JP7484281B2 - 対策方法選定支援システム、及び方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 104
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 68
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 61
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 54
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 24
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 21
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 16
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 claims description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 7
- 230000006870 function Effects 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000010801 machine learning Methods 0.000 description 3
- 238000013528 artificial neural network Methods 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000013480 data collection Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
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Description
以下、学習モードと監視モードの詳細を説明する。
202 計算機サーバ
203 クライアント計算機
204 ネットワーク
301 記憶装置
302 対策方法支援プログラム
401 表示装置
402 示プロセッサ
601 表示ボタン
602 時刻選定ボックス
603 対策方法優先度グラフ
604 実施対策記入ボックス
701 対策方法優先度グラフ
801 対策方法実施前の対策方法優先度グラフ
802 対策方法実施後の対策方法優先度グラフ
901 対策方法に紐づいた要因等の対応を表すテーブル
1001 対策方法の優先度の時系列データを表すテーブル
Claims (11)
- 製造ラインの製造装置で製造されるフィルムの欠陥発生時の対策方法選定を支援する対策方法選定支援システムであって、
外観検査装置により前記フィルムに対してその外観を検査した結果としての欠陥の発生有無が記録された外観検査データと 、前記製造装置の各種センサの測定値と、前記製造装置の設定値と、欠陥発生時の複数の対策方法と、を格納する記憶装置と、学習モードと監視モードを含む対策方法支援プログラムを実行するプロセッサを有する計算機サーバを備え、
前記プロセッサが前記対策方法支援プログラムを実行することで、
前記学習モードでは、
前記記憶装置に記録された過去の前記製造装置の設定値および各種センサの測定値と、前記外観検査データとから欠陥が発生していない正常時のデータを抽出し、前記正常時のデータを用いて欠陥要因ごとに、要因を定量的に表すターゲット変数の予測モデルを、ターゲット変数と関連性がある前記センサのパラメータと前記設定値のパラメータとから作成し、
前記監視モードでは、
前記製造装置の各種センサの測定値と前記製造装置の設定値と前記外観検査データと前記予測モデルとを受信し、欠陥が発生した際に前記対策方法について、前記予測モデルから得られるモデル予測値と前記測定値との乖離に基づき要因の異常度を前記ターゲット変数ごとに算出し、特定の前記ターゲット変数の優先度として、全ての前記ターゲット変数の異常度の合計値に対する前記特定のターゲット変数の異常度として算出する、
ことを特徴とする対策方法選定支援システム。 - 請求項1記載の対策方法選定支援システムであって、
前記計算機サーバは、複数の前記対策方法と対応する前記優先度を出力する、
ことを特徴とする対策方法選定支援システム。 - 請求項2記載の対策方法選定支援システムであって、
前記計算機サーバと通信可能であって、複数の前記対策方法と対応する前記優先度を表示する表示プロセッサを有するクライアント計算機を備える、
ことを特徴とする対策方法選定支援システム。 - 請求項3記載の対策方法選定支援システムであって、
前記表示プロセッサは、複数の前記対策方法と対応する前記優先度のグラフと、時刻選択ボックスと、表示ボタンと、作業者が実施した対策方法を入力する入力ボックスを表示装置に表示可能である、
ことを特徴とする対策方法選定支援システム。 - 請求項1記載の対策方法選定支援システムであって、
前記センサは、複数のセンサデバイスを含み、複数種類の測定項目について測定値を測定し、
前記プロセッサは、前記モデル予測値に基づいて第n(nは1以上の自然数)の測定項目の測定値を予測し、前記センサデバイスより前記第nの測定項目の測定値を受信し、予測した前記第nの測定項目の測定値と、前記センサデバイスより受信した前記第nの測定項目の測定値とに基づいて乖離を算出する、
ことを特徴とする対策方法選定支援システム。 - 請求項5記載の対策方法選定支援システムであって、
前記プロセッサは、前記乖離に基づき、前記第nの測定項目に対応する対策方法の優先度を算出する、
ことを特徴とする対策方法選定支援システム。 - 計算機サーバにより、製造ラインの製造装置で製造されるフィルムの欠陥発生時の対策方法選定を支援する対策方法選定支援方法であって、
前記計算機サーバは、外観検査装置により前記フィルムに対してその外観を検査した結果としての欠陥の発生有無が記録された外観検査データと 、前記製造装置の各種センサの測定値と、前記製造装置の設定値と、欠陥発生時の複数の対策方法と、を格納する記憶装置と、学習モードと監視モードを含む対策方法支援プログラムを実行するプロセッサを有し、
前記プロセッサが前記対策方法支援プログラムを実行することで、
前記学習モードでは、
前記記憶装置に記録された過去の前記製造装置の設定値および各種センサの測定値と、前記外観検査データとから欠陥が発生していない正常時のデータを抽出し、前記正常時のデータを用いて欠陥要因ごとに、要因を定量的に表すターゲット変数の予測モデルを、ターゲット変数と関連性がある前記センサのパラメータと前記設定値のパラメータとから作成し、
前記監視モードでは、
前記製造装置の各種センサの測定値と前記製造装置の設定値と前記外観検査データと前記予測モデルとを受信し、欠陥が発生した際に前記対策方法について、前記予測モデルから得られるモデル予測値と前記測定値との乖離に基づき要因の異常度を前記ターゲット変数ごとに算出し、特定の前記ターゲット変数の優先度として、全ての前記ターゲット変数の異常度の合計値に対する前記特定のターゲット変数の異常度として算出する、
ことを特徴とする対策方法選定支援方法。 - 請求項7記載の対策方法選定支援方法であって、
複数の前記対策方法と対応する前記優先度を表示装置に表示する、
ことを特徴とする対策方法選定支援方法。 - 請求項8記載の対策方法選定支援方法であって、
複数の前記対策方法と対応する前記優先度のグラフと、時刻選択ボックスと、表示ボタンと、作業者が実施した対策方法を入力する入力ボックスとを前記表示装置に表示する、
ことを特徴とする対策方法選定支援方法。 - 請求項7記載の対策方法選定支援方法であって、
前記センサは、複数のセンサデバイスを含み、複数種類の測定項目について測定値を測定し、
前記プロセッサは、前記モデル予測値に基づいて第n(nは1以上の自然数)の測定項目の測定値を予測し、前記センサデバイスより前記第nの測定項目の測定値を受信し、予測した前記第nの測定項目の測定値と、前記センサデバイスより受信した前記第nの測定項目の測定値とに基づいて乖離を算出する、
ことを特徴とする対策方法選定支援方法。 - 請求項10記載の対策方法選定支援方法であって、
前記プロセッサは、前記乖離に基づき、前記第nの測定項目に対応する対策方法の優先度を算出する、
ことを特徴とする対策方法選定支援方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020050591A JP7484281B2 (ja) | 2020-03-23 | 2020-03-23 | 対策方法選定支援システム、及び方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020050591A JP7484281B2 (ja) | 2020-03-23 | 2020-03-23 | 対策方法選定支援システム、及び方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021149733A JP2021149733A (ja) | 2021-09-27 |
JP7484281B2 true JP7484281B2 (ja) | 2024-05-16 |
Family
ID=77849119
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020050591A Active JP7484281B2 (ja) | 2020-03-23 | 2020-03-23 | 対策方法選定支援システム、及び方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7484281B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012137934A (ja) | 2010-12-27 | 2012-07-19 | Hitachi Ltd | 異常検知・診断方法、異常検知・診断システム、及び異常検知・診断プログラム並びに企業資産管理・設備資産管理システム |
JP2018160093A (ja) | 2017-03-23 | 2018-10-11 | 株式会社日立製作所 | 異常検知システムおよび異常検知方法 |
-
2020
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2012137934A (ja) | 2010-12-27 | 2012-07-19 | Hitachi Ltd | 異常検知・診断方法、異常検知・診断システム、及び異常検知・診断プログラム並びに企業資産管理・設備資産管理システム |
JP2018160093A (ja) | 2017-03-23 | 2018-10-11 | 株式会社日立製作所 | 異常検知システムおよび異常検知方法 |
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