JP7470793B2 - Hfc-23のリサイクルにおける触媒上の炭素堆積を減らす方法 - Google Patents
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Description
2CHClF2 → CHF3+CHFCl2
2CHCl2F → CHCl3+CHClF2
(1)1%~20%のフッ化水素と80%~99%の窒素の混合ガス雰囲気の下で、250℃~450℃でフッ化処理を1~6時間行う。
(2)フッ化水素の雰囲気の下で、300℃~500℃で2~8時間処理する。
(3)窒素パージして温度を下げる。
(1)本発明では、触媒本体に貴金属を添加し、フッ素-塩素交換反応の際、水素と原料ガス(HFC-23とハロゲン化炭化水素)を混合した後、連続的に触媒床層に導入して、水素の触媒表面における吸着を促進し、触媒表面の炭素堆積のその場での水素化によるCH4生成を促進し、これによって、その場での触媒上の炭素堆積を除去し、触媒の安定性と耐用期間が向上する。加えて、反応システム中のHFC-23やハロゲン化炭化水素(クロロフォルム)、HCFC-22およびHCFC-21自体が消火剤または冷却剤として使用可能なものであって燃焼性が良くないため、反応性に優れた水素を触媒上の炭素堆積抑制に利用して、目標反応性能に対する影響を小さくし、炭素体積の選択的な除去を実現することができる。
触媒の作製:三酸化二クロム触媒(触媒本体)に対する前処理を行った。前処理プロセスは、次の通りとした。1)10%のフッ化水素と90%の窒素の混合ガス雰囲気中にて、250℃でフッ化処理を2時間行う。2)フッ化水素の雰囲気中にて、300℃で5時間処理する。3)窒素をパージして温度を下げる。フッ化前処理済み触媒をn-ヘキサン中に注ぎ入れ均一に攪拌し、Ruナノコロイド分散液を滴下してRuのローディング量を制御して質量含有量を0.1%とした。連続的に4時間攪拌してから静置し、溶液の上層が透明に澄んだ後、ロータリーエバポレーターに入れて、80℃にて回転蒸発乾燥を行った。オーブン中で110℃にて一晩乾燥し、マッフル炉内で400℃にて6時間焼成することによって触媒を得た。これを触媒1とした。
触媒の作製:三酸化二クロム触媒(触媒本体)に対する前処理を行った。前処理プロセスは、次の通りとした。1)10%のフッ化水素と90%の窒素の混合ガス雰囲気中にて、250℃でフッ化処理を2時間行う。2)フッ化水素の雰囲気中にて、300℃で5時間処理する。3)窒素パージして温度を下げる。フッ化前処理済み触媒をn-ヘキサン中に注ぎ入れ均一に攪拌し、Ptナノコロイド分散液を滴下させて、Ptのローディング量を制御して質量含有量を0.1%とした。連続的に4時間攪拌してから静置し、溶液の上層が透明に澄んだ後、ロータリーエバポレーターに入れて、80℃にて回転蒸発乾燥を行った。オーブン中で110℃にて一晩乾燥し、マッフル炉中で400℃にて6時間焼成することによって触媒を得た。これを触媒2とした。
触媒の作製:三酸化二クロム触媒(触媒本体)に対する前処理を行った。前処理プロセスは、次の通りとした。1)10%のフッ化水素と90%の窒素の混合ガス雰囲気中にて、250℃でフッ化処理を2時間行う。2)フッ化水素の雰囲気中にて、300℃で5時間処理する。3)窒素パージして温度を下げる。フッ化前処理済み触媒をn-ヘキサン中に注ぎ入れ均一に攪拌し、Pdナノコロイド分散液を滴下させて、Pdのローディング量を制御して質量含有量を0.1%とした。連続的に4時間攪拌してから静置し、溶液の上層が透明に澄んだ後、ロータリーエバポレーターに入れて、80℃にて回転蒸発乾燥を行った。オーブン中で110℃にて一晩乾燥し、マッフル炉中で400℃にて6時間焼成することによって触媒を得た。これを触媒3とした。
本実施例の操作は実施例2と同様であって、違う点は、実施例2の触媒本体である三酸化二クロムをAlF3に替えたことであり、作製した触媒を触媒4とした。
本実施例の操作は実施例2と同様であって、違う点は、実施例2のPtのローディング量を0.1重量%から0.05重量%に下げたことで、作製した触媒を触媒5とした。
本実施例の操作は実施例2と同様であって、違う点は、実施例2のPtのローディング量を0.1重量%から1.0重量%に上げたことであり、作製した触媒を触媒6とした。
触媒の作製:三酸化二クロム触媒(触媒本体)と三酸化二コバルト粉末を研磨して混合し、Coの質量含有量を1.0%として、1.0%のCo/Cr2O3触媒前駆体を得た。この1.0%のCo/Cr2O3触媒前駆体に対する前処理を行った。前処理プロセスは、次の通りとした。1)10%のフッ化水素と90%の窒素の混合ガス雰囲気中にて、250℃でフッ化処理を2時間行う。2)フッ化水素の雰囲気中にて、300℃で5時間処理する。3)窒素パージして温度を下げる。
触媒の作製:フッ化アルミニウム(触媒本体)と三酸化二コバルト粉末を研磨して混合し、Coの質量含有量を1.0%として、1.0%のCo/AlF3触媒前駆体を得た。この1.0%のCo/AlF3触媒前駆体に対する前処理を行った。前処理プロセスは、次の通りとした。1)10%のフッ化水素と90%の窒素の混合ガス雰囲気中にて、250℃でフッ化処理を2時間行う。2)フッ化水素の雰囲気中にて、300℃で5時間処理する。3)窒素パージして温度を下げる。
三酸化二クロム触媒に対する前処理を行った。前処理プロセスは、次の通りとした。1)10%のフッ化水素と90%の窒素の混合ガス雰囲気中にて、250℃でフッ化処理を2時間行う。2)フッ化水素の雰囲気中にて、300℃で5時間処理する。3)窒素パージして温度を下げる。前処理済み触媒をB1とした。
本比較例の操作は比較例1と同様であって、違う点は、三酸化二クロムをAlF3に替えたことであり、前処理済み触媒をB2とした。
触媒の作製:三酸化二クロム触媒(触媒本体)に対する前処理を行った。前処理プロセスは、次の通りとした。1)10%のフッ化水素と90%の窒素の混合ガス雰囲気中にて、250℃でフッ化処理を2時間行う。2)フッ化水素の雰囲気中にて、300℃で5時間処理する。3)窒素パージして温度を下げる。フッ化前処理済み触媒をn-ヘキサン中に注ぎ入れ均一に攪拌し、Agナノコロイド分散液を滴下させて、Agのローディング量を制御して質量含有量を0.1重量%とした。連続的に4時間攪拌してから静置し、溶液の上層が透明に澄んだ後、ロータリーエバポレーターに入れて、80℃にて回転蒸発乾燥を行った。オーブン中で110℃にて一晩乾燥し、マッフル炉中で400℃にて6時間焼成することによって触媒を得た。これを触媒B3とした。
触媒の作製:三酸化二クロムと三酸化二コバルト粉末を研磨して混合し、Coの質量含有量を1.0%として、1.0%のCo/Cr2O3触媒前駆体を得た。この1.0%のCo/Cr2O3触媒前駆体に対する前処理を行った。前処理プロセスは、次の通りとした。1)10%のフッ化水素と90%の窒素の混合ガス雰囲気中にて、250℃でフッ化処理を2時間行う。2)フッ化水素の雰囲気中にて、300℃で5時間処理する。3)窒素パージして温度を下げる。前処理済み触媒をB4とした。
触媒の作製:三酸化二クロムと三酸化二鉄粉末を研磨して混合し、Feの質量含有量を1.0%として、1.0%のFe/Cr2O3触媒前駆体を得た。この1.0%のFe/Cr2O3触媒前駆体に対する前処理を行った。前処理プロセスは、次の通りとした。1)10%のフッ化水素と90%の窒素の混合ガス雰囲気中にて、250℃でフッ化処理を2時間行う。2)フッ化水素の雰囲気中にて、300℃で5時間処理する。3)窒素パージして温度を下げる。前処理済み触媒をB5とした。
触媒の作製:三酸化二クロムと三酸化二ニッケル粉末を研磨して混合し、Niの質量含有量を1.0%として、1.0%のNi/Cr2O3触媒前駆体を得た。前記1.0%のNi/Cr2O3触媒前駆体に対する前処理を行った。前処理プロセスは、次の通りとした。1)10%のフッ化水素と90%の窒素の混合ガス雰囲気中にて、250℃でフッ化処理を2時間行う。2)フッ化水素の雰囲気中にて、300℃で5時間処理する。3)窒素パージして温度を下げる。前処理済み触媒をB6とした。
本比較例の操作は比較例4と同様であって、違う点は、三酸化二クロムをフッ化アルミニウムに替えたことであり、前処理済み触媒をB7とした。
本比較例の操作は比較例4と同様であって、違う点は、比較例4のCoの質量含有量を1.0%から0.1%まで下げたことであり、作製した触媒を触媒B8とした。
本比較例の操作は比較例4と同様であって、違う点は、比較例4のCoの質量含有量を0.1%から5.0%まで上げたことであり、作製した触媒を触媒B9とした。
Claims (8)
- HFC-23のリサイクルにおける触媒の炭素堆積を減らす方法であって、
前記HFC-23のリサイクルは、HFC-23とハロゲン化炭化水素とのフッ素-塩素交換反応によって実現され、
前記フッ素-塩素交換反応の触媒は、触媒本体と貴金属とを含み、前記貴金属はPt、PdまたはRuのうちの少なくとも一つから選択され、かつその添加量は0.01~2重量%であり、
前記触媒本体は、クロム、アルミニウムもしくはマグネシウム系触媒、またはクロム、アルミニウムもしくはマグネシウムを活性炭/黒鉛上に支持させた触媒であり、
前記触媒は、金属酸化物をさらに含み、前記金属酸化物はCo 2 O 3 であり、その添加量は0.5~2重量%であり、
前記フッ素-塩素交換反応中に水素を導入する、ことを特徴とする方法。 - 前記貴金属はPtまたはPdであり、その添加量は0.1~0.5重量%である、ことを特徴とする請求項1に記載のHFC-23のリサイクルにおける触媒の炭素堆積を減らす方法。
- 前記金属酸化物の添加量は0.5~1.0重量%である、ことを特徴とする請求項1に記載のHFC-23のリサイクルにおける触媒の炭素堆積を減らす方法。
- 水素、HFC-23およびハロゲン化炭化水素で混合ガスを形成して、触媒床層に導入するが、HFC-23、ハロゲン化炭化水素および水素のモル比は1:1~3:0.01~0.5である、ことを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載のHFC-23のリサイクルにおける触媒の炭素堆積を減らす方法。
- 水素を連続的に触媒床層に導入する、ことを特徴とする請求項4に記載のHFC-23のリサイクルにおける触媒の炭素堆積を減らす方法。
- 前記触媒に対する前処理を行うが、前記前処理は、
(1)1%~20%のフッ化水素と80%~99%の窒素の混合ガス雰囲気下で、250℃~450℃でフッ化処理を1~6時間行う工程、
(2)フッ化水素の雰囲気下で、300℃~500℃で2~8h処理する工程、および、
(3)窒素パージして温度を下げる工程を含む、
ことを特徴とする請求項1に記載のHFC-23のリサイクルにおける触媒の炭素堆積を減らす方法。 - 前記ハロゲン化炭化水素は、クロロフォルム、またはクロロフォルムを含有する混合物である、ことを特徴とする請求項1に記載のHFC-23のリサイクルにおける触媒の炭素堆積を減らす方法。
- 前記フッ素-塩素交換反応の条件は、HFC-23とハロゲン化炭化水素とのモル比を1:1~3とし、反応温度を250~400℃とし、反応圧力を0.1~3barとし、保持時間を4~50秒とする、ことを特徴とする請求項1に記載のHFC-23のリサイクルにおける触媒の炭素堆積を減らす方法。
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