclic hydroxy carboxylic acids, the hydroxy groups and the carboxyl groups of which are bound to carbon atoms of a six-membered aromatic ring with etherified hydroxyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C211/00—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C211/43—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
- C07C211/57—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings being part of condensed ring systems of the carbon skeleton
- C07C211/61—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings being part of condensed ring systems of the carbon skeleton with at least one of the condensed ring systems formed by three or more rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C229/00—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C229/02—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton
- C07C229/32—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being unsaturated and containing rings other than six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C229/00—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C229/52—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/01—Sulfonic acids
- C07C309/28—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
- C07C309/41—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton containing singly-bound oxygen atoms bound to the carbon skeleton
- C07C309/42—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton containing singly-bound oxygen atoms bound to the carbon skeleton having the sulfo groups bound to carbon atoms of non-condensed six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/587—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring
- C07C49/687—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing halogen
- C07C49/697—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing halogen containing six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
- C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
- C07D209/82—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
- C07D209/86—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/50—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D333/76—Dibenzothiophenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D455/00—Heterocyclic compounds containing quinolizine ring systems, e.g. emetine alkaloids, protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine
- C07D455/03—Heterocyclic compounds containing quinolizine ring systems, e.g. emetine alkaloids, protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine containing quinolizine ring systems directly condensed with at least one six-membered carbocyclic ring, e.g. protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine
- C07D455/04—Heterocyclic compounds containing quinolizine ring systems, e.g. emetine alkaloids, protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine containing quinolizine ring systems directly condensed with at least one six-membered carbocyclic ring, e.g. protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine containing a quinolizine ring system condensed with only one six-membered carbocyclic ring, e.g. julolidine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/06—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing organic luminescent materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/615—Polycyclic condensed aromatic hydrocarbons, e.g. anthracene
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/631—Amine compounds having at least two aryl rest on at least one amine-nitrogen atom, e.g. triphenylamine
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/631—Amine compounds having at least two aryl rest on at least one amine-nitrogen atom, e.g. triphenylamine
- H10K85/633—Amine compounds having at least two aryl rest on at least one amine-nitrogen atom, e.g. triphenylamine comprising polycyclic condensed aromatic hydrocarbons as substituents on the nitrogen atom
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/649—Aromatic compounds comprising a hetero atom
- H10K85/657—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons
- H10K85/6572—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons comprising only nitrogen in the heteroaromatic polycondensed ring system, e.g. phenanthroline or carbazole
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/649—Aromatic compounds comprising a hetero atom
- H10K85/657—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons
- H10K85/6576—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons comprising only sulfur in the heteroaromatic polycondensed ring system, e.g. benzothiophene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
- C07C2603/02—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems
- C07C2603/04—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings
- C07C2603/06—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members
- C07C2603/10—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members containing five-membered rings
- C07C2603/12—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members containing five-membered rings only one five-membered ring
- C07C2603/18—Fluorenes; Hydrogenated fluorenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2211/00—Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
- C09K2211/10—Non-macromolecular compounds
- C09K2211/1003—Carbocyclic compounds
- C09K2211/1007—Non-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2211/00—Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
- C09K2211/10—Non-macromolecular compounds
- C09K2211/1003—Carbocyclic compounds
- C09K2211/1011—Condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2211/00—Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
- C09K2211/10—Non-macromolecular compounds
- C09K2211/1003—Carbocyclic compounds
- C09K2211/1014—Carbocyclic compounds bridged by heteroatoms, e.g. N, P, Si or B
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2211/00—Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
- C09K2211/10—Non-macromolecular compounds
- C09K2211/1018—Heterocyclic compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/14—Carrier transporting layers
- H10K50/16—Electron transporting layers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Description
項1.式(1)で表される化合物。
[式中、
nは、2以上20以下の整数を表す。
R1およびR2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ar1は、単環若しくは縮合環のアリーレン基、単環若しくは縮合環の2価の複素環基または-N(RX1)-で表される基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するAr1は、同一でも異なっていてもよい。RX1は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
但し、Ar1の少なくとも2つは式(2)で表される基を表す。複数存在する式(2)で表される基は、同一でも異なっていてもよい。]
[式中、
X1aおよびX1bは、それぞれ独立に、単結合、酸素原子、硫黄原子、-S(=O)-で表される基、-S(=O)2-で表される基、-C(=O)-で表される基、-C(R1g)2-で表される基、-Si(R1g)2-で表される基、-NR1g-で表される基またはC(R1g)2-C(R1g)2-で表される基を表す。但し、X1aおよびX1bの少なくとも1つは、-C(R1g)2-で表される基または-NR1g-で表される基を表す。
R1gは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R1gが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。R1gが複数存在し、それらが互いに結合して環を形成する場合、典型的には、それらの基が結合する原子とともに環を形成する。
R1a、R1b、R1c、R1d、R1eおよびR1fは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基、アミノ基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R1aとR1g、R1bとR1c、R1cとR1g、R1gとR1d、R1dとR1e、および、R1fとR1gは、それぞれ結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。
但し、前記式(1)中、前記式(2)で表される基の少なくとも2つにおいて、R1gの少なくとも1つが式(2-1)で表される基または式(2-2)で表される基である。
但し、前記式(1)中、全てのAr1が前記式(2)で表される基であり、前記全ての式(2)で表される基における全てのX1aが単結合であり、且つ全てのX1bが-C(R1g)2-で表される基である場合、前記全ての式(2)で表される基のうちの少なくとも1つにおいて、R1a、R1b、R1eおよびR1fのうちの少なくとも1つは、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基、アミノ基およびハロゲン原子(当該アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基またはアミノ基は置換基を有していてもよい)からなる群より選択される少なくとも1種の基を表す。]
[式中、
R3は、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
n1、a1およびb1は、それぞれ独立に0以上の整数を表し、m2は1以上の整数を表すが、a1およびb1は、前記式(2-1)で表される基の電荷が0となるように選択される。n1、a1およびb1が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
Q1は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子、または硫黄原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Q1が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Y1は、-CO2 -、-SO3 -、-SO2 -、-PO3 2-、-CO2Y1’、-SO3Y1’、-SO2Y1’、-P(=O)(-OY1’)(-O-)または-P(=O)(-OY1’)2を表す。Y1が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。Y1’は、置換基を有していてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基または水素原子を表す。但し、Y1が-CO2Y1’、-SO3Y1’、-SO2Y1’、または-P(=O)(-OY1’)2である場合、該Y1に直接結合するM1の添え字a1は0であり、且つ、該M1に直接結合するZ1の添え字b1は0である。Y1が-CO2 -、-SO3 -、-SO2 -、-PO3 2-または-P(=O)(-OY1’)(-O-)である場合、該Y1に直接結合するM1の添え字a1は1以上の整数である。Y1’が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
M1は、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオンまたはアンモニウムカチオンを表し、このアンモニウムカチオンは置換基を有していてもよい。M1が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Z1は、F-、Cl-、Br-、I-、OH-、B(Ra)4 -、RaSO3 -、RaCOO-、NO3 -、SO4 2-、HSO4 -、PO4 3-、HPO4 2-、H2PO4 -、BF4 -またはPF6 -を表す。Raは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Z1が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
[式中、
n2およびb2は、それぞれ独立に0以上の整数を表し、a2およびm3は、それぞれ独立に1以上の整数を表すが、a2およびb2は、前記式(2-2)で表される基の電荷が0となるように選択される。n2、a2およびb2が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
R4は、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Q2は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子または硫黄原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Q2が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Y2は、-C+Rc 2、-N+Rc 3、-P+Rc 3、-S+Rc 2、または-I+Rc 2を表す。Rcは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRcは、同一でも異なっていてもよい。Y2が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
M2は、F-、Cl-、Br-、I-、OH-、B(Rb)4 -、RbSO3 -、RbCOO-、BF4 -、SbCl6 -またはSbF6 -を表す。Rbは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Rbが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。M2が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Z2は、アルカリ金属カチオンまたはアルカリ土類金属カチオンを表す。Z2が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
[式中、
p1は2以上の整数を表す。p2およびp3は、それぞれ独立に、1以上の整数を表す。但し、p1とp2とp3との合計は4以上20以下である。
Ar2は、前記式(2)で表される基以外の単環若しくは縮合環のアリーレン基または前記式(2)で表される基以外の単環若しくは縮合環の2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するAr2は、同一でも異なっていてもよい。
Ar3は、単環若しくは縮合環のアリーレン基、単環若しくは縮合環の2価の複素環基または-N(RX1)-で表される基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するAr3は、同一でも異なっていてもよい。
但し、Ar3の少なくとも2つは前記式(2)で表される基である。
R1、R2およびRX1は、前記と同じ意味を表す。]
[式中、
Ar2、p2およびp3は、前記と同じ意味を表す。
p4およびp8は、それぞれ独立に、1以上の整数を表す。p5、p6およびp7は、それぞれ独立に、0以上の整数を表す。但し、p2とp3とp4とp5とp6とp7とp8との合計は4以上、20以下の整数である。
Ar4は、式(2A)で表される基を表す。複数存在するAr4は、同一でも異なっていてもよい。
Ar6は、前記式(2)で表される基を表す。Ar6が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ar5は、前記式(2)で表される基以外の単環若しくは縮合環のアリーレン基、前記式(2)で表される基以外の単環若しくは縮合環の2価の複素環基または-N(RX1)-で表される基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ar6が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。R1、R2およびRX1は前記と同じ意味を表す。
[式中、
X2aおよびX2bは、それぞれ独立に、単結合、-C(R1g)2-で表される基または-NR1g-で表される基を表す。但し、X2aおよびX2bの一方は単結合であり、X2aおよびX2bの他方は-C(R1g)2-で表される基または-NR1g-で表される基である。
R1a、R1b、R1c、R1d、R1e、R1fおよびR1gは、前記と同じ意味を表す。] ]
[式中、
X2aおよびX2bは、それぞれ独立に、単結合、-C(R1g)2-で表される基または-NR1g-で表される基を表す。但し、X2aおよびX2bの一方は単結合であり、X2aおよびX2bの他方は-C(R1g)2-で表される基または-NR1g-で表される基である。
R1a、R1b、R1c、R1d、R1e、R1fおよびR1gは、前記と同じ意味を表す。]
[式中、
R1a、R1c、R1d、R1e、R1f、X2aおよびX2bは、前記と同じ意味を表す。
R1b’は、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基、アミノ基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R1b’とR1cとは、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。]
[式中、
n1、a1、b1、m2、Q1、Y1、M1およびZ1は、前記と同じ意味を表す。
n3は0以上の整数を表し、m4は1以上の整数を表す。n3が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
R6は、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Q3は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子または硫黄原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Q3が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Y3は、式(5)または式(6)で表される基を表す。Y3が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
-O-(R’O)a3-R’’ (5)
[式中、
a3は1以上の整数を表す。
R’は、アルキレン基、シクロアルキレン基またはアリーレン基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R’が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
R’’は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
R’’’は、炭化水素基を表し、この炭化水素基は置換基を有していてもよい。]
[式中、
Ar4aおよびAr4bは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。前記置換基が複数存在する場合、それらは互いに結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。
X4aおよびY4aは、それぞれ独立に、単結合、酸素原子、硫黄原子、-S(=O)-で表される基、-S(=O)2-で表される基、-C(=O)-で表される基、-SiR2-で表される基または-CR2-CR2-で表される基を表す。Rは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRは同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。複数存在するRが互いに結合して環を形成する場合、典型的には、それらの基が結合する原子とともに環を形成する。
Ar4aが有していてもよい置換基とR、および、Ar4bが有していてもよい置換基とRは、それぞれ結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。]
[式中、
X4bおよびY4bは、それぞれ独立に、単結合、酸素原子、硫黄原子または-CR2-CR2-で表される基を表す。但し、X4bおよびY4bの一方は、単結合を表す。Rは、前記と同じ意味を表す。
R4a、R4b、R4c、R4d、R4eおよびR4fは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基、アミノ基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R4bとR4c、R4cとR、R4dとR、R4aとR、R4fとR、R4dとR4eは、それぞれ結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。]
[式中、
Ar4aおよびAr4bは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。前記置換基が複数存在する場合、それらは互いに結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。
X4aおよびY4aは、それぞれ独立に、単結合、酸素原子、硫黄原子、-S(=O)-で表される基、-S(=O)2-で表される基、-C(=O)-で表される基、-SiR2-で表される基または-CR2-CR2-で表される基を表す。
Rは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRは同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。複数存在するRが互いに結合して環を形成する場合、典型的には、それらの基が結合する原子とともに環を形成する。
Ar4aが有していてもよい置換基とR、および、Ar4bが有していてもよい置換基とRは、それぞれ結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。]
[式中、
R1a、R1b、R1c、R1d、R1eおよびR1fは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基、アミノ基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R1aとR1g、R1bとR1c、R1dとR1e、および、R1fとR1gは、それぞれ結合して、それぞれが結合する原子とともに環構造を形成していてもよい。
X2b1は-C(R1g)2-で表される基または-NR1g-で表される基を表す。
R1gは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R1gが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい(R1gが複数存在し、それらが互いに結合して環を形成する場合、典型的には、それらの基が結合する原子とともに環を形成する。)。但し、R1gの少なくとも1つは、式(2-1)で表される基または式(2-2)で表される基である。
X11は、ハロゲン原子、またはB(ORC2)2(式中、RC2は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRC2は同一でも異なっていてもよく、互いに連結して、それぞれが結合する酸素原子とともに環構造を形成していてもよい。)を表す。
R1は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ar2は、式(2)で表される基以外の単環若しくは縮合環のアリーレン基、または、式(2)で表される基以外の単環若しくは縮合環の2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。]
[式中、
R3は、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
n1、a1およびb1は、それぞれ独立に、0以上の整数を表し、m2は1以上の整数を表すが、a1およびb1は、式(2-1)で表される基の電荷が0となるように選択される。n1、a1およびb1が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
Q1は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子、または硫黄原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Q1が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Y1は、-CO2 -、-SO3 -、-SO2 -、-PO3 2-、-CO2Y1’、-SO3Y1’、-SO2Y1’、-P(=O)(-OY1’)(-O-)または-P(=O)(-OY1’)2を表す。Y1が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。Y1’は、置換基を有していてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基または水素原子を表す。但し、Y1が-CO2Y1’、-SO3Y1’、-SO2Y1’、または-P(=O)(-OY1’)2である場合、該Y1に直接結合するM1の添え字a1は0であり、且つ、該M1に直接結合するZ1の添え字b1は0である。Y1が-CO2 -、-SO3 -、-SO2 -、-PO3 2-または-P(=O)(-OY1’)(-O-)である場合、該Y1に直接結合するM1の添え字a1は1以上の整数である。Y1’が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
M1は、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオンまたはアンモニウムカチオンを表し、このアンモニウムカチオンは置換基を有していてもよい。M1が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Z1は、F-、Cl-、Br-、I-、OH-、B(Ra)4 -、RaSO3 -、RaCOO-、NO3 -、SO4 2-、HSO4 -、PO4 3-、HPO4 2-、H2PO4 -、BF4 -またはPF6 -を表す。Raは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Z1が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
[式中、
n2およびb2は、それぞれ独立に、0以上の整数を表し、a2およびm3は、それぞれ独立に、1以上の整数を表すが、a2およびb2は、前記式(2-2)で表される基の電荷が0となるように選択される。n2、a2およびb2が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
R4は、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Q2は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子または硫黄原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Q2が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Y2は、-C+Rc 2、-N+Rc 3、-P+Rc 3、-S+Rc 2、または-I+Rc 2を表す。Rcは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRcは、同一でも異なっていてもよい。Y2が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
M2は、F-、Cl-、Br-、I-、OH-、B(Rb)4 -、RbSO3 -、RbCOO-、BF4 -、SbCl6 -またはSbF6 -を表す。Rbは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Rbが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。M2が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Z2は、アルカリ金属カチオンまたはアルカリ土類金属カチオンを表す。Z2が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
[式中、
X1aおよびX1bは、それぞれ独立に、単結合、酸素原子、硫黄原子、-S(=O)-で表される基、-S(=O)2-で表される基、-C(=O)-で表される基、-C(R1g)2-で表される基、-Si(R1g)2-で表される基、-NR1g-で表される基またはC(R1g)2-C(R1g)2-で表される基を表す。但し、X1aおよびX1bの少なくとも1つは、-C(R1g)2-で表される基または-NR1g-で表される基を表す。
R1a、R1b、R1c、R1d、R1e、R1fおよびR1gは、前記と同じ意味を表す。]
[式中、
R1a、R1c、R1d、R1e、R1fおよびX2b1は、前記と同じ意味を表す。
R1b’は、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基、アミノ基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R1b’とR1cは、それぞれ結合して、それぞれが結合する原子とともに環構造を形成していてもよい。
X12は、ハロゲン原子、またはB(ORC2)2(式中、RC2は、前記と同じ意味を表す。)で表される基を表す。複数存在するX12は、同一でも異なっていてもよい。]
[式中、
R13は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
X13は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、またはB(ORC2)2(式中、RC2は、前記と同じ意味を表す。)で表される基を表す。複数存在するX13は同一でも異なっていてもよい。]
本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。
アリーレン基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニレン基、ナフタレンジイル基、アントラセンジイル基、フェナントレンジイル基、ジヒドロフェナントレンジイル基、ナフタセンジイル基、フルオレンジイル基、ピレンジイル基、ペリレンジイル基、クリセンジイル基、および、これらの基が置換基を有する基が挙げられ、好ましくは、式(A-1)~式(A-20)で表される基である。アリーレン基は、これらの基が複数結合した基を含む。
本発明において、Ar1で示されるアリーレン基は単環または縮合環のアリーレン基を意味する。
本発明は、前記式(1)で表される化合物を提供する。
RX1としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基が好ましく、より好ましくはアリール基または1価の複素環基であり、更に好ましくはアリール基である。
式(2-1)で表される基について
-R3-{(Q1)n1-Y1(M1)a1(Z1)b1}m2 (2-1)
n1は、通常0~10の整数であり、式(1)で表される化合物の合成が容易になるので、好ましくは0~5の整数であり、より好ましくは0である。
[式中、
R3は、前記と同じ意味を表す。
(M2)+は、アルカリ金属カチオンを表す。
Y2’は、置換基を有していてもよい炭素数1~8の炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数1~8の複素環基または水素原子を表す。]
Y2’は、好ましくは水素原子である。
[式中、
a3、R’、R’’およびR’’’は、前記と同じ意味を表す。
Y3aは、酸素原子、硫黄原子または-NR’’-を表す。Y3aが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Y3aは、好ましくは酸素原子である。
n2は、通常0~10の整数であり、本発明の発光素子の輝度寿命が優れるので、好ましくは0~8の整数であり、より好ましくは0~2の整数である。
前記式(2-1)または前記式(2-2)で表される基のうち、R1gは前記式(2-1)で表される基である場合が好ましい。
R1、R2、Ar2、Ar5、p2~p8は、前記と同じ意味を表す。
R1a1~R1f1、R1a2~R1f2、R1a3~R1f3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基、アミノ基、ハロゲン原子、式(2-1)で表される基または式(2-2)で表される基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
X1a3およびX1b3は、それぞれ独立に、単結合、酸素原子、硫黄原子、-S(=O)-で表される基、-S(=O)2-で表される基、-C(=O)-で表される基、-C(R1g)2-で表される基、-Si(R1g)2-で表される基、-NR1g-で表される基またはC(R1g)2-C(R1g)2-で表される基を表す。但し、X1a3およびX1b3の少なくとも1つは、-C(R1g)2-で表される基または-NR1g-で表される基を表す。R1gは前記と同じ意味を表す。
X2b1およびX2b2は、それぞれ独立に、-C(R1g)2-で表される基または-NR1g-で表される基を表し、R1gは前記と同じ意味を表す。ただし、X2b1における少なくとも1つのR1g、およびX2b2における少なくとも1つのR1gは式(2-1)で表される基または式(2-2)で表される基である。]
X1a3およびX1b3が、単結合、-C(R1g)2-で表される基または-NR1g-で表される基であり、かつ、X1a3およびX1b3の一方が単結合であることが好ましく、X1a3が単結合であることが好ましい。
[式中、
R1、R2、Ar2、Ar5、p2、p3、p5~p7、R1a1~R1f1、R1a2~R1f2、R1a3~R1f3、X1a3およびX1b3は、前記と同じ意味を表す。
X2b1およびX2b2は、それぞれ独立に、-C(R1g)2-で表される基または-NR1g-で表される基を表し、X2b1における少なくとも1つのR1g、およびX2b2における少なくとも1つのR1gは式(2-1)で表される基または式(2-2)で表される基である。
R1gは前記と同じ意味を表す。]
前記式(1C)において、p6が1以上の整数であり、X1a3およびX1b3が、単結合、-C(R1g)2-で表される基または-NR1g-で表される基であり、かつ、X1a3およびX1b3の一方が単結合であることが好ましく、X1a3が単結合であることがより好ましい。
前記式(2)で表される基以外のAr1の単環若しくは縮合環のアリーレン基および前記式(2)で表される基以外の単環若しくは縮合環の2価の複素環基としては、
ベンゼン環若しくは2個以上10個以下のベンゼン環のみが縮合した芳香族炭化水素環から、環を構成する水素原子2個を除いた基(該基は置換基を有していてもよい)または式(4)で表される基が好ましい。
ルート1(1)
A + 2B →
B-A-B + 2C →
C-B-A-B-C + 2D →
D-C-B-A-B-C-D + 2E →
E-D-C-B-A-B-C-D-E
ルート1(2)
A-A + 2B →
B-A-A-B + 2C →
C-B-A-A-B-C + 2D →
D-C-B-A-A-B-C-D + 2E →
E-D-C-B-A-A-B-C-D-E
ルート2の方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる
ルート2(1)、
E + D →
D-E + C →
C-D-E + B →
B-C-D-E ×2 + A →
E-D-C-B-A-B-C-D-E
ルート2(2)、
B-C-D-E ×2 + A-A →
E-D-C-B-A-A-B-C-D-E
ルート3の方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる
ルート3(1)
B-A-B + 2C-D → D-C-B-A-B-C-D
ルート3(2)
A-A + 2B-C → C-B-A-A-B-C
前記方法を元に、カップリング反応に必要な反応性基の導入や必要な官能基変換を適宜実施してもよい。
R1b’は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表す。
R1a、R1c~R1f、R1、Ar2、X11およびX2b1は、前記と同じ意味を表す。]
前記式(11-1)で表される化合物は、例えば、式(12)で表される化合物と、R1-Ar2-B(ORc2)2(Rc2は前記と同じ意味を表す)とのSuzukiカップリング、R1-Ar2-ZnX’(X’はハロゲン原子を表す)とのNegishiカップリング、R1-Ar2-SnRc3 3(Rc3はアルキル基を表す)とのStilleカップリングまたはR1-Ar2-MgX’(X’はハロゲン原子を表す)とのKumadaカップリングなどの方法で合成することができる。R1b’に隣接するX12は、R1b’の立体障害により反応性が下がるため、R1eに隣接するX12が選択的に反応する。
[式中、
R1gは、前記と同じ意味を表す。
R13は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
X13は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、またはB(ORC2)2(式中、RC2は、前記と同じ意味を表す。)で表される基を表す。]
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基および1価の複素環基の好ましい範囲、例示は共通する用語の説明に記載されたものと同じである。R13が有していてもよい置換基としては、共通する用語の説明に記載された置換基に加え、前記式(2-1A)または前記式(2-2A)で表される置換基を有していてもよい。
前記式(11)で表される化合物としては、下記式で表される化合物が例示される。
本発明は、式(1)で表される化合物を含む組成物を提供する。式(1)で表される化合物は、発光素子の各層を製造するために用いることが好ましい。従って、本発明の組成物は、本発明の式(1)で表される化合物と、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料、酸化防止剤および溶媒からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物とを含有する。本発明の組成物は塗布法で成膜することが可能であり、少なくとも1種の溶媒を含有する組成物が好ましい。
本発明は、前記式(1)で表される化合物を含有する発光素子を提供する。本発明の発光素子において、有機層(即ち、式(1)で表される化合物を含有する層)は、好ましくは、電子注入層および電子輸送層からなる群から選ばれる1種以上の層であり、より好ましくは、電子輸送層である。本発明の発光素子は、更に、基板を有していてもよい。
基板上に陽極が設けられ、その上層に発光層が積層され、その上層に式(1)で表される化合物を含有する層が積層され、更にその上層に陰極が積層された発光素子、ならびに、
基板上に陰極が設けられ、その上層に式(1)で表される化合物を含有する層が積層され、その上層に発光層が積層され、更にその上層に陽極が積層された発光素子である。
、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、および、発光材料は、発光素子の作製において、各々、正孔輸送層、電子輸送層、および、発光層に隣接する層の形成時に使用される溶媒に溶解する場合、該溶媒に該材料が溶解することを回避するために、該材料が架橋基を有することが好ましい。架橋基を有する材料を用いて各層を形成した後、該架橋基を架橋させることにより、該層を不溶化させることができる。
(a)陽極-正孔注入層-発光層-陰極
(b)陽極-発光層-電子注入層-陰極
(c)陽極-正孔注入層-発光層-電子注入層-陰極
(d)陽極-正孔注入層-正孔輸送層-発光層-陰極
(e)陽極-正孔注入層-正孔輸送層-発光層-電子注入層-陰極
(f)陽極-発光層-電子輸送層-電子注入層-陰極
(g)陽極-正孔注入層-発光層-電子輸送層-電子注入層-陰極
(h)陽極-正孔注入層-正孔輸送層-発光層-電子輸送層-電子注入層-陰極
本発明の発光素子は、更に電極との密着性向上や電極からの電荷注入の改善のために、電極に隣接して絶縁層を設けてもよく、また、界面の密着性向上や混合の防止等のために正孔輸送層、電子輸送層または発光層の界面に薄いバッファー層を挿入してもよい。積層する層の順番や数、および各層の厚さは、発光効率や輝度寿命を勘案して調整すればよい。
本発明の発光素子が有し得る基板は、電極を形成し、有機層を形成する際に化学的に変化しないものであればよく、例えば、ガラス、プラスチック、高分子フィルム、金属フィルム、シリコン等の基板、これらを積層した基板が用いられる。
本発明の発光素子において、正孔注入材料としては、カルバゾールおよびその誘導体、トリアゾールおよびその誘導体、オキサゾールおよびその誘導体、オキサジアゾールおよびその誘導体、イミダゾールおよびその誘導体、フルオレンおよびその誘導体、ポリアリールアルカンおよびその誘導体、ピラゾリンおよびその誘導体、ピラゾロンおよびその誘導体、フェニレンジアミンおよびその誘導体、アリールアミンおよびその誘導体、スターバースト型アミン、フタロシアニンおよびその誘導体、アミノ置換カルコンおよびその誘導体、スチリルアントラセンおよびその誘導体、フルオレノンおよびその誘導体、ヒドラゾンおよびその誘導体、スチルベンおよびその誘導体、シラザンおよびその誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ(N-ビニルカルバゾール)およびその誘導体、有機シランおよびその誘導体、およびこれらを含む重合体;酸化バナジウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の導電性金属酸化物;ポリアニリン、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子およびオリゴマー;ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)・ポリスチレンスルホン酸、ポリピロール等の有機導電性材料およびこれらを含む重合体;アモルファスカーボン;テトラシアノキノジメタンおよびその誘導体(例えば、2,3,5,6-テトラフルオロ-7,7,8,8-テトラシアノキノジメタン)、1,4-ナフトキノンおよびその誘導体、ジフェノキノンおよびその誘導体、ポリニトロ化合物等のアクセプター性有機化合物;オクタデシルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が好適に使用できる。
本発明の発光素子において、正孔輸送材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類され、好ましくは高分子化合物であり、より好ましくは架橋基を有する高分子化合物である。
本発明の発光素子において、発光材料は、単独で使用してもよいが、通常、ホスト材料と組み合わせて使用する。ホスト材料は、発光材料の凝集による発光効率の低下を抑制する目的、電荷を輸送し駆動電圧の低下を達成する目的等のための材料である。
RD1~RD8、RD11~RD26は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RD1~RD8、RD11~RD26が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
ZAおよびZBはそれぞれ独立に、-CRD21=で表される基又は-N=で表される基を表す。ZAおよびZBが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。RD21は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RD21が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
-AD1---AD2-は、アニオン性の2座配位子を表し、AD1およびAD2は、それぞれ独立に、イリジウム原子と結合する炭素原子、酸素原子または窒素原子を表し、これらの原子は環を構成する原子であってもよい。-AD1---AD2-が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
nD1は、1、2または3を表し、nD2は、1または2を表す。]
Ir-Aで表されるイリジウム錯体としては、式Ir-4~Ir-6で表されるイリジウム錯体が好ましい。
RD1~RD8、RD11~RD26、ZA、ZB、-AD1---AD2-およびnD1は、前記と同じ意味を表す。]
式Ir-1で表される金属錯体において、好ましくはRD1~RD8の少なくとも1つは式(D-A)で表される基である。
mDA1~mDA3は、それぞれ独立に、0以上の整数を表す。
GDAは、窒素原子、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ArDA1~ArDA3は、それぞれ独立に、アリーレン基または2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ArDA1~ArDA3が複数ある場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
TDAは、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数あるTDAは、同一でも異なっていてもよい。]
mDA1~mDA3は、好ましくは5以下の整数であり、より好ましくは0または1である。
式Ir-1で表される金属錯体としては、好ましくは式Ir-11~Ir-13で表される金属錯体である。式Ir-2で表される金属錯体としては、好ましくは式Ir-21で表される金属錯体である。式Ir-3で表される金属錯体としては、好ましくは式Ir-31~Ir-33で表される金属錯体である。式Ir-4で表される金属錯体としては、好ましくは式Ir-41~Ir-43で表されるイリジウム錯体である。式Ir-5で表される金属錯体としては、好ましくは式Ir-51~Ir-53で表されるイリジウム錯体である。式Ir-6で表される金属錯体としては、好ましくは式Ir-61~Ir-63で表されるイリジウム錯体である。
三重項発光錯体としては、例えば、以下に示す金属錯体が挙げられる。
ホスト材料に用いられる低分子化合物としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
本発明の発光素子において、式(1)で表される化合物以外の電子輸送材料としては、公知のものが使用でき、トリアゾールおよびその誘導体、オキサゾールおよびその誘導体、オキサジアゾールおよびその誘導体、イミダゾールおよびその誘導体、フルオレンおよびその誘導体、ベンゾキノンおよびその誘導体、ナフトキノンおよびその誘導体、アントラキノンおよびその誘導体、テトラシアノアントラキノジメタンおよびその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレンおよびその誘導体、ジフェノキノンおよびその誘導体、アントラキノジメタンおよびその誘導体、アントロンおよびその誘導体、チオピランジオキシドおよびその誘導体、カルボジイミドおよびその誘導体、フルオレニリデンメタンおよびその誘導体、ジスチリルピラジンおよびその誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニンおよびその誘導体、8-キノリノールおよびその誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シランおよびその誘導体、8-ヒドロキシキノリンおよびその誘導体の金属錯体、ポリキノリンおよびその誘導体、ポリキノキサリンおよびその誘導体、ポリフルオレンおよびその誘導体等が挙げられる。これらのうち、トリアゾールおよびその誘導体、オキサジアゾールおよびその誘導体、ベンゾキノンおよびその誘導体、アントラキノンおよびその誘導体、並びに8-ヒドロキシキノリンおよびその誘導体の金属錯体、ポリキノリンおよびその誘導体、ポリキノキサリンおよびその誘導体、ポリフルオレンおよびその誘導体が好ましい。
本発明の発光素子において、式(1)で表される化合物以外の電子注入材料としては、公知の化合物が使用でき、トリアゾールおよびその誘導体、オキサゾールおよびその誘導体、オキサジアゾールおよびその誘導体、イミダゾールおよびその誘導体、フルオレンおよびその誘導体、ベンゾキノンおよびその誘導体、ナフトキノンおよびその誘導体、アントラキノンおよびその誘導体、テトラシアノアントラキノジメタンおよびその誘導体、フルオレノンおよびその誘導体、ジフェニルジシアノエチレンおよびその誘導体、ジフェノキノンおよびその誘導体、アントラキノジメタンおよびその誘導体、アントロンおよびその誘導体、チオピランジオキシドおよびその誘導体、カルボジイミドおよびその誘導体、フルオレニリデンメタンおよびその誘導体、ジスチリルピラジンおよびその誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニンおよびその誘導体、8-キノリノールおよびその誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体等が挙げられる。
すなわち、陰極から発光層に電子を注入する際、電子注入・輸送層に2種以上の電子注入・輸送性化合物が含まれる場合、陰極側に隣接する層からはLUMO値の小さい電子注入・輸送性化合物が電子を受け取り、電子注入・輸送層内の2種の化合物間で電子の受け渡しが行われ、LUMO値の大きい電子注入・輸送性化合物から発光層への電子が受け渡されるため、電子の注入障壁が下がり、素子特性が改善すると考えられる。本発明の2種以上の化合物を含む場合が好ましい。
陽極の材料としては、例えば、導電性の金属酸化物、半透明の金属が挙げられ、好ましくは、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ;インジウム・スズ・オキサイド(ITO)、インジウム・亜鉛・オキサイド等の導電性化合物;銀とパラジウムと銅との複合体(APC);NESA、金、白金、銀、銅である。
陽極は、これらの材料の1種または2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
陰極の材料としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、亜鉛、インジウム等の金属;それらのうち2種以上の合金;それらのうち1種以上と、銀、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうち1種以上との合金;並びに、グラファイトおよびグラファイト層間化合物が挙げられる。合金としては、例えば、マグネシウム-銀合金、マグネシウム-インジウム合金、マグネシウム-アルミニウム合金、インジウム-銀合金、リチウム-アルミニウム合金、リチウム-マグネシウム合金、リチウム-インジウム合金、カルシウム-アルミニウム合金、金属ナノ粒子、金属ナノワイヤー、導電性金属酸化物のナノ粒子が挙げられる。
陰極は、単層構造であってもよいし多層構造としてもよい。
本発明の発光素子は、例えば、基板上に各層を順次積層することにより製造することができる。具体的には、基板上に陽極を設け、その上に正孔注入層、正孔輸送層等の層を設け、その上に発光層を設け、その上に電子輸送層、電子注入層等の層を設け、更にその上に、陰極を積層することにより、発光素子を製造することができる。他の製造方法としては、基板上に陰極を設け、その上に電子注入層、電子輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層等の層を設け、更にその上に、陽極を積層することにより、発光素子を製造することができる。更に他の製造方法としては、陽極または陽極上に各層を積層した陽極側基材と陰極または陰極上に各層を積層させた陰極側基材とを、対向させて接合することにより製造することができる。
発光素子を用いて面状の発光を得るためには、面状の陽極と陰極が重なり合うように配置すればよい。パターン状の発光を得るためには、面状の発光素子の表面にパターン状の窓を設けたマスクを設置する方法、非発光部にしたい層を極端に厚く形成し実質的に非発光とする方法、陽極もしくは陰極、または両方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらのいずれかの方法でパターンを形成し、いくつかの電極を独立にON/OFFできるように配置することにより、数字、文字等を表示できるセグメントタイプの表示装置が得られる。ドットマトリックス表示装置とするためには、陽極と陰極を共にストライプ状に形成して直交するように配置すればよい。複数の種類の発光色の異なる高分子化合物を塗り分ける方法、カラーフィルターまたは蛍光変換フィルターを用いる方法により、部分カラー表示、マルチカラー表示が可能となる。ドットマトリックス表示装置は、パッシブ駆動も可能であるし、TFT等と組み合わせてアクティブ駆動も可能である。これらの表示装置は、コンピュータ、テレビ、携帯端末等のディスプレイに用いることができる。面状の発光素子は、液晶表示装置のバックライト用の面状光源、または、面状の照明用光源として好適に用いることができる。フレキシブルな基板を用いれば、曲面状の光源、および、表示装置としても使用できる。
本発明の発光素子は、発光素子の駆動電圧低減し、輝度寿命を向上させるため、加熱処理を行ってもよい。加熱温度としては、40℃~200℃が好ましい。加熱時間としては、1分~3時間が好ましい。
測定試料を約2mg/mLの濃度になるようにクロロホルムまたはテトラヒドロフランに溶解させ、LC-MS(Agilent製、商品名:1290 Infinity LCおよび6230 TOF LC/MS)に約1μL注入した。LC-MSの移動相には、アセトニトリルおよびテトラヒドロフランの比率を変化させながら用い、1.0mL/分の流量で流した。カラムは、SUMIPAX ODS Z-CLUE(住化分析センター製、内径:4.6mm、長さ:250mm、粒径3μm)を用いた。
測定試料をトルエン、テトラヒドロフランまたはクロロホルムのいずれかの溶媒に任意の濃度で溶解させ、DART用TLCプレート(テクノアプリケーションズ社製、商品名:YSK5-100)上に塗布し、TLC-MS(日本電子製、商品名:JMS-T100TD(The AccuTOF TLC))を用いて測定した。測定時のヘリウムガス温度は、200~400℃の範囲で調節した。
化合物の純度の指標として、ガスクロマトグラフィー(GC)面積百分率の値を用いた。この値は、特に記載がない限り、GC(Agilent社製、商品名:Agilent7820)での値とする。この際、測定する化合物は、0.01~0.2質量%の濃度になるようにテトラヒドロフラン又はクロロホルムに溶解させ、濃度に応じてGCに1~10μL注入した。キャリヤーはヘリウムを用い、1.0mL/分の流量で流した。カラムオーブンは50℃~300℃まで変化させながら用いた。ヒーター温度は注入口280℃、検出器320℃とした。カラムは、SGE製BPX-5(30m×0.25mm×0.25μm)を用いた。
ブロモヨードフルオレンは、東京化成工業より購入した。
TLC-MS(DART positive):m/z=320[M]+
1H-NMR(CD2Cl2,400MHz):δ(ppm)=7.81(d,1H),7.78-7.76(m,1H),7.70-7.59(m,5H),7.52-7.48(m,1H),7.47-7.41(m,2H),7.36-7.31(m,1H),3.95(s,2H).
遮光した反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物A-1(12.0g)、二酸化マンガン(48.8g)、およびモノクロロベンゼン(363.9g)を加え、60℃で3時間攪拌した。得られた反応液を40℃まで冷却した後にろ過し、得られたろ液を減圧濃縮して室温まで冷却することにより懸濁液を得た。得られた懸濁液にメタノールを加えて撹拌し、得られた混合物をろ過し、得られた固体をメタノールで洗浄した。得られた固体をトルエンおよびメタノールの混合溶媒を用いて晶析を行った後、減圧乾燥させることにより、化合物A-2(9.3g)を橙色固体として得た。化合物A-2のHPLC面積百分率値は99.4%を示した。検出波長は285nmであった。
TLC-MS(DART positive):m/z=335[M+H]+
遮光した反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物A-2(7.0g)、サリチル酸エチル(27.8g)、メルカプト酢酸(0.2g)、およびメタンスルホン酸(17.9g)を加え、65℃で6時間30分攪拌し、反応液A-3-1を得た。
TLC-MS(DART positive):m/z=648[M]+
1H-NMR(CD2Cl2,400MHz):δ(ppm)=10.76(S,2H),7.86(d,1H),7.75-7.64(m,4H),7.59-7.51(m,5H),7.46-7.39(m,2H),7.38-7.30(m,3H),6.89(d,2H),4.31(q,4H),1.27(t,6H).
ジエチレングリコール 2-ブロモエチルメチルエーテルは、東京化成工業より購入した。
LC-MS(ESI positive):m/z=979[M+K]+
1H-NMR(CD2Cl2,400MHz):δ(ppm)=7.85(d,1H),7.71(d,1H),7.66(dd,1H),7.60-7.51(m,7H),7.45-7.40(m,2H),7.37-7.29(m,3H),6.92(d,2H),4.23(q,4H),4.16-4.12(m,4H),3.84-3.80(m,4H),3.70-3.66(m,4H),3,61-3.55(m,8H),3.50-3.46(m,4H),3.31(s,6H),1.27(t,6H).
化合物A-5は国際公開第2013/191086号に記載の方法に従って合成した。cataCXium A Pd G3は、Aldrich社より購入した。
LC-MS(ESI negative):m/z=2232[M+AcO]-
1H-NMR(CD2Cl2,400MHz):δ(ppm)=7.90-7.81(m,4H),7.69-7.63(m,4H),7.62-7.54(m,10H),7.45-7.29(m,14H),7.16(s,2H),6.92-6.86(m,4H),6.85-6.79(m,3H),4.24-4.15(m,8H),4.14-4.08(m,8H),3,83-3.77(m,8H),3.69-3.64(m,8H),3.60-3.53(m,16H),3.49-3.44(m,8H),3.31-3.28(m,12H),2.48-2.42(m,4H),2.32(s,6H),1.83(s,3H),1.53-1.45(m,4H),1.28-1.19(m,24H),0.87-0.80(m,6H).
遮光した反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物A-Et(4.6g)、メタノール(7.0g)、イオン交換水(6.9g)、水酸化カリウム(0.8g)、およびテトラヒドロフラン(23.2g)を加え、60℃で3時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却した後、塩酸とメチルイソブチルケトンを加えて撹拌し、イオン交換水で洗浄した。得られた有機層に硫酸マグネシウムを加えて撹拌し、得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮して粗生成物を得た。得られた粗生成物を酢酸ブチルおよびn-ヘプタンの混合溶媒を用いて晶析を行なった後、減圧乾燥させることにより、化合物A(3.7g)を白色固体として得た。HPLC面積百分率値は99.5%を示した。検出波長は300nmであった。
LC-MS(ESI negative):m/z=2060[M-H]-
1H-NMR(CD2Cl2,400MHz):δ(ppm)=10.90(br,4H),8.03(d,4H),7.93-7.84(m,4H),7.71-7.66(m,4H),7.62-7.56(m,6H),7.47-7.31(m,14H),7.15(s,2H),7.00-6.94(m,4H),6.85-6.79(m,3H),4.36-4.29(m,8H),3.91-3.84(m,8H),3.70-3.65(m,8H),3.64-3.59(m,8H),3.58-3.53(m,8H),3.48-3.43(m,8H),3.31-3.28(m,12H),2.50-2.42(m,4H),2.33(s,6H),1.84(s,3H),1.56-1.44(m,4H),1.29-1.19(m,12H),0.87-0.81(m,6H)
遮光した反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物A(1.2g)、メタノール(6.1g)、イオン交換水(1.2g)、水酸化セシウム一水和物(0.6g)、およびテトラヒドロフラン(18.1g)を加え、60℃で6時間攪拌した。得られた反応液を減圧濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー(イオン交換水およびメタノールの混合溶媒)により精製し、減圧濃縮、乾燥させ、更に、アセトニトリルで洗浄した後、減圧乾燥させることにより、化合物A-Cs(1.4g)を白色固体として得た。
1H-NMR(CD3OD,400MHz):δ(ppm)=7.84-7.75(m,4H),7.65(s,2H),7.59-7.49(m,8H),7.37-7.31(m,6H),7.30-7.21(m,6H),7.18-7.13(m,4H),7.10(d,2H),6.97(s,2H),6.88(d,4H),6.79-6.72(m,3H),4.14-4.05(m,8H),3.79-3.69(m,8H),3.63-3.58(m,8H),3.57-3.50(m,16H),3.47-3.42(m,8H),3.26-3.24(m,12H),2.44(t,4H),2.27(s,6H),1.77(s,3H),1.53-1.42(m,4H),1.22-1.12(m,12H),0.81-0.75(m,6H).
化合物B-1は国際公開第2017/170916号に記載の方法に従って合成した。
TLC-MS(DART):377.18([M+H]+、Exact Mass : 376.05)
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物B-2 20.00g、サリチル酸エチル 52.91g、メタンスルホン酸 89.40g、メルカプト酢酸 0.49gを加え、70℃で9時間攪拌した。得られた反応物にクロロホルム 60mlを加えた。別の反応容器を窒素置換し、メタノール600mlを取り氷浴で冷却した。反応物のクロロホルム溶液を滴下し、結晶を沈殿させ、30分攪拌後濾過し、メタノールで洗浄して粗生成物を得た。トルエンとアセトニトリルの混合溶媒から晶析し、22.55gの化合物B-3を得た。HPLC面積百分率は95.7%であった。検出波長は310nmであった。TLC-MS(DART):691.50([M+H]+、Exact Mass : 690.16)
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物B-3 15.29g、ジエチレングリコール 2-ブロモエチルメチルエーテル 12.07g、炭酸カリウム 9.17g、脱水DMF 72mlを加え、70℃で8.5時間攪拌した。トルエン 150ml加え氷浴で冷却し、水150mlを滴下した。分液し、有機相をイオン交換水で分液洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水後、濾過し溶媒を留去し粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン、トルエンおよびエタノールの混合溶媒)により精製し、減圧濃縮、乾燥させることにより、化合物B-4 19.59g得た。HPLC面積百分率は99.9%であった。検出波長は310nmであった。
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) = 1.28(6H、t)、2.19(3H、s)、2.32(6H、s)、3.34(6H、s)、3.50-3.53(4H、m)、3.60-3.65 (8H、m)、3.71-3.75(4H、m)、3.83-3.87(4H、m)、4.12-4.16(4H、m)、4.25(4H、q)、6.85(2H、d)、7.14-7.18(3H、m)、7.24(1H、dd) 、7.44-7.50(3H、m)、7.54-7.57(3H、m)、7.61(1H、d)、7.73(1H、d)
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物B-4 4.41g、化合物A-5 1.46g、炭酸ナトリウム 0.68g、cataCXium A Pd G3(0.008g)、Aliquat336 91mg、トルエン 21.9g、イオン交換水 12.0gを加え、80℃で5時間攪拌した。トルエンで希釈して分液し、有機相を希塩酸、イオン交換水で分液洗浄し、硫酸マグネシウムと活性炭を加え1時間攪拌した。セライトを敷いたフィルターを通して濾過し、トルエンで洗浄し、溶媒を留去し粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン、トルエンおよびエタノールの混合溶媒)により精製し、減圧濃縮、乾燥させることにより、化合物B-Et 4.31g得た。HPLC面積百分率は99.3%であった。
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) = 0.83(6H、t)、1.18-1.31(24H、m)、1.47-1.55(4H、m)、1.84(3H、s)、2.20(6H、s)、2.28(6H、s)、2.33(12H、s)、2.43-2.49(4H、m)、3.34(6H、s)、3.35(6H、s)、3.50-3.55(8H、m)、3.60-3.66 (16H、m)、3.71-3.75(8H、m)、3.83-3.87(8H、m)、4.11-4.15(8H、m)、4.18-4.25(8H、m)、6.79(1H、s)、6.81-6.85(6H、m)、7.14(2H、s)、7.15-7.19(6H、m)、7.28-7.34(4H、m) 、7.38(2H、s)、7.51(2H、s)、7.57(2H、d)、7.60-7.63(6H、m)、7.75(2H、d)、7.78(2H、d)
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物B-Et 4.53g、メタノール6.79g、イオン交換水 6.81g、水酸化カリウム 0.82g、およびテトラヒドロフラン 22.6gを加え、60℃で3時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却した後、塩酸とメチルイソブチルケトンを加えて撹拌し、イオン交換水で分液洗浄した。得られた有機層に硫酸マグネシウムを加えて撹拌し、得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮して粗生成物を得た。得られた粗生成物を酢酸エチルおよびn-ヘキサンの混合溶媒を用いて晶析を行なった後、減圧乾燥させることにより、化合物B 3.95gを得た。HPLC面積百分率値は99.9%を示した。
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) = 0.83(6H、t)、1.18-1.28(12H、m)、1.46-1.55(4H、m)、1.84(3H、s)、2.19(6H、s)、2.28(6H、s)、2.33(12H、s)、2.43-2.49(4H、m)、3.33(6H、s)、3.34(6H、s)、3.49-3.53(8H、m)、3.60-3.63 (8H、m)、3.64-3.68 (8H、m)、3.69-3.72(8H、m)、3.86-3.90 (8H、m)、4.28-4.32(8H、m) 6.79(1H、s)、6.82-6.88(6H、m)、7.11(2H、s)、7.18(4H、s)、7.25-7.33(6H、m) 、7.36(2H、s)、7.50(2H、s)、7.57-7.61(4H、m)、7.75(2H、d)、7.78(2H、d) 、8.14(4H、s) 、10.92(4H、s)
化合物C-1はAldrichより購入した。
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物C-Et(3.0g)、水酸化カリウム(0.55g)、テトラヒドロフラン(30ml)、メタノール(7.5ml)およびイオン交換水(7.5g)を加え、65℃で2時間撹拌した。その後、得られた反応液を室温まで冷却した後、塩酸水を加え撹拌した後、クロロホルムおよびイオン交換水を加えて分液洗浄した後、得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。得られたろ液を減圧濃縮することにより、固体を得た。得られた固体をテトラヒドロフランおよびへプタンの混合溶媒を用いて晶析した後、50℃で減圧乾燥させることにより、化合物C(1.9g)を得た。HPLC面積百分率値は99.5%であった。
化合物D-1は国際公開第2013/114976号に記載の方法に従って合成した。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)
δ(ppm) 0.65~0.74(4H、m)、0.83(6H、t)、0.99~1.23(20H、m)、1.26(12H、t)、1.72~1.79(4H、m)、2.31(6H、brs)、3.33(12H、s)、3.48~3.51(8H、m)、3.59~3.64(16H、m)、3.70~3.74(8H、m)、3.82~3.86(8H、m)、4.11~4.15(8H、m)、4.24(8H、q)、6.85(4H、d)、6.92~7.18(14H、m)、7.28~7.34(6H、m)、7.38~7.43(8H、m)、7.52~7.62(16H、m)、7.64~7.66(4H、m)、7.78~7.82(4H、m)
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物D-Et 1.95g、水酸化カリウム0.31g、テトラヒドロフラン 12ml、メタノール 3.5mlおよびイオン交換水 3.19gを加え、65℃で10時間撹拌した。その後、得られた反応液を室温まで冷却した後、塩酸水を加え撹拌した後、メチルイソブチルケトンを加えイオン交換水で分液洗浄した後、得られた有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。得られたろ液を減圧濃縮することにより粗生成物を得た。得られた粗生成物を酢酸エチルおよびへキサンの混合溶媒を用いて晶析した後、50℃で減圧乾燥させることにより、化合物D 2.12gを得た。HPLC面積百分率値は99.8%であった。検出波長は300nmであった。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)
δ(ppm) 0.65~0.74(4H、m)、0.83(6H、t)、1.00~1.29(20H、m)、1.73~1.80(4H、m)、2.33(6H、s)、3.33(12H、s)、3.49~3.52(8H、m)、3.60~3.63(8H、m)、3.64~3.67(8H、m)、3.69~3.73(8H、m)、3.87~3.90(8H、m)、4.29~4.33(8H、m)、6.88(4H、d)、6.99~7.12(16H、m)、7.29~7.34(6H、m)、7.38~7.43(8H、m)、7.46(2H、d)、7.53~7.56(8H、m)、7.59~7.64(4H、m)、7.80~7.84(4H、m)、8.19(4H、d)、10.98(4H、brs)
遮光した反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、3-メチル-9H-フルオレン-9-オン 20.00g、塩化亜鉛 29.54g、クロロホルム 200mlトリフルオロ酢酸100ml加え、氷浴で冷却した。N-ブロモスクシンイミド 36.64gを反応容器内の温度が10℃以下となるように分割して仕込んだ。氷浴を外し、5時間攪拌した。氷浴で冷却し、5%亜硫酸ナトリウム水溶液 240gを滴下し、クロロホルム 480mlを加え、イオン交換水で分液洗浄し、減圧濃縮することにより、粗生成物を得た。ヘプタンおよびトルエンの混合溶媒を用いて晶析を行い、化合物E-1を20.83g得た。HPLC面積百分率値は99.9%であった。
TLC-MS(DART)
349.88([M]+、Exact Mass : 349.89)
1H-NMR(CDCl3,400MHz)
δ(ppm) 2.47(3H、s)、7.33~7.37(2H、m)、7.59(1H、dd)、7.73(1H、d)、7.78(1H、s)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物E-1 20.67g、フェニルホウ酸 7.88g、リン酸カリウム 18.77g、テトラキシス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0) 2.59g、THF 310ml、イオン交換水 62ml加え、60℃で61時間攪拌した。クロロホルム 460mlを加え、イオン交換水で分液洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水後、濾過し、減圧濃縮することにより粗生成物を得た。ヘプタンおよびトルエンの混合溶媒を用いて晶析を行い、化合物E-2を9.53g得た。HPLC面積百分率値は99.9%であった。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)
δ(ppm) 2.47(3H、s)、7.35~7.40(2H、m)、7.43~7.48(2H、m)、7.53(1H、d)、7.60(2H、dd)、7.70(1H、dd)、7.79(1H、s)、7.86(1H、d)
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物E-2 6.90g、サリチル酸エチル17.4g、メルカプト酢酸 0.18gおよびメタンスルホン酸 22.6mlを加え、70℃で2.5分攪拌した。クロロホルムを加えて攪拌し、イオン交換水で分液洗浄し、得られた有機層を減圧濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をトルエンおよびメタノールの混合溶媒を用いて晶析を行なった後、減圧乾燥させることにより、化合物E-3 13.27gを得た。化合物E-3のHPLC面積百分率値は99.8%を示した。1H-NMR(CDCl3,400MHz)
δ(ppm) 1.28(6H、t)、2.50(3H、s)、4.31(4H、q)、6.89(2H、d)、7.29~7.36(3H、m)、7.39~7.44(2H、m)、7.50~7.55(4H、m)、7.59~7.62(1H、m)、7.65~7.67(3H、m)、7.79(1H、d)、10.77(2H、s)
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物E-3 11.53g、ジエチレングリコール 2-ブロモエチルメチルエーテル 9.23g、炭酸カリウム 7.04gおよびN,N-ジメチルホルムアミド 58mlを加え、75℃で20時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却した後、トルエンを加えて攪拌し、イオン交換水で分液洗浄した。得られた有機層に硫酸マグネシウムを加えて撹拌し、得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮して粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン、トルエンおよびエタノールの混合溶媒)により精製し、減圧乾燥させることにより、化合物E-4 17.95g得た。化合物E-4のHPLC面積百分率値は99.9%を示した。
TLC-MS(DART)
954.20([M]+、Exact Mass : 954.32)
1H-NMR(CDCl3,400MHz)
δ(ppm) 1.28(6H、t)、2.48(3H、s)、3.35(6H、s)、3.50~3.53(4H、m)、3.61~3.66(8H、m)、3.71~3.75(4H、m)、3.83~3.87(4H、m)、4.13~4.16(4H、m)、4.25(4H、q)、6.85(2H、d)、715~7.19(1H、m)、7.23~7.25(1H、m)、7.29~7.34(1H、m)、7.38~7.43(2H、m)、7.49(1H、s)、7.51~7.55(3H、m)、7.56~7.60(3H、m)、7.62(1H、s)、7.76(1H、d)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物E-4(2.46g)、化合物C-1(0.82g)、トルエン(11.48g)、Aliquat336(0.05g)、6重量%Na2CO3水溶液(6.96g)、cataCXium A Pd G3(4.54mg)を加え、80℃に加熱して6時間反応させた。
1H NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) = 0.78(6H、t)、1.01-1.27(32H、m)、1.88(2H、m)、2.21(2H、m)、2.35(6H、s)、2.40(4H、s)、3.33(12H、s)、3.50(8H、m)、3.55-3.63(16H、m)、3.72(8H、m)、3.83(8H、m)4.12(8H、t)、4.22(8H、q) 4.53(1H、quin)、6.84(4H、d)、7.09-7.20 (10H、m)、7.30-7.43(10H、m)、7.53-7.65(10H、m)、7.83(2H、d)、8.08(2H、dd)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物E-Et(1.68g)、水酸化カリウム(0.31g)、テトラヒドロフラン(8.4g)、メタノール(2.52g)、水(2.52g)を加え、60℃に加熱して3時間反応させた。
1H NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) = 0.79(6H、t)、1.01-1.27(24H、m)、1.89(2H、m)、2.23(2H、m)、2.40(3H、s)、2.43(3H、s)、3.33(12H、s)、3.50(8H、m)、3.56-3.63(8H、m)、3.64-3.68(8H、m)、3.87-3.71(8H、m)、3.87 (8H、m)、4.29(8H、m) 4.53(1H、quin)、6.84(4H、d)、7.09 (2H、m)、7.30-7.43(13H、m)、7.53(1H、s)、7.55(6H、m)、7.63(2H、dd)、7.71(2H、s)、7.84(2H、d)、8.03-8.12(2H、m)、8.12(4H、m)、10.95(4H、brs)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物B-4(2.50g)、化合物C-1(0.78g)、トルエン(10.9g)、Aliquat336(0.05g)、6重量%Na2CO3水溶液(6.60g)、cataCXium A Pd G3(4.3mg)を加え、80℃に加熱して4時間反応させた。
1H-NMR(CD2Cl2,400MHz)
δ(ppm) 0.75(6H、t)、0.99~1.28(38H、m)、1.90~2.06(2H、m)、2.18 (6H、s)、2.31(12H、s)、3.26(12H、s)、3.43(8H、m)、3.52(16H、m) 、3.64(8H、q)、3.77(8H、t)、4.10 (8H、t)、4.18 (8H、q)、4.61~4.71 (1H、m)、6.88(4H、d)、7.38 (6H、d)、7.56~7.65 (9H、m)、7.68~7.78 (5H、m)、7.88(4H、q)、8.09(6H、m)、
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物F-Et(1.65g)、水酸化カリウム(0.29g)、テトラヒドロフラン(14.7g)、メタノール(3.26g)、イオン交換水(4.13g)を加え、60℃に加熱して3.5時間反応させた。
1H-NMR(CD2Cl2,400MHz)
δ(ppm) 0.75(6H、t)、1.00~1.28(24H、m)、1.90~2.05(2H、m)、2.17 (6H、s)、2.31(14H、s)、3.25(12H、s)、3.45(8H、m)、3.51~3.65(24H、m)、3.84(8H、t)、4.30 (8H、t)、4.61~4.71 (1H、m)、6.95(4H、d)、7.19 (4H、s)、7.35~7.45(6H、m)、7.52~7.79 (10H、m)、7.89(4H、q)、8.08(6H、m)、10.88(4H、brs)
化合物G-1は国際公開第2013/191086号に記載の方法に従って合成した。
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物G-2(4.8g)、ジエチレングリコール 2-ブロモエチルメチルエーテル(5.3g)、炭酸カリウム(5.0g)およびN,N-ジメチルホルムアミド(53ml)を加え、100℃で3時間撹拌した。その後、得られた反応液を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよびイオン交換水を加え、分液洗浄した後、得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。得られたろ液を減圧濃縮することにより、オイル状化合物を得た。得られたオイルを、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサンおよび酢酸エチルの混合溶媒)により精製後、50℃で減圧濃縮、乾燥させることにより、化合物G-3(6.4g)を得た。HPLC面積百分率値は99.9%以上であった。
cat.-1は国際公開第2017/094655号に記載の方法に従って合成した。
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物G-Et(1.06g)、水酸化カリウム(0.24g)、テトラヒドロフラン(10ml)、メタノール(2.7ml)およびイオン交換水(2.6g)を加え、65℃で2時間撹拌した。その後、得られた反応液を室温まで冷却した後、塩酸水を加え撹拌した後、クロロホルムおよびイオン交換水を加え、分液洗浄した後、得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。得られたろ液を減圧濃縮することにより、固体を得た。得られた固体をメチルイソブチルケトンを用いて2回晶析した後、50℃で減圧乾燥させることにより、化合物G(0.58g)を得た。HPLC面積百分率値は99.9%以上であった。
1H-NMR (CD2Cl2、400MHz) : δ(ppm) = 2.32(6H、s)、3.24(18H、s)、3.43(12H、m)、3.50-3.64(36H、m)、3.84(12H、t)、4.31(12H、m)、6.97(6H、d)、7.20(2H、s)、7.37(16H、m)、7.55(6H、t)、7.66(4H、t)、7.86(6H、m)、7.95(4H、d)、10.84(6H、s)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物H-1 7.49g、酢酸カリウム 10.60g、ビス(ピナコラート)ジボロン 13.71g、[1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド-ジクロロメタン 0.23g、1,2-ジメトキシエタン 72mlを加え、90℃で11時間撹拌した。反応物を冷却後、トルエン100mlを加え、セライトを通してろ過し、ろ液を濃縮した。得られた固体をトルエン 100ml、ヘキサン 200mlに溶かし、活性炭10gを加え1時間撹拌後、セライトを通してろ過し、ろ液を濃縮して粗生成物を得た。トルエンおよびアセトニトリルの混合溶媒を用いて晶析を行い、化合物H-2を7.59g得た。HPLC面積百分率は99.6%であった。
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物H-2 0.935g、化合物E-4 3.675g、炭酸ナトリウム 0.58g、Aliquat336 0.07g、cataCXium A Pd G3(シグマ アルドリッチ製) 6.6mg、トルエン 13.1g、イオン交換水 7.5gを加え、90℃で5時間撹拌した。反応物を冷却後、トルエン 10mlを加え、分液し、有機相をイオン交換水 10mlで3回分液洗浄した。硫酸マグネシウムで脱水後、ろ過、濃縮し粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン、トルエンおよびエタノールの混合溶媒)により精製し、減圧濃縮、乾燥させることにより、化合物H-Et 2.83gを得た。HPLC面積百分率は99.9%であった。
1H-NMR (acetone-d6、400MHz) : δ(ppm) =8.03(d,2H),7.91(s,2H), 7.80(d,2H),7.74(dd,2H),7.67-7.64(m,8H),7.54-7.33(m,20H),7.26-7.09(m,6H),4.23-4.15(m,16H),3.80(t,8H),3.66-3.64(m,8H),3.56-3.52(m,16H),3.42(d,4H),3.41(d,4H),3.23(s,12H),2.84(s,6H),2.80(s,6H),1.25(t,12H)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物H-Et 2.57g、水酸化カリウム 0.51g、テトラヒドロフラン 15ml、メタノール 5ml、イオン交換水4mlを加え、60℃で5時間撹拌した。得られた反応液を室温まで冷却後、1規定塩酸 11.5g、メチルイソブチルケトン 30mlを加えた後、分液し、有機相を13mlのイオン交換水で3回分液洗浄した。有機相を濃縮し粗生成物を得た。得られた粗生成物をテトラヒドロフランおよびヘキサンの混合溶媒を用いて晶析し、化合物H 2.07gを得た。HPLC面積百分率は99.8%であった。
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) =2.34(6H、s)、2.45(6H、s)、3.33(12H、s)、3.49~3.52(8H、m)、3.60~3.63(8H、m)、3.64~3.68(8H、m)、3.69~3.72(8H、m)、3.87~3.90(8H、m)、4.30~4.33(8H、m)、6.90(4H、d)、7.22(2H、s)、7.28(2H、s)、7.29~7.37(10H、m)、7.39~7.44(8H、m)、7.54~7.57(6H、m)、7.64(2H、dd)、7.71(2H、s)、7.84(2H、s)、8.15(4H、d)、10.99(4H、brs)
化合物I-1は国際公開第2012/086670号に記載の方法に従って合成した。
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) = 7.77 (4H、t)、7.53~7.62(14H、m)、7.37~7.42 (4H、m)、7.21~7.32(12H、m)、6.78~6.83 (7H、m)、4.12~4.24 (8H、m), 4.12 (8H、t) 、3.84 (8H、t) 、3.70~3.73 (8H、m) 、3.59~3.63 (16H、m) 、3.49~3.52(8H、m) 、3.33 (12H、d) 、2.41~2.46 (4H、m) 、2.24 (6H、s) 、1.88 (3H、s) 、1.20~1.28 (28H、m) 、0.82 (6H、t)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物I-Et 1.60g、水酸化カリウム 0.29g、テトラヒドロフラン 8.0ml、メタノール 2.4ml、イオン交換水2.0mlを加え、60℃で2.5時間撹拌した。得られた反応液を室温まで冷却後、1規定塩酸 12.8g、メチルイソブチルケトン 16mlを加えた後、分液し、イオン交換水で分液洗浄した。有機相を濃縮し粗生成物を得た。得られた粗生成物を酢酸エチルおよびヘキサンの混合溶媒を用いて晶析し、化合物I 0.98gを得た。HPLC面積百分率は99.8%であった。検出波長は300nmであった。
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) = 10.88 (4H、s)、8.11 (4H、dd)、7.75~7.81(4H、dd)、7.58~7.63 (4H、m)、7.51~7.55(8H、m)、7.39(4H、t)、7.28~7.33(6H、m) 、7.20~7.23(4H、m) 、6.83~6.88(6H、m)、6.78(1H、s)、4.27~4.31 (8H、m)、3.85~3.89 (8H、m) 、3.58~3.71 (24H、m) 、3.47~3.51 (8H、m) 、3.32 (6H、s) 、3.31 (6H、s) 、2.41~2.46 (4H、m) 、2.25 (6H、s) 、1.88 (3H、s) 、1.42~1.51 (4H、t)、1.17~1.27 (12H、m) 、0.71~0.83 (6H、m)
化合物L-1はThin Solid Films 209(2006)127に記載の方法に準じて合成した。
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物L-Et 2.49g、水酸化カリウム 0.48g、テトラヒドロフラン 24.9ml、メタノール 4.9ml、イオン交換水 6.2mlを加え、60℃で2時間撹拌した。得られた反応液を室温まで冷却後、1規定塩酸 25g、クロロホルム 50mlを加えた後、分液し、イオン交換水で分液洗浄した。有機相を濃縮し粗生成物を得た。得られた粗生成物をテトラヒドロフランおよびヘプタンの混合溶媒を用いて晶析し、化合物L 2.20gを得た。HPLC面積百分率は99.7%であった。
1H-NMR (CD2Cl2、400MHz) : δ(ppm) = 0.89(3H、t)、1.34-1.68(12H、m)、2.72(2H、m)、3.22(12H、s)、3.40(8H、m)、3.48-3.62(24H、m)、3.84(4H、m)、4.29(8H、m)、6.95(4H、d)、7.31-7.46(16H、m)、7.55-7.71(12H、m)、7.91(6H、m)、8.09(4H、d)、8.43(2H、s)、10.92(4H、s)
<化合物Mの合成>
化合物M-1は国際公開第2006/11643号に記載の方法に従って合成した。
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) =0.83(6H、t)、1.14~1.30(30H、m)、1.57~1.66(6H、m)、2.26(6H、brs)、3.33(12H、s)、3.48~3.52(8H、m)、3.59~3.65(16H、m)、3.70~3.75(8H、m)、3.81~3.87(8H、m)、3.97~4.03(4H、m)、4.08~4.17(8H、m)、4.19~4.27(8H、m)、6.74~6.89(4H、m)、7.12~7.18(4H、m)、7.26~7.35(4H、m)、7.38~7.43(4H、m)、7.53~7.70(18H、m)、7.81(2H、d)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物M-Et 1.61g、水酸化カリウム 0.29g、テトラヒドロフラン 8.0g、メタノール 2.4g、イオン交換水 2.4gを加え、60℃で2時間撹拌した。得られた反応液を室温まで冷却後、1規定塩酸 6g、メチルイソブチルケトン 20mlを加えた後、分液し、イオン交換水で分液洗浄した。有機相を濃縮し粗生成物を得た。得られた粗生成物を酢酸ブチルおよびヘプタンの混合溶媒を用いて晶析し、化合物M 1.26gを得た。HPLC面積百分率は99.6%であった。検出波長は300nmであった。
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) = 0.85(6H、t)、1.16~1.29(20H、m)、1.55~1.67(4H、m)、2.28(6H、s)、3.34(12H、s)、3.49~3.52(8H、m)、3.59~3.63(8H、m)、3.64~3.68(8H、m)、3.69~3.73(8H、m)、3.86~3.91(8H、m)、4.01(4H、t)、4.27~4.35(8H、m)、6.81~6.95(4H、m)、7.21~7.24(2H、m)、7.29~7.37(6H、m)、7.38~7.44(4H、m)、7.51~7.58(10H、m)、7.61~7.65(2H、m)、7.69(2H、s)、7.83(2H、d)、8.09~8.20(4H、m)、11.00(4H、s)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、1,3-ジブロモベンゼン 37.76g、ジプロピルアミン 35.52g、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0) 1.46g、トリ-tert-ブチルホスホニウムテトラフルオロボレート 1.85g、ナトリウム tert-ブトキシド 45.91g、脱水トルエン 380mlを加え、80℃で3時間撹拌した。得られた反応液を室温まで冷却した後、水を加え分液洗浄した後、硫酸マグネシウムで脱水した。濾過で硫酸マグネシウムを除いた後、50℃で減圧濃縮、乾燥させることにより化合物N-1の粗生成物を得た。
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサンおよび酢酸エチルの混合溶媒)により精製後、50℃で減圧濃縮、乾燥させることにより、化合物N-1 34.13gを得た。GC面積百分率は99.8%であった。
TLC-MS(DART):m/z=277.37([M+H]+)
Exact Mass:276.26
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物N-1 27.82g、ビス(ピナコラート)ジボロン 50.97g、(1,5-シクロオクタジエン)(メトキシ)イリジウム(I)ダイマー 1.33g、4,4’-ジ-tert-ブチル2,2’-ビピリジル 1.07g、脱水シクロペンチルメチルエーテル280mlを加え、還流温度で16時間撹拌した。得られた反応液を室温まで冷却した後、水 560ml を加えた反応容器に反応液を滴下した。分液後、更に水を加え分液洗浄した後、硫酸マグネシウムで脱水した。濾過で硫酸マグネシウムを除いた後、50℃で減圧濃縮、乾燥させることにより化合物N-2の粗生成物を得た。
得られた粗生成物をトルエンに溶解し、シリカゲルを通して濾過した。得られたろ洗液を50℃で減圧濃縮、乾燥させることにより、化合物N-2 36.30gを得た。GC面積百分率は88.3%であった。1H-NMR(CDCl3,400MHz):δ(ppm)= 0.889~0.926(12H、m)、1.30(122H、s)、1.55~1.65(8H、m)、3.16~3.25(8H、q)、6.02(1H、t)、6.48(2H、d)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物N-2 25.00g、ヨウ化銅(I) 1.05g、1,10-フェナントロリン 2.00g、ヨウ化カリウム 13.78g、メタノール 250ml、水 62.5mlを加え、70℃で28時間撹拌した。トルエンを加えて分液し、有機相を更に水で分液洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水した。濾過で硫酸マグネシウムを除いた後、50℃で減圧濃縮、乾燥させることにより化合物N-3の粗生成物を得た。
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサンおよび酢酸エチルの混合溶媒)により精製後、50℃で減圧濃縮、乾燥させることにより、化合物N-3 9.54gを得た。GC面積百分率は99.9%であった。
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物N-3 1.73g、2,7-ジブロモカルバゾール 3.06g、trans-1,2-シクロヘキサンジアミン 1.73g、ヨウ化銅(I) 2.40g、脱水キシレン 70mlを加え、85℃で1.5時間撹拌した。一旦加熱を停止し、2,7-ジブロモカルバゾール 1.55gを追加し、更に85℃で3時間撹拌した。室温まで冷却後、反応マスにトルエン 25ml加え、セライトを敷いた桐山ロートで濾過した。50℃で減圧濃縮、乾燥させることにより化合物N-4の粗生成物を得た。
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサンおよびトルエンの混合溶媒)により精製後、アセトニトリル溶媒で再結晶を実施し、化合物N-4 3.56gを得た。GC面積百分率は97.8%であった。
TLC-MS(DART):m/z=598.09([M+H]+)
Exact Mass:597.14
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物N-4 2.95g、ビス(ピナコラート)ジボロン 2.75g、酢酸カリウム 2.84g、[1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリドジクロロメタン付加物 0.20g、脱水シクロペンチルメチルエーテル 30mlを加え、100℃で8時間撹拌した。室温まで放冷後、セライトを敷いた桐山ロートで濾過し、50℃で減圧濃縮、乾燥されることにより化合物N-5の粗生成物を得た。
得られた粗生成物をトルエンに溶解し、活性炭を加えて30分撹拌後、セライトを敷いた桐山ロートで濾過し、50℃で減圧濃縮、乾燥した。アセトニトリル溶媒で再結晶を実施し、化合物N-5 2.37gを得た。HPLC面積百分率は99.2%であった。
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) =0.93(12H、t)、1.34(24H、s)、1.65~1.75(8H、m)、3.25(8H、t)、5.93~5.95(1H、m)、6.18(2H、d)、7.69(2H、dd)、9.13(2H、d)、8.15(2H、d)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、2-ブロモ-7-ヨード-9H-フルオレン-9-オン 100.12g、サリチル酸エチル 259.62g、メルカプト酢酸 2.40g、メタンスルホン酸 249.90gを加え、65℃で6.5時間撹拌した。室温まで放冷後、クロロホルム 1.50Lを加え固体を溶解させた後、メタノール 7.50Lを加え、0℃に冷却した容器中に滴下し再沈殿させた。濾過後、50℃で減圧乾燥後、化合物N-6の粗生成物155.54gを得た。
トルエンとアセトニトリルの混合溶媒から再結晶を実施し、化合物N-6 119.08gを得た。HPLC面積百分率は99.5%であった。
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物N-6 94.50g、ジエチレングリコール2-ブロモエチルメチルエーテル 70.63g、炭酸カリウム 56.03g、およびN,N-ジメチルホルムアミド 500mlを加え、70℃で9時間攪拌した。室温まで冷却後、トルエンと水を加え分液洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水した。濾過で硫酸マグネシウムを除いた後、50℃で減圧濃縮、乾燥させることにより化合物N-7の粗生成物を得た。
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル溶媒)により精製後、50℃で減圧濃縮、乾燥させることにより、化合物N-7 67.70gを得た。HPLC面積百分率は99.6%であった。
LC-MS(ESI positive):m/z=991.2([M+H]+)
Exact Mass:990.2
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、3-ジメチルアミノトルエン 5.00g、ビス(ピナコラート)ジボロン 11.22g、(1,5-シクロオクタジエン)(メトキシ)イリジウム(I)ダイマー 0.29g、4,4’-ジ-tert-ブチル2,2’-ビピリジル 0.24g、脱水シクロペンチルメチルエーテル50mlを加え、還流温度で17時間撹拌した。反応液を0℃に冷却後、メタノール 25mlを滴下し、活性白土を加えて撹拌後、濾過した。ろ液を50℃で減圧濃縮、乾燥させることにより、化合物N-8の粗生成物を得た。
得られた粗生成物をトルエンに溶解させ、シリカゲルを敷いた桐山ロートを通してトルエンで洗浄した。50℃で減圧濃縮、乾燥後、メタノール溶媒で再結晶を実施し、化合物N-8 5.51gを得た。GC面積百分率は98.2%であった。
TLC-MS(DART):m/z=262.16([M+H]+)
Exact Mass:261.19
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) =1.34(12H、s)、2.32(3H、s)、2.95(6H、s)、6.68(1H、s)、7.00~7.03(2H、m)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物N-7 10.85g、化合物N-8 2.90g、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0) 0.25g、40%テトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液 17.7g、水 53.0g、トルエン 160mlを加え、70℃で12時間撹拌した。反応液を室温まで放冷後、分液し、有機相を更に水で分液洗浄した。その後、有機相に活性炭を加えて1時間撹拌後、シリカゲルを敷いた桐山ロートを通してトルエンで洗浄した。ろ洗液を50℃で減圧濃縮、乾燥後、化合物N-9の粗生成物を得た。
逆相シリカゲルクロマトグラフィー(水とアセトニトリルの混合溶媒)により精製後、50℃で減圧濃縮、乾燥させることにより、化合物N-9 4.57gを得た。HPLC面積百分率は99.5%であった。TLC-MS(DART):m/z=998.23([M+H]+)
Exact Mass : 997.36
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) =1.28(6H、t)、2.35(3H、s)、2.96(6H、s)、3.35(6H、s)、3.51~3.75(4H、m)、3.61~3.66(8H、m)、3.72~4.75(4H、m)、3,84~3.88(4H、m)、4.13~4.17(4H、m)、4.25(4H、q)、6.54(1H、brs)、6.68(2H、d)、6.85(2H、d)、7.24(2H、dd)、7.45~7.51(3H、m)、7.56~7.60(3H、m)、7.62(1H、d)、7.74(1H、d)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物N-5 0.98g、化合物N-9 2.88g、トルエン 15ml、Aliquat336 0.057g、炭酸ナトリウム 0.45g、水 7.87g、cataCXium A Pd G3(シグマ アルドリッチ製) 5.2mgを加え、80℃で8時間撹拌した。反応液を冷却した後、トルエンを加えて分液し、更にイオン交換水にて分液洗浄を行った後、有機層に硫酸マグネシウムを加えて脱水した。濾過し、50℃で減圧濃縮、乾燥後、化合物N-Etの粗生成物を得た。
逆相シリカゲルクロマトグラフィー(アセトニトリルと酢酸エチルの混合溶媒)により精製後、50℃で減圧濃縮、乾燥させることにより、化合物N-Et 1.28gを得た。HPLC面積百分率は98.3%であった。
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) =0.88(12H、t)、1.25(12H、t)、1.62~1.72(8H、m)、2.36(6H、s)、2.97(12H、s)、3.21~3.27(8H、m)、3.34(12H、s)、3.49~3.53(4H、m)、3.60~3.65(16H、m)、3.71~3.75(8H、m)、3.83~3.87(8H、m)、4.11~4.15(8H、m)、4.23(8H、q)、5.94(1H、s)、6.20~6.22(2H、m)、6.55(2H、s)、6.71(4H、d)、6.83(4H、d)、7.32(4H、dd)、7.42(2H、dd)、7.55(2H、brs)、7.60(2H、dd)、7.64~7.69(8H、m)、7.77~7.81(6H、m)、8.12(2H、d)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物N-Et 1.22g、水酸化カリウム 0.21g、THF 6.1g、メタノール1.8g、水1.8gを加え、60℃で12時間撹拌した。反応液を0℃に冷却した後、メチルイソブチルケトン 12.2gを加え、1規定塩酸 4.4gを滴下した。分液し、有機相をイオン交換水にて分液洗浄を行った後、硫酸マグネシウムを加えて脱水した。濾過し、40℃で減圧濃縮、乾燥後、化合物Nの粗生成物を得た。
メチルイソブチルケトンとヘキサンの混合溶媒で再結晶を実施し、化合物N 0.73gを得た。HPLC面積百分率は97.2%であった。
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) =0.88(12H、t)、1.62~1.72(8H、m)、2.36(6H、s)、2.97(12H、s)、3.22~3.28(8H、m)、3.33(12H、s)、3.49~3.52(4H、m)、3.59~3.63(8H、m)、3.64~3.68(8H、m)、3.69~3.72(8H、m)、3.86~3.90(8H、m)、4.28~4.32(8H、m)、5.94(1H、s)、6.20(2H、brs)、6.54(2H、s)、6.70(4H、d)、6.86(4H、d)、7.32(4H、dd)、7.40(2H、dd)、7.56(2H、brs)、7.60~7.64(4H、m)、7.77~7.82(6H、m)、8.12(2H、d)、8.21(4H、d)、10.98(4H、brs)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物N-5 0.47g、化合物B-4 1.45g、cataCXium A Pd G3(シグマ アルドリッチ製) 2.5mg、Aliquat336 0.028g、炭酸ナトリウム 0.22g、イオン交換水 3.78g、トルエン6.6gを加え、80℃で6時間撹拌した。室温まで冷却後、トルエン2.8gとイオン交換水4.0gを加え、分液した。有機相を更にイオン交換水で分液洗浄し、硫酸マグネシウムと活性炭を加え、1時間撹拌した。濾過し、50℃で減圧濃縮、乾燥後、化合物O-Etの粗生成物を得た。
シリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン、トルエン、エタノールの混合溶媒)により精製後、50℃で減圧濃縮、乾燥させることにより、化合物O-Et 1.08gを得た。HPLC面積百分率は98.9%であった。
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) =0.88(12H、t)、1.25(12H、t)、1.61~1.72(8H、m)、2.20(6H、s)、2.34(12H、s)、3.21~3.27(8H、m)、3.33(12H、s)、3.49~3.52(8H、m)、3.59~3.65(16H、m)、3.71~3.74(8H、m)、3.83~3.87(8H、m)、4.12~4.15(8H、m)、4.23(8H、q)、5.94(1H、brs)、6.21(2H、brs)、6.83(4H、d)、7.16~7.20(4H、m)、7.32(4H、dd)、7.41(2H、dd)、7.52(2H、d)、7.58(2H、dd)、7.64~7.69(8H、m)、7.77~7.81(6H、m)、8.12(2H、d)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物O-Et 0.90g、水酸化カリウム 0.16g、THF 4.5g、メタノール1.4g、水1.4gを加え、60℃で3時間撹拌した。反応液を0℃に冷却した後、メチルイソブチルケトン 9.0gを加え、1規定塩酸 3.3gを滴下した。分液し、有機相を更にイオン交換水で分液洗浄を行った後、硫酸マグネシウムを加えて脱水した。濾過し、40℃で減圧濃縮、乾燥後、化合物Oの粗生成物を得た。
得られた粗生成物をTHFに溶解させ、ヘキサン中に滴下して再沈殿し、化合物O 0.73gを得た。HPLC面積百分率は99.1%であった。
LC-MS(ESI positive):m/z=2135.0[M+H]+
Exact Mass:2134.0
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) =0.88(12H、t)、1.61~1.72(8H、m)、2.19(6H、s)、2.33(12H、s)、3.22~3.27(8H、m)、3.33(12H、s)、3.49~3.52(8H、m)、3.59~3.62(8H、m)、3.63~3.67(8H、m)、3.68~3.72(8H、m)、3.86~3.89(8H、m)、4.28~4.32(8H、m)、5.94(1H、brs)、6.20(2H、brs)、6.87(4H、d)、7.22~7.28(4H、m)、7.32(4H、dd)、7.40(2H、dd)、7.51(2H、brs)、7.59(2H、dd)、7.62(2H、brs)、7.67(2H、dd)、7.77~7.82(6H、m)、8.11(2H、d)、8.20(4H、d)、10.94(4H、brs)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、4-ブロモジュロリジン 9.33g、THF 84gを加え、-70℃に冷却し、n-ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.55M) 25.0mlを滴下した。2時間撹拌後、2-イソプロポキシ-4,4,5,5-テトラメチル-1,3,2-ジオキサボロラン 12.2mlを滴下し、1時間撹拌後、0℃に昇温した。2-プロパノール 9.3mlを滴下し、イオン交換水、クロロホルムを加え分液洗浄し、有機相を40℃で減圧濃縮、乾燥し、化合物P-1の粗生成物を得た。
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン溶媒)により精製後、40℃で減圧濃縮、乾燥させることにより、化合物P-1 11.53gを得た。GC面積百分率は94.1%であった。TLC-MS(DART):m/z=300.20([M+H]+)
Exact Mass ::299.21
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物O-2 15.15g、化合物P-1 5.17g、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0) 0.35g、40%テトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液 24.6g、水 73.8g、トルエン 230mlを加え、60℃で15時間撹拌した。反応液を室温まで放冷後、分液し、有機相を更に水で分液洗浄し、50℃で減圧濃縮、乾燥後、化合物P-2の粗生成物を得た。
得られた粗生成物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー(水、アセトニトリル混合溶媒)により精製後、40℃で減圧濃縮、乾燥させることにより、化合物P-2 10.30gを得た。HPLC面積百分率は99.3%であった。TLC-MS(DART):m/z=1036。3([M+H]+)
Exact Mass : 1035.38
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) =1.29(6H、t)、1.94~2.01(4H、m)、2.78(4H、t)、3.16(4H、t)、3.35(6H、s)、3.51~3.54(4H、m)、3.61~3.66(8H、m)、3.72~3.75(4H、m)、3.86(4H、t)、4.15(4H、t)、4.25(4H、q)、6.85(2H、d)、6.97(2H、s)、7.23(2H、dd)、7.40~7.44(2H、m)、7.45~7.51(2H、m)、7.56~7.60(3H、m)、7.68(1H、d)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物N-5 1.21g、化合物P-2 3.67g、cataCXium A Pd G3(シグマ アルドリッチ製) 6.3mg、Aliquat336 0.070g、炭酸ナトリウム 0.55g、イオン交換水 9.7g、トルエン16.9gを加え、80℃で15時間撹拌した。室温まで冷却後、分液し、有機相を更にイオン交換水で分液洗浄し、硫酸マグネシウムを加え、1時間撹拌した。濾過し、40℃で減圧濃縮、乾燥後、化合物P-Etの粗生成物を得た。
得られた粗生成物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー(アセトニトリル、酢酸エチルの混合溶媒)により精製後、40℃で減圧濃縮、乾燥させることにより、化合物P-Et 2.60gを得た。HPLC面積百分率は98.1%であった。
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) =0.88(12H、t)、1.25(12H、t)、1.61~1.73(8H、m)、1.95~2.02(8H、m)、2.80(8H、t)、3.16(8H、t)、3.21~3.26(8H、m)、3.34(12H、s)、3.49~3.53(8H、m)、3.60~3.65(16H、m)、3.71~3.75(8H、m)、3.85(8H、t)、4.13(8H、t)、4.23(8H、q)、5.94(1H、s)、6.19~6.21(2H、m)、6.82(4H、d)、6.99(4H、s)、7.31(4H、dd)、7.39~7.42(2H、m)、7.44~7.46(2H、m)、7.49~7.53(2H、m)、7.61~7.65(4H、m)、7.68(4H、d)、7.74(4H、dd)、7.79(2H、s)、8.10(2H、d)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物P-Et 2.15g、水酸化カリウム 0.36g、THF 10.8g、メタノール3.2g、水3.2gを加え、60℃で2時間撹拌した。反応液を0℃に冷却した後、クロロホルム 21.5mlを加え、1規定塩酸 7.5gを滴下し、0.5時間撹拌した。分液し、有機相をイオン交換水にて分液洗浄を行った後、0℃で水酸化セシウム・1水和物 0.74g、を2.2mlのイオン交換水と15.1mlのメタノールに溶解させた溶液を滴下し、0.5時間撹拌した。反応液をアセトニトリル中に滴下し、再沈殿させた。得られた固体を濾過し、40℃で減圧乾燥し、化合物P-Cs 2.10gを得た。HPLC面積百分率は97.0%であった。
1H-NMR (CDCl3、400MHz) : δ(ppm) =0.86(12H、t)、1.61~1.72(8H、m)、1.90~1.98(8H、m)、2.73(8H、t)、3.11(8H、t)、3.24(12H、s)、3.27~3.29(8H、m)、3.42~3.45(8H、m)、3.50~3.56(16H、m)、3.59~3.62(8H、m)、3.72~3.76(8H、m)、4.08~4.12(8H、m)、5.98(1H、s)、6.16(2H、s)、6.89(4H、d)、6.93(4H、s)、7.16(4H、d)、7.32(4H、dd)、7.40(2H、d)、7.44(2H、s)、7.46(2H、d)、7.58(2H、d)、7.62(2H、s)、7.67(2H、s)、7.73~7.79(4H、m)、8.08(2H、d)
化合物Z-1は国際公開第2010/11705号に記載の方法に従って合成した。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)
δ(ppm) 0.83~0.92(18H、m)、1.22(6H、t)、1.24~1.37(28H、m)、1.51~1.61(12H、m)、2.52(8H、t)、2.59(4H、t)、3.33(6H、s)、3.48~3.52(4H、m)、3.59~3.64(8H、m)、3.71~3.74(4H、m)、3.82~3.86(4H、m)、4.10~4.14(4H、m)、4.20(4H、q)、6.83(2H、d)、7.02(8H、d)、7.12(8H、d)、7.12~7.19(4H、m)、7.27(2H、dd)、7.45~7.54(6H、m)、7.57(2H、brs)、7.62~7.65(4H、m)、7.68~7.74(4H、m)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物Z-Et(1.75g)、水酸化カリウム(0.16g)、テトラヒドロフラン(13ml)、メタノール(4.5ml)、イオン交換水(1.44g)を加え、70℃に加熱して2時間反応させた。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)
δ(ppm) 0.82~0.91(18H、m)、1.23~1.36(28H、m)、1.51~1.60(12H、m)、2.52(8H、t)、2.58(4H、t)、3.32(6H、s)、3.47~3.50(4H、m)、3.58~3.61(4H、m)、3.62~3.66(4H、m)、3.67~3.71(4H、m)、3.84~3.88(4H、m)、4.26~4.30(4H、m)、6.84(2H、d)、7.01(8H、d)、7.11(8H、d)、7.12~7.18(4H、m)、7.21~7.26(2H、m)、7.45~7.48(2H、m)、7.50~7.57(6H、m)、7.63(2H、d)、7.69(2H、d)、7.73(2H、d)、8.18(2H、d)、10.95(2H、brs)
遮光した反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、2-ブロモ-9-フルオレノン(19.99g)、サリチル酸エチル(77.00g)、メルカプト酢酸(0.65g)、およびメタンスルホン酸(200ml)を加え、65℃で7.5時間攪拌した。得られた反応液を氷冷したイオン交換水 500ml中に滴下し、デカンテーションで水相を除去した。イオン交換水 100mlを加えて撹拌し、デカンテーションで水相を除去した。得られた粘性オイルをトルエン 300mlに溶解させ、硫酸マグネシウムを加えて乾燥後、ろ過、濃縮し粗生成物を得た。
TLC-MS(DART positive):m/z=572[M]+
遮光した反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物Y-1(11.00g)、ジエチレングリコール 2-ブロモエチルメチルエーテル(10.59g)、炭酸カリウム(7.32g)、およびN,N-ジメチルホルムアミド(55ml)を加え、90℃で18時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却した後、トルエンを加えて攪拌し、イオン交換水で洗浄した。得られた有機層に硫酸マグネシウムを加えて撹拌し、得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮して粗生成物(17.85g)を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエンおよび酢酸エチルの混合溶媒)により精製し、減圧乾燥させることにより、化合物Y-2(8.4g)を得た。化合物Y-2のHPLC面積百分率値は99.3%を示した。
化合物Y-3は国際公開第2012/086670号に記載の方法に従って合成した。
1H-NMR(CD2Cl2,400MHz)
δ(ppm) 7.85-7.79(m,6H),7.63-7.59(m,4H),7.57-7.53(m,6H),7.50(d,2H),7.44-7.36(m,4H),7.35-7.29(m,6H),6.91-6.86(m,6H),6.84(s,1H),4.22(q,8H),4.15-4.10(m,8H),3,84-3.79(m,8H),3.70-3.65(m,8H),3.61-3.55(m,16H),3.50-3.46(m,8H),3.31(s,12H),2.48(t,4H),1.94(s,3H),1.55-1.46(m,4H),1.29-1.18(m,24H),0.85-0.79(m,6H)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物Y-Et(0.85g)、水酸化カリウム(0.15g)、テトラヒドロフラン(4.4g)、メタノール(1.3g)、水(1.35g)を加え、60℃に加熱して4時間反応させた。
1H-NMR(CD2Cl2,400MHz)
δ(ppm) 10.87(br,4H),7.97(d,4H),7.83-7.77(m,6H),7.61-7.55(m,4H),7.51(dd,2H),7.45(d,2H),7.43-7.26(m,10H),6.95-6.90(m,4H),6.85-6.78(m,3H),4.32-4.26(m,8H),3,87-3.81(m,8H),3.66-3.62(m,8H),3.60-3.55(m,8H),3.54-3.50(m,8H),3.45-3.40(m,8H),3.26(s,12H),2.43(t,4H),1.90(s,3H),1.51-1.41(m,4H),1.18(br,12H),0.81-0.74(m,6H).
下記式で表される構成単位を有する交互共重合体である高分子化合物PAは、国際公開第2015/159932号に記載の方法に従って合成した。
下記式で表される高分子化合物PBは、国際公開第2013/58160号に記載の方法に従って合成した。
下記式で表される高分子化合物PCは、特開2012-33845号公報に記載の方法に従って合成した。
下記式で表される高分子化合物PDは、特開2013-168825号公報に記載の方法に従って合成した。
単量体CM1~CM4は、下記文献に記載された方法に従って合成し、それぞれ99.5%以上のHPLC面積百分率値を示したものを用いた。
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、単量体CM1(2.52g)、単量体CM2(0.47g)、単量体CM3(4.90g)、単量体CM4(0.53g)、およびトルエン(158mL)を加え、95℃に加熱した。反応液に、20重量%水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(16mL)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(4.2mg)を加え、8時間還流させた。反応後、そこに、フェニルボロン酸(0.12g)、20重量%水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(16mL)、およびジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(4.2mg)を加え、15時間還流させた。その後、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、85℃で2時間撹拌した。冷却後、反応液を、3.6重量%塩酸水溶液で2回、2.5重量%アンモニア水溶液で2回、イオン交換水で4回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下したところ、沈澱が生じた。沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムの順番で通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物1を6.02g得た。高分子化合物1のMnは3.8×104であり、Mwは4.5×105であった。
燐光発光性化合物1および2は、下記文献に記載された方法に従って合成し、それぞれ99.5%以上のHPLC面積百分率値を示したものを用いた。
(陽極および正孔注入層の形成)
ガラス基板にスパッタ法により45nmの厚みでITO膜を付けることにより陽極を形成した。陽極上に、日産化学工業株式会社製の正孔注入材料ND-3202を、スピンコート法にて35nmの厚さで成膜し、オゾンが除去された空気環境下、ホットプレートにて50℃で3分間加熱して溶媒を揮発させ、続けてホットプレートにて240℃で15分間加熱することにより正孔注入層を形成した。
(正孔輸送層の形成)
キシレンに、高分子化合物1を0.65重量%の濃度で溶解させた。得られたキシレン溶液を用いて、正孔注入層の上に、スピンコート法により20nmの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下、ホットプレートにて180℃で60分間加熱することにより正孔輸送層を形成した。
(発光層の形成)
トルエンに、下記式:
(電子輸送層の形成)
1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノールに、化合物A-Csを0.25重量%の濃度で溶解させ、化合物A-Csの0.25重量%濃度の1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液を調製した。この溶液を用いて、発光層の上に、スピンコート法により10nmの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下、130℃で10分間加熱することにより電子輸送層を形成した。
(陰極および電子注入層の形成)
電子輸送層が形成された基板を蒸着機内に置いて、1.0×10-4Pa以下に減圧した後、陰極として、電子輸送層の上にフッ化ナトリウムを約4nm、次いで、その上にアルミニウムを約100nm蒸着した。その後、ガラス基板を用いて封止することにより、発光素子D1を作製した。
化合物A-Csの0.25重量%の1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液に代えて、1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノールに化合物Bを0.25重量%および水酸化セシウム1水和物を0.08重量%の濃度となるように溶解させ、室温で1時間撹拌することにより調製した化合物B-Csの1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液を用いて電子輸送層を形成した以外は、実施例D1と同様にして、発光素子D2を作製した。なお、化合物B-Csは以下の構造を有していると推定される。
化合物A-Csの0.25重量%の1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液に代えて、1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノールに化合物Cを0.25重量%および水酸化セシウム1水和物を0.09重量%の濃度となるように溶解させ、室温で1時間撹拌することにより調製した化合物C-Csの1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液を用いて電子輸送層を形成した以外は、実施例D1と同様にして、発光素子D3を作製した。なお、化合物C-Csは以下の構造を有していると推定される。
化合物A-Csの0.25重量%の1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液に代えて、1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノールに化合物Dを0.25重量%および水酸化セシウム1水和物を0.07重量%の濃度となるように溶解させ、室温で1時間撹拌することにより調製した化合物D-Csの1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液を用いて電子輸送層を形成した以外は、実施例D1と同様にして、発光素子D4を作製した。なお、化合物D-Csは以下の構造を有していると推定される。
化合物A-Csの0.25重量%の1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液に代えて、1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノールに化合物Eを0.25重量%および水酸化セシウム1水和物を0.08重量%の濃度となるように溶解させ、室温で1時間撹拌することにより調製した化合物E-Csの1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液を用いて電子輸送層を形成した以外は、実施例D1と同様にして、発光素子D5を作製した。なお、化合物E-Csは以下の構造を有していると推定される。
化合物A-Csの0.25重量%の1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液に代えて、1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノールに化合物Fを0.25重量%および水酸化セシウム1水和物を0.08重量%の濃度となるように溶解させ、室温で1時間撹拌することにより調製した化合物F-Csの1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液を用いて電子輸送層を形成した以外は、実施例D1と同様にして、発光素子D6を作製した。なお、化合物F-Csは以下の構造を有していると推定される。
化合物A-Csの0.25重量%の1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液に代えて、1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノールに化合物Gを0.25重量%および水酸化セシウム1水和物を0.11重量%の濃度となるように溶解させ、室温で1時間撹拌することにより調製した化合物G-Csの1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液を用いて電子輸送層を形成した以外は、実施例D1と同様にして、発光素子D7を作製した。なお、化合物G-Csは以下の構造を有していると推定される。
化合物A-Csの0.25重量%の1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液に代えて、1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノールに化合物Iを0.25重量%および水酸化セシウム1水和物を0.08重量%の濃度となるように溶解させ、室温で1時間撹拌することにより調製した化合物I-Csの1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液を用いて電子輸送層を形成した以外は、実施例D1と同様にして、発光素子D8を作製した。なお、化合物I-Csは以下の構造を有していると推定される。
化合物A-Csの0.25重量%の1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液に代えて、1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノールに化合物Lを0.25重量%および水酸化セシウム1水和物を0.09重量%の濃度となるように溶解させ、室温で1時間撹拌することにより調製した化合物L-Csの1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液を用いて電子輸送層を形成した以外は、実施例D1と同様にして、発光素子D9を作製した。なお、化合物L-Csは以下の構造を有していると推定される。
化合物A-Csの0.25重量%の1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液に代えて、1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノールに化合物Mを0.25重量%および水酸化セシウム1水和物を0.08重量%の濃度となるように溶解させ、室温で1時間撹拌することにより調製した化合物M-Csの1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液を用いて電子輸送層を形成した以外は、実施例D1と同様にして、発光素子D10を作製した。なお、化合物M-Csは以下の構造を有していると推定される。
化合物A-Csの0.25重量%の1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液に代えて、1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノールに化合物Nを0.25重量%および水酸化セシウム1水和物を0.08重量%の濃度となるように溶解させ、室温で1時間撹拌することにより調製した化合物N-Csの1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液を用いて電子輸送層を形成した以外は、実施例D1と同様にして、発光素子D11を作製した。なお、化合物N-Csは以下の構造を有していると推定される。
化合物A-Csの0.25重量%の1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液に代えて、1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノールに化合物Nを0.25重量%および水酸化セシウム1水和物を0.08重量%の濃度となるように溶解させ、室温で1時間撹拌することにより調製した化合物H-Csの1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液を用いて電子輸送層を形成した以外は、実施例D1と同様にして、発光素子D12を作製した。なお、化合物H-Csは以下の構造を有していると推定される。
化合物A-Csの0.25重量%の1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液に代えて、1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノールに化合物Nを0.25重量%および水酸化セシウム1水和物を0.08重量%の濃度となるように溶解させ、室温で1時間撹拌することにより調製した化合物O-Csの1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液を用いて電子輸送層を形成した以外は、実施例D1と同様にして、発光素子D13を作製した。なお、化合物O-Csは以下の構造を有していると推定される。
化合物A-Csに代えて、化合物P-Csを用いて電子輸送層を形成した以外は、実施例D1と同様にして、発光素子D14を作製した。
化合物A-Csの0.25重量%の1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液に代えて、1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノールに化合物Zを0.25重量%および水酸化セシウム1水和物を0.09重量%の濃度となるように溶解させ、室温で1時間撹拌することにより調製した化合物Z-Csの1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液を用いて電子輸送層を形成した以外は、実施例D1と同様にして、発光素子CD1を作製した。なお、化合物Z-Csは以下の構造を有していると推定される。
化合物A-Csに代えて高分子化合物PAを用いた以外は、実施例1と同様にして、発光素子CD2を作製した。
化合物A-Csに代えて高分子化合物PBを用いた以外は、実施例1と同様にして、発光素子CD3を作製した。
化合物A-Csに代えて高分子化合物PCを用いた以外は、実施例1と同様にして、発光素子CD4を作製した。
化合物A-Csに代えて高分子化合物PDを用いた以外は、実施例1と同様にして、発光素子CD5を作製した。
化合物A-Csの0.25重量%の1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液に代えて、1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノールに化合物Yを0.25重量%および水酸化セシウム1水和物を0.09重量%の濃度となるように溶解させ、室温で1時間撹拌することにより調製した化合物Y-Csの1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール溶液を用いて電子輸送層を形成した以外は、実施例1と同様にして、発光素子CD6を作製した。なお、化合物Y-Csは以下の構造を有していると推定される。
発光素子D1~D11およびCD1~CD6について、6000cd/m2を初期輝度として輝度が80%となるまでの時間を測定した。発光素子CD2の輝度寿命を1.0とした時の相対値を求めた。結果を表1に示す。
Claims (6)
- 式(1A)で表される、分子量分布を有さない化合物。
[式中、
p2およびp3は、それぞれ独立に、1以上の整数を表す。
p4およびp8は、それぞれ独立に、1以上の整数を表す。
p5、およびp7は、それぞれ0を表す。
p6は1以上の整数を表す。
但し、p2とp3とp4とp5とp6とp7とp8との合計は5以上、12以下の整数である。
R 1 およびR 2 は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ar 2 は、式(2)で表される基以外の単環若しくは縮合環のアリーレン基または式(2)で表される基以外の単環若しくは縮合環の2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するAr 2 は、同一でも異なっていてもよい。
[式中、
X 1a およびX 1b は、それぞれ独立に、単結合、酸素原子、硫黄原子、-S(=O)-で表される基、-S(=O) 2 -で表される基、-C(=O)-で表される基、-C(R 1g ) 2 -で表される基、-Si(R 1g ) 2 -で表される基、-NR 1g -で表される基またはC(R 1g ) 2 -C(R 1g ) 2 -で表される基を表す。但し、X 1a およびX 1b の少なくとも1つは、-C(R 1g ) 2 -で表される基または-NR 1g -で表される基を表す。
R 1g は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R 1g が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。
R 1a 、R 1b 、R 1c 、R 1d 、R 1e およびR 1f は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基、アミノ基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R 1a とR 1g 、R 1b とR 1c 、R 1c とR 1g 、R 1g とR 1d 、R 1d とR 1e 、および、R 1f とR 1g は、それぞれ結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。
但し、前記式(1)中、前記式(2)で表される基の少なくとも2つにおいて、R 1g の少なくとも1つが式(2-1)で表される基または式(2-2)で表される基である。但し、前記式(1)中、全てのAr 1 が前記式(2)で表される基であり、前記全ての式(2)で表される基における全てのX 1a が単結合であり、且つ全てのX 1b が-C(R 1g ) 2 -で表される基である場合、前記全ての式(2)で表される基のうちの少なくとも1つにおいて、R 1a 、R 1b 、R 1e およびR 1f のうちの少なくとも1つは、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基、アミノ基およびハロゲン原子(当該アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基またはアミノ基は置換基を有していてもよい)からなる群より選択される少なくとも1種の基を表す。]
[式中、
R 3 は、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
n1、a1およびb1は、それぞれ独立に0以上の整数を表し、m2は1以上の整数を表すが、a1およびb1は、前記式(2-1)で表される基の電荷が0となるように選択される。n1、a1およびb1が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
Q 1 は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子、または硫黄原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Q 1 が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Y 1 は、-CO 2 - 、-SO 3 - 、-SO 2 - 、-PO 3 2- 、-CO 2 Y 1 ’、-SO 3 Y 1 ’、-SO 2 Y 1 ’、-P(=O)(-OY 1 ’)(-O - )または-P(=O)(-OY 1 ’) 2 を表す。Y 1 が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。Y 1 ’は、置換基を有していてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基または水素原子を表す。但し、Y 1 が-CO 2 Y 1 ’、-SO 3 Y 1 ’、-SO 2 Y 1 ’、または-P(=O)(-OY 1 ’) 2 である場合、該Y 1 に直接結合するM 1 の添え字a1は0であり、且つ、該M 1 に直接結合するZ 1 の添え字b1は0である。Y 1 が-CO 2 - 、-SO 3 - 、-SO 2 - 、-PO 3 2- または-P(=O)(-OY 1 ’)(-O - )である場合、該Y 1 に直接結合するM 1 の添え字a1は1以上の整数である。Y 1 ’が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
M 1 は、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオンまたはアンモニウムカチオンを表し、このアンモニウムカチオンは置換基を有していてもよい。M 1 が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Z 1 は、F - 、Cl - 、Br - 、I - 、OH - 、B(R a ) 4 - 、R a SO 3 - 、R a COO - 、NO 3 - 、SO 4 2- 、HSO 4 - 、PO 4 3- 、HPO 4 2- 、H 2 PO 4 - 、BF 4 - またはPF 6 - を表す。R a は、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Z 1 が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
[式中、
n2およびb2は、それぞれ独立に0以上の整数を表し、a2およびm3は、それぞれ独立に1以上の整数を表すが、a2およびb2は、前記式(2-2)で表される基の電荷が0となるように選択される。n2、a2およびb2が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
R 4 は、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Q 2 は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子または硫黄原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Q 2 が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Y 2 は、-C + R c 2 、-N + R c 3 、-P + R c 3 、-S + R c 2 、または-I + R c 2 を表す。R c は、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するR c は、同一でも異なっていてもよい。Y 2 が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
M 2 は、F - 、Cl - 、Br - 、I - 、OH - 、B(R b ) 4 - 、R b SO 3 - 、R b COO - 、BF 4 - 、SbCl 6 - またはSbF 6 - を表す。R b は、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R b が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。M 2 が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Z 2 は、アルカリ金属カチオンまたはアルカリ土類金属カチオンを表す。Z 2 が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Ar 4 は、式(A-9)で表される基であって、R a が式(2-3)で表される基である基を表す。複数存在するAr 4 は、同一でも異なっていてもよい。
[式中、
Rは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表す。複数存在するRは、各々、同一でも異なっていてもよい。
R a は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、1価の複素環基、または式(2-3)で表される基を表す。複数存在するR a は、各々、同一でも異なっていてもよい。]
[式中、
n1、a1、b1、m2、Q 1 、Y 1 、M 1 およびZ 1 は、前記と同じ意味を表す。
n3は0であり、m4は1以上の整数を表す。n3が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
R 6 は、炭素数6の芳香族炭化水素基を表し、置換基を有していてもよい。
Q 3 は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子または硫黄原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Q 3 が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Y 3 は、式(5)で表される基を表す。Y 3 が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
-O-(R’O) a3 -R’’ (5)
[式中、
a3は1以上の整数を表す。
R’は、アルキレン基、シクロアルキレン基またはアリーレン基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R’が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
R’’は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。]
Ar 6 は、式(A-9)で表される基、式(AA-11)で表される基または式(AA-15)で表される基を表す。
[式中、Rは、前記と同じ意味を表す。]。
[式中、Rは、前記と同じ意味を表す。]]。
[ただし、前記置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、1価の複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキニル基を表す。] - 前記式(1A)において、Ar 2 の少なくとも1つが、前記式(2)で表される基以外の単環若しくは縮合環のアリーレン基または前記式(2)で表される基以外の単環若しくは縮合環の2価の複素環基であって、ベンゼン環若しくは2個以上10個以下のベンゼン環のみが縮合した芳香族炭化水素環から、環を構成する水素原子2個を除いた基(該基は置換基を有していてもよい)または式(4)で表される基である、請求項1に記載の化合物。
[式中、
Ar4aおよびAr4bは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。前記置換基が複数存在する場合、それらは互いに結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。
X4aおよびY4aは、それぞれ独立に、単結合、酸素原子、硫黄原子、-S(=O)-で表される基、-S(=O)2-で表される基、-C(=O)-で表される基、-SiR2-で表される基または-CR2-CR2-で表される基を表す。Rは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRは同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。
Ar4aが有していてもよい置換基とR、および、Ar4bが有していてもよい置換基とRは、それぞれ結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。]
[ただし、前記置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、1価の複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキニル基を表す。] - 前記式(4)で表される基が、式(4A)で表される基である、請求項2に記載の化合物。
[式中、
X4bおよびY4bは、それぞれ独立に、単結合、酸素原子、硫黄原子または-CR2-CR2-で表される基を表す。但し、X4bおよびY4bの一方は、単結合を表す。Rは、前記と同じ意味を表す。
R4a、R4b、R4c、R4d、R4eおよびR4fは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基、アミノ基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R4bとR4c、R4cとR、R4dとR、R4aとR、R4fとR、R4dとR4eは、それぞれ結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。] - 前記式(1A)において、Ar 2 が、ベンゼン環若しくは2個以上10個以下のベンゼン環のみが縮合した芳香族炭化水素環から、環を構成する水素原子2個を除いた基(該基は置換基を有していてもよい)、および式(4)で表される基からなる群より選ばれる基のみからなる、請求項1~3のいずれか一項に記載の化合物。
[式中、
Ar4aおよびAr4bは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。前記置換基が複数存在する場合、それらは互いに結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。
X4aおよびY4aは、それぞれ独立に、単結合、酸素原子、硫黄原子、-S(=O)-で表される基、-S(=O)2-で表される基、-C(=O)-で表される基、-SiR2-で表される基または-CR2-CR2-で表される基を表す。
Rは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRは同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。
Ar4aが有していてもよい置換基とR、および、Ar4bが有していてもよい置換基とRは、それぞれ結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。]
[ただし、前記置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、1価の複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキニル基を表す。] - 正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料、酸化防止剤および溶媒からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物と請求項1~4のいずれか一項に記載の化合物とを含む組成物。
- 請求項1~4のいずれか一項に記載の化合物を含有する発光素子。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019022156 | 2019-02-08 | ||
JP2019022156 | 2019-02-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020128367A JP2020128367A (ja) | 2020-08-27 |
JP7495231B2 true JP7495231B2 (ja) | 2024-06-04 |
Family
ID=71947571
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020000660A Active JP7495231B2 (ja) | 2019-02-08 | 2020-01-07 | 化合物およびそれを用いた発光素子 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220123220A1 (ja) |
EP (1) | EP3922627A4 (ja) |
JP (1) | JP7495231B2 (ja) |
KR (1) | KR20210124335A (ja) |
CN (1) | CN113365971B (ja) |
WO (1) | WO2020162156A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220057778A (ko) * | 2020-10-30 | 2022-05-09 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물, 이를 포함하는 코팅 조성물, 이를 이용한 유기 발광 소자 및 이의 제조방법 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009110642A1 (ja) | 2008-03-07 | 2009-09-11 | 住友化学株式会社 | 積層構造体 |
WO2012011510A1 (ja) | 2010-07-21 | 2012-01-26 | 住友化学株式会社 | 有機el素子 |
WO2012011441A1 (ja) | 2010-07-21 | 2012-01-26 | 住友化学株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
WO2012011418A1 (ja) | 2010-07-21 | 2012-01-26 | 住友化学株式会社 | 有機発光装置の製造方法及び有機発光装置 |
WO2012011511A1 (ja) | 2010-07-21 | 2012-01-26 | 住友化学株式会社 | 有機el素子の製造方法 |
WO2012114936A1 (ja) | 2011-02-21 | 2012-08-30 | 住友化学株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
JP2012209452A (ja) | 2011-03-30 | 2012-10-25 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2016528177A (ja) | 2013-12-27 | 2016-09-15 | ヒソン・マテリアル・リミテッドHeesung Material Ltd. | ヘテロ環化合物およびこれを用いた有機発光素子 |
JP2017043574A (ja) | 2015-08-28 | 2017-03-02 | 住友化学株式会社 | 化合物及びそれを用いた発光素子 |
JP2017132734A (ja) | 2016-01-29 | 2017-08-03 | 東ソー株式会社 | フェナントリジニル基を有するトリアジン化合物及びその用途 |
JP2017522291A (ja) | 2014-06-30 | 2017-08-10 | メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH | 金属錯体 |
Family Cites Families (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4080213B2 (ja) * | 2002-02-01 | 2008-04-23 | 三井化学株式会社 | 有機電界発光素子 |
DE112005001823T5 (de) | 2004-07-30 | 2007-06-06 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Polymerverbindung, Polymer-Dünnfilm und Polymer-Dünnfilm-Vorrichtung unter deren Verwendung |
US9051344B2 (en) | 2005-05-06 | 2015-06-09 | Universal Display Corporation | Stability OLED materials and devices |
JP5090746B2 (ja) * | 2007-01-19 | 2012-12-05 | 株式会社ツジデン | カルバゾール系ランダム共重合体 |
TW201000513A (en) | 2008-04-25 | 2010-01-01 | Sumitomo Chemical Co | Polymer compound having residue of nitrogen-containing heterocyclic compound |
JP5609022B2 (ja) | 2008-06-23 | 2014-10-22 | 住友化学株式会社 | 金属錯体の残基を含む高分子化合物及びそれを用いた素子 |
CN102159642B (zh) | 2008-07-23 | 2015-07-22 | 3M创新有限公司 | 双组分环氧基结构粘合剂 |
WO2011040388A1 (ja) | 2009-09-30 | 2011-04-07 | 住友化学株式会社 | 積層構造体、重合体、電界発光素子及び光電変換素子 |
CN102372695B (zh) * | 2010-08-20 | 2013-10-30 | 清华大学 | 一种含有芳基吡啶环的化合物及其应用 |
WO2012086670A1 (ja) | 2010-12-21 | 2012-06-28 | 住友化学株式会社 | 組成物及びブロック型共重合体 |
KR101399636B1 (ko) * | 2011-03-11 | 2014-05-28 | (주)씨에스엘쏠라 | 유기발광화합물 및 이를 이용한 유기 광소자 |
JP2012211088A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-11-01 | Sumitomo Chemical Co Ltd | フッ素含有化合物並びにそれを含有する組成物及び薄膜 |
JP2012212704A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-11-01 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 液状組成物及びそれを用いた積層膜の製造方法 |
JP2013048190A (ja) | 2011-08-29 | 2013-03-07 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機エレクトロルミネッセンス素子および照明装置 |
JP5750165B2 (ja) | 2011-10-17 | 2015-07-15 | 住友化学株式会社 | 化合物 |
US9267003B2 (en) | 2012-01-30 | 2016-02-23 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Polymer compound, composition, and light-emitting device using the same |
JP5866222B2 (ja) | 2012-02-16 | 2016-02-17 | 住友化学株式会社 | 音と電気信号とを相互変換する装置、並びに該装置を含むスピーカー及びマイクロフォン |
CN104321362B (zh) | 2012-03-27 | 2017-02-22 | 住友化学株式会社 | 高分子化合物及使用其的发光元件 |
KR101640636B1 (ko) * | 2012-05-31 | 2016-07-18 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 헤테로환 화합물 및 이를 이용한 유기 전자 소자 |
WO2013191086A1 (ja) * | 2012-06-19 | 2013-12-27 | 住友化学株式会社 | 高分子化合物およびそれを用いた発光素子 |
CN105051088A (zh) * | 2013-03-28 | 2015-11-11 | 住友化学株式会社 | 高分子化合物及使用该化合物的发光元件 |
KR102164046B1 (ko) * | 2013-12-03 | 2020-10-12 | 덕산네오룩스 주식회사 | 유기전기 소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치 |
JP6489122B2 (ja) | 2014-04-18 | 2019-03-27 | 住友化学株式会社 | 発光素子およびそれに用いる高分子化合物 |
KR102195540B1 (ko) * | 2014-04-25 | 2020-12-29 | 덕산네오룩스 주식회사 | 유기전기 소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치 |
KR102233296B1 (ko) * | 2014-11-18 | 2021-03-29 | 덕산네오룩스 주식회사 | 유기전기 소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치 |
JP6707909B2 (ja) | 2015-03-18 | 2020-06-10 | 住友化学株式会社 | 高分子化合物およびそれを用いた発光素子 |
KR101674134B1 (ko) * | 2015-04-27 | 2016-11-08 | (주)더블유에스 | 트리아진 유도체 및 이를 포함한 유기 전계발광 소자 |
GB2545499A (en) | 2015-12-18 | 2017-06-21 | Cambridge Display Tech Ltd | Dopant, charge transfer salt and organic electronic device |
EP3385270A4 (en) | 2015-12-02 | 2020-01-22 | Sumitomo Chemical Company, Ltd | PROCESS FOR PRODUCING AROMATIC COMPOUND AND PALLADIUM COMPLEX |
KR102656918B1 (ko) * | 2015-12-03 | 2024-04-16 | 솔루스첨단소재 주식회사 | 유기 화합물 및 이를 포함하는 유기 전계 발광 소자 |
EP3438114B1 (en) | 2016-03-31 | 2020-11-04 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Metal complex, composition and light-emitting device |
JP6972912B2 (ja) * | 2016-10-28 | 2021-11-24 | 住友化学株式会社 | 組成物及びそれを用いた発光素子 |
KR102057763B1 (ko) * | 2016-11-25 | 2019-12-19 | 주식회사 엘지화학 | 플루오렌 유도체, 이를 이용한 유기 발광 소자 및 이의 제조방법 |
CN107382908A (zh) * | 2017-07-12 | 2017-11-24 | 赵东敏 | 一种联苯类化合物、有机电致发光器件及显示装置 |
CN108586368A (zh) * | 2018-06-06 | 2018-09-28 | 长春海谱润斯科技有限公司 | 一种含芴类结构的三嗪化合物及其有机发光器件 |
-
2020
- 2020-01-07 JP JP2020000660A patent/JP7495231B2/ja active Active
- 2020-01-21 EP EP20752612.0A patent/EP3922627A4/en active Pending
- 2020-01-21 KR KR1020217027952A patent/KR20210124335A/ko unknown
- 2020-01-21 US US17/424,348 patent/US20220123220A1/en not_active Abandoned
- 2020-01-21 WO PCT/JP2020/001828 patent/WO2020162156A1/ja unknown
- 2020-01-21 CN CN202080012183.2A patent/CN113365971B/zh active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009110642A1 (ja) | 2008-03-07 | 2009-09-11 | 住友化学株式会社 | 積層構造体 |
WO2012011510A1 (ja) | 2010-07-21 | 2012-01-26 | 住友化学株式会社 | 有機el素子 |
WO2012011441A1 (ja) | 2010-07-21 | 2012-01-26 | 住友化学株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
WO2012011418A1 (ja) | 2010-07-21 | 2012-01-26 | 住友化学株式会社 | 有機発光装置の製造方法及び有機発光装置 |
WO2012011511A1 (ja) | 2010-07-21 | 2012-01-26 | 住友化学株式会社 | 有機el素子の製造方法 |
WO2012114936A1 (ja) | 2011-02-21 | 2012-08-30 | 住友化学株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
JP2012209452A (ja) | 2011-03-30 | 2012-10-25 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2016528177A (ja) | 2013-12-27 | 2016-09-15 | ヒソン・マテリアル・リミテッドHeesung Material Ltd. | ヘテロ環化合物およびこれを用いた有機発光素子 |
JP2017522291A (ja) | 2014-06-30 | 2017-08-10 | メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH | 金属錯体 |
JP2017043574A (ja) | 2015-08-28 | 2017-03-02 | 住友化学株式会社 | 化合物及びそれを用いた発光素子 |
JP2017132734A (ja) | 2016-01-29 | 2017-08-03 | 東ソー株式会社 | フェナントリジニル基を有するトリアジン化合物及びその用途 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Synthetic Metals,2005年,154(1-3),P.97-100 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3922627A4 (en) | 2022-11-16 |
JP2020128367A (ja) | 2020-08-27 |
KR20210124335A (ko) | 2021-10-14 |
CN113365971A (zh) | 2021-09-07 |
CN113365971B (zh) | 2024-04-30 |
EP3922627A1 (en) | 2021-12-15 |
WO2020162156A1 (ja) | 2020-08-13 |
US20220123220A1 (en) | 2022-04-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102345329B1 (ko) | 조성물, 인광 발광성 화합물 및 발광 소자 | |
JP6548725B2 (ja) | 有機薄膜および有機薄膜の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置、照明装置、有機薄膜太陽電池、薄膜トランジスタ、塗料組成物 | |
JP5609024B2 (ja) | フェノキサジン系高分子化合物及びそれを用いた発光素子 | |
KR20030047749A (ko) | 중합체 및 이를 이용한 중합체 발광 소자 | |
JP2015110751A (ja) | 組成物およびそれを用いた発光素子 | |
JP5912135B2 (ja) | ポリマー | |
WO2013191086A1 (ja) | 高分子化合物およびそれを用いた発光素子 | |
JP7216754B2 (ja) | 組成物及びそれを含有する発光素子 | |
JP5762734B2 (ja) | 化合物及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP5880679B2 (ja) | 発光素子の製造方法 | |
JP6642571B2 (ja) | 発光素子及びその製造方法 | |
JP2018083941A (ja) | 組成物及びそれを用いた発光素子 | |
JP5836813B2 (ja) | 高分子及び該高分子を含んだ有機発光素子 | |
JP7495231B2 (ja) | 化合物およびそれを用いた発光素子 | |
JP6877976B2 (ja) | 発光素子 | |
JP7215957B2 (ja) | ブロック共重合体及び組成物、並びにそれらを用いた発光素子 | |
JP7192339B2 (ja) | 発光素子 | |
JP6320642B2 (ja) | 組成物 | |
JP2021020888A (ja) | 金属錯体及びそれを含有する発光素子 | |
JP6804465B2 (ja) | 組成物及びそれを用いた発光素子 | |
JP7354557B2 (ja) | 高分子化合物及びそれを用いた発光素子 | |
JP7261729B2 (ja) | 高分子化合物及びそれを用いた発光素子 | |
JP2020128525A (ja) | 高分子化合物およびそれを用いた発光素子 | |
WO2022181075A1 (ja) | 高分子化合物及びそれを用いた発光素子 | |
JP2023050141A (ja) | 組成物及びそれを含有する発光素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221028 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230926 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231122 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240123 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240325 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240514 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240523 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7495231 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |