JP7175409B2

JP7175409B2 - 露光装置

Info

Publication number: JP7175409B2
Application number: JP2022036821A
Authority: JP
Inventors: 勝山賀; 悟緑川
Original assignee: Orc Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Orc Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2017-09-13
Filing date: 2022-03-10
Publication date: 2022-11-18
Anticipated expiration: 2037-09-13
Also published as: JP2022088436A

Description

本発明は、フレキシブルプリント基板などの長尺基板（ワークピース）を、ロールトゥロール搬送系（Roll to Roll carrier、以下、ＲｔｏＲ搬送系という）によって搬送する露光装置に関する。

ＲｔｏＲ搬送系を備えた露光装置では、露光ステージの上流側に供給リール（巻出しロール）、下流側に巻取リール（巻取ロール）がそれぞれ配置され、プリント配線基板などの長尺基板を供給リール、巻取リールに巻き回した後、上流側～下流側へ搬送しながら露光を行う。

具体的には、長尺基板の裏面を吸着支持する露光ステージを長尺基板搬送方向に沿って移動させながら、長尺基板上方に設置された露光ヘッドによって投影エリア（露光対象エリア）の位置に応じたパターン光を投影する。露光ステージが露光完了位置まで移動すると、露光ステージが降下して最初の露光位置へ帰還する。同じ露光動作を繰り返すことで、長尺基板全体に対してパターンを形成する。

特開２０１５－２２２３７０号公報

従来のＲｔｏＲ搬送系は露光装置のベース（筐体）に固定されている。そのため、長尺基板は露光開始前に供給リールから間欠的に引き出され、下流側へ送り出される。また、露光終了後に露光ステージが上流側へ復帰するのに伴い、長尺基板の上流側への巻き戻しが生じる場合がある。このような基板の移動に起因して長尺基板に蛇行が生じ、また露光位置ずれ、あるいは長尺基板の反り、皺や擦れなどのダメージが生じる。特に、複数の長尺基板を並走させて同時露光する場合、蛇行調整が困難となる。

したがって、長尺基板の蛇行を確実に抑えることができる基板搬送系を構成することが求められる。

本発明の露光装置は、長尺基板を支持し、基板搬送ラインに沿って往復移動可能な露光ステージと、露光ステージの上流側に配置され、供給リールを設けた基板供給部と、露光ステージの下流側に配置され、巻取リールを設けた基板巻取部と、露光ステージを基板搬送ラインに沿って往復移動させるステージ移動機構と、基板供給部と基板巻取部とを基板搬送ラインに沿って往復移動させる搬送部移動機構とを備える。

そして、基板供給部および基板巻取部が、露光ステージと基板供給部および基板巻取部との相対的位置関係を維持するように、露光ステージの移動に合わせて、基板搬送ラインに沿って移動するここでの「上流側」は、露光ステージの供給リール側を支援し、「下流側」は、巻取リール側を表す。

本発明の他の態様である露光装置は、長尺基板を支持し、基板搬送ラインに沿って往復移動可能な露光ステージと、露光ステージの上流側に配置され、供給リールを設けた基板供給部と、露光ステージの下流側に配置され、巻取リールを設けた基板巻取部とを備え、基板供給部および基板巻取部が、基板搬送ラインに沿って移動可能であり、露光ステージと基板供給部および基板巻取部との相対的位置関係を維持するように、基板供給部および基板巻取部の移動を制御する移動制御部をさらに備える。

例えば、基板供給部と基板巻取部の少なくとも一方と、露光ステージとの距離間隔を検知するセンサをさらに備え、移動制御部は、検出される距離間隔に応じて、露光ステージと基板供給部および基板巻取部の移動を制御することができる。

本発明の他の態様である露光装置は、長尺基板を支持し、基板搬送ラインに沿って往復移動可能な露光ステージと、それぞれ長尺基板に対してパターン光を投影する複数の露光ヘッドから構成される露光部と、長尺基板の未露光部分を巻いた状態で保持し、送り出す供給リールと、長尺基板の露光済み部分を巻き取り、保持する巻取リールとを備え、露光動作のとき、供給リールおよび巻取リールが、露光ステージと供給リールおよび巻取リールとの間の互いの相対的位置関係を維持するように、露光ステージの移動機構とは異なる移動機構によって、基板搬送ラインに沿って移動する。

本発明の他の態様である露光装置は、長尺基板を支持し、基板搬送ラインに沿って往復移動可能な露光ステージと、それぞれ長尺基板に対してパターン光を投影する複数の露光ヘッドから構成される露光部と、長尺基板の未露光部分を巻いた状態で保持し、送り出す供給リールと、長尺基板の露光済み部分を巻き取り、保持する巻取リールとを備え、露光動作のとき、露光ステージと、供給リールと、巻取リールとを、基板搬送ラインに沿って、一体的に移動させる移動機構とを備える。

例えば、長尺基板が、並列した複数の長尺基板で構成される。

例えば、露光ステージが、長尺基板を吸着保持しながら移動するとともに、昇降可能である。

本発明によれば、ＲｔｏＲ搬送系を備えた露光装置において、長尺基板の蛇行を抑えながら露光することができる。

本実施形態である露光装置の概略的構成図である。露光装置の一部を模式的に示した斜視図である。露光装置の概略的ブロック図である。露光開始時と露光完了時の露光ステージおよび搬送系の位置を示した図である。

以下では、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。

図１は、本実施形態である露光装置の概略的構成図である。図２は、露光装置の一部を模式的に示した斜視図である。図３は、露光装置の概略的ブロック図である。

露光装置１０は、ロール状に巻かれた長尺基板Ｗを搬送しながら露光動作を行うＲｔｏＲ搬送系を備えた露光装置であり、基板供給装置２０、基板巻取装置３０、露光部４０を備える。長尺基板Ｗは、ここでは長尺フィルムに銅薄膜層を形成した上にフォトレジストなどの感光材料を塗布した（あるいは貼り付けた）長尺シート状の基板が巻回されてロール状に形成されている。図２に示すように、長尺基板Ｗは、幅同一の２条（一対）の基板Ｗ１、Ｗ２から構成されている。

露光ステージ（テーブル）１５は、長尺基板Ｗの裏面を吸着して平坦に保持するとともに、裏面吸着位置と裏面から離れた所定の離間位置との間でＺ方向に昇降可能であり、図示しない昇降機構によって昇降する。露光ステージ１５は、後述するようにステージ移動機構５０に支持され、Ｘ方向に沿って移動可能である。なお、以下では、長尺基板Ｗの搬送方向（搬送ライン）Ｍに沿った方向を“Ｘ”、搬送方向Ｍに垂直な方向（基板幅方向）を“Ｙ”、そして、Ｘ、Ｙに垂直な方向（鉛直方向）を“Ｚ”で表す。

露光部４０は、長尺基板Ｗ１、Ｗ２からＺ方向に所定距離離れた場所に配置され、不図示のフレームを介してベース（基台）１０Ｂに固定されている。図３に示すように、露光部４０は、半導体レーザなどの光源４１と、照明光学系４２と、複数のマイクロミラーをマトリクス配列させたＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）４３と、結像光学系４４などをそれぞれ備えた複数の露光ヘッドから構成され、各露光ヘッドには、搬送方向Ｍに沿った露光領域が規定されている。光源４１は光源制御部１１０によって駆動される。

各露光ヘッドのＤＭＤは、露光制御部１２０から送られてくる露光エリア位置に応じた描画データ（ラスタデータ）に基づいてマイクロミラーの姿勢を位置決めし、これによってパターン光が長尺基板Ｗ１、Ｗ２に投影される。露光部４０に対する長尺基板Ｗ１、Ｗ２の相対移動に応じてマイクロミラーの姿勢を切り替えることにより、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の感光材料に対する露光（多重露光など）が行われ、これによってパターンが形成される。コントローラ１００（図３参照）は、露光装置１０の露光動作全体を制御する。なお、マスクを用いた露光部によって構成することも可能である。

基板供給装置２０は、露光ステージ１５の上流側に配置される供給リール２２Ａ、２２Ｂと、支持ローラ２４と、供給リール２２Ａ、２２Ｂをそれぞれ軸回転させる駆動機構（図示せず）を備えている。駆動機構は、例えばステッピングモータなどで構成される。基板供給装置２０によって片持ち支持される供給リール２２Ａ、２２Ｂは、それぞれ長尺基板Ｗ１、Ｗ２の未露光部分をロール状に巻いた状態で保持、固定し、また、軸回転することによって下流側に向けて長尺基板Ｗを送り出すことができる。なお、露光ステージ１５から見て供給リール２２Ａ、２２Ｂ側を“上流側”、巻取リール３２Ａ、３２Ｂ側を“下流側”とする。

基板巻取装置３０は、露光ステージ１５の下流側に配置される巻取リール３２Ａ、３２Ｂ、支持ローラ３４と、巻取リール３２Ａ、３２Ｂをそれぞれ軸回転させる駆動機構（図示せず）を備えている。巻取リール３２Ａ、３２Ｂは、それぞれ長尺基板Ｗ１、Ｗ２の露光済み部分をロール状に巻いた状態で保持、固定し、また、軸回転することによって長尺基板Ｗ１、Ｗ２を巻き取ることができる。基板供給装置２０、基板巻取装置３０による長尺基板Ｗ１、Ｗ２の巻き取り処理などは、搬送制御部１３０（図３参照）によって制御されている。

供給リール２２Ａ、２２Ｂ、巻取リール３２Ａ、３２Ｂと露光ステージ１５との間にそれぞれ配置される支持ローラ２４、３４は、長尺基板Ｗ１、Ｗ２を支持し、長尺基板Ｗ１、Ｗ２が搬送されるときに軸回転するフリーローラとして構成されている。支持ローラ２４、３４は、長尺基板Ｗ１、Ｗ２が露光面高さもしくは露光面高さより僅かに低い位置で下流側へ移動するようにその高さが調整されており、それぞれ基板供給装置２０、基板巻取装置３０によって片持ち支持されている。長尺基板Ｗ１、Ｗ２には、支持ローラ２４、３４の区間Ｔ（図１参照）の架け渡し部分に適度なテンションがかかっており、長尺基板Ｗ１、Ｗ２は皺や伸びがない状態で搬送されていく。

供給リール２２Ａ、２２Ｂおよび巻取リール３２Ａ、３２Ｂは、長尺基板Ｗ１、Ｗ２のロール状巻回部分を基板装着時に固定する周知の機構２６Ａ、２６Ｂ、および３６Ａ、３６Ｂを備える。また、基板供給装置２０、基板巻取装置３０それぞれの駆動機構は、供給リール２２Ａと巻取リール３２Ａ、供給リール２２Ｂと巻取リール３２Ｂとをそれぞれ同期回転させ、長尺基板Ｗ１、Ｗ２を所定長さだけ間欠的に搬送させる。

ステージ移動機構５０は、露光ステージ１５を片持ち支持する昇降機構（図示しない）を装備した移動部材５２と、ベース１０Ｂに設置された一対のガイドレール５４Ａ、５４Ｂおよびアクチュエータ５５を備えている。一対のガイドレール５４Ａ、５４Ｂは、Ｘ方向に沿って延び、移動部材５２はガイドレール５４Ａ、５４Ｂに沿ってＸ方向およびその逆方向に移動可能である。アクチュエータ５５は、例えばボールネジによって構成される。

搬送部移動機構６０は、プレート状の移動部材６２と、ベース１０Ｂに設置された一対のガイドレール６４Ａ、６４Ｂおよびアクチュエータ６５を備えている。基板供給装置２０と基板巻取装置３０は、移動部材６２の上に搭載されており、一体となって移動する（連動する）。一対のガイドレール６４Ａ、６４Ｂは、Ｘ方向に沿って延び、移動部材６２はガイドレール６４Ａ、６４Ｂに沿ってＸ方向およびその逆方向に移動可能である。

ベース１０Ｂに設けられた移動制御部７０は、アクチュエータ５５、６５の駆動を制御し、搬送系（基板供給装置２０および基板巻取装置３０）と露光ステージ１５との相対的位置関係を維持する、すなわち相対的距離間隔が一定となるように、露光ステージ１５と基板供給装置２０、基板巻取装置３０の移動をフィードバック制御する。

露光ステージ１５と基板供給装置２０（基板巻取装置３０）との搬送方向Ｍに沿った相対的距離間隔を測定するため、位置検出用フォトセンサ９０が、基板供給装置２０の露光ステージ１５と対向する側面に配置されている（図２参照）。位置検出用フォトセンサ９０はＬＥＤなどの光源を内蔵し、露光ステージ１５の側面を照射する。露光ステージ１５側面は、光の照射位置が基準位置とそれ以外の位置との間で光量差が生じるように形成されている。移動制御部７０は、検出光量に応じた相対的距離間隔と基準となる相対的距離間隔との差に基づいて、アクチュエータ５５、６５を制御する。

露光ステージ１５の支持ローラ２４側には、長尺基板Ｗ１、Ｗ２それぞれの端面位置を検出する位置センサ８０が設けられている。位置センサ８０は、例えばラインセンサなどの透過型フォトセンサによって構成することが可能である。基板供給措置２０と基板巻取装置３０は、それぞれ供給リール２２Ａ、２２Ｂと巻取リール３２Ａ、３２Ｂの軸方向位置を制御する機構（図示せず）を備えており、検出された端面位置に応じてリール軸方向位置を調整し、蛇行走行を補正することが可能である。

図４は、露光開始時と露光完了時の露光ステージおおよび搬送系の位置を示した図である。

露光開始前、露光ステージ１５は長尺基板Ｗ１、Ｗ２を吸着保持し、供給リール２２Ａ、２２Ｂと巻取リール３２Ａ、３２Ｂは、駆動されないため静止状態となっている。露光開始に伴い、露光ステージ１５はＸ方向に沿って所定速度で移動していく。このとき、基板供給装置２０および基板巻取装置３０は、露光ステージ１５の移動に合わせて移動する。

すなわち、露光ステージ１５と同期して移動開始し、基板供給装置２０および基板巻取装置３０と露光ステージ１５との相対的位置関係を保つように、露光ステージ１５と同一速度でＸ方向に移動していく（並走する）。したがって、長尺基板Ｗ１、Ｗ２は、露光ステージ１５の移動前および露光ステージ１５の移動中の間、下流側へ送り出されず、露光ステージ１５に対して静止している。露光ステージ１５の移動中、各露光ヘッドの露光エリア位置に応じたパターン光が、露光部４０から投影される。

露光ステージ１５と、基板供給装置２０および基板巻取装置３０が露光完了位置に到達すると、露光ステージ１５は長尺基板Ｗ１、Ｗ２の吸着支持を解除し、降下する。そして、供給リール２２Ａ、２２Ｂおよび巻取リール３２Ａ、３２Ｂが同期回転し、長尺基板Ｗ１、Ｗ２は所定長さ分だけ巻取リール３２Ａ、３２Ｂに巻き取られる。

巻取リール３２Ａ、３２Ｂ側への巻き取りが終了すると、露光ステージ１５と基板供給装置２０および基板巻取装置３０が同期移動し、露光開始位置へ戻る。この間、供給リール２２Ａ、２２Ｂと巻取リール３２Ａ、３２Ｂは、駆動されないために静止状態となっている。上述した露光動作を繰り返すことによって、長尺基板Ｗ１、Ｗ２全体に対してパターンが形成されていく。

このように本実施形態によれば、長尺基板Ｗ１、Ｗ２を搬送するＲｔｏＲ搬送系を備えた露光装置１０において、露光ステージ１５の上流側に設けられた供給リール２２Ａ、２２Ｂを保持する基板供給装置２０と、下流側に設けられた巻取リール３２Ａ、３２Ｂを保持する基板巻取装置３０が設けられている。露光動作のとき、露光ステージ１５はステージ移動機構５０によってＸ方向に移動し、同時に、基板供給装置２０および基板巻取装置３０が、搬送部移動機構６０によってＸ方向へともに移動する。

基板搬送系（基板供給装置２０、基板巻取装置３０）が露光ステージ１５と一緒に移動するため、長尺基板Ｗ１、Ｗ２が露光ステージ１５の移動開始前および移動中に下流側へ送り出されない。そのため、従来の搬送系のような露光中の蛇行走行が抑制され、蛇行走行に起因する露光位置ずれ、あるいは基板の皺より、反りなどが生じない。また、このような基板搬送系を構成することによって、ダンサーローラーなどの機構を設ける必要がなく、簡易な構成で基板搬送系を構築することが可能となる。

基板供給装置２０と基板巻取装置３０は、露光中、長尺基板Ｗを下流側の一方向のみ送り出せばよく、巻き戻しを行う必要がない。そのため、長尺基板Ｗの蛇行を抑えたパターン露光を実現することができる。特に、蛇行調整が困難な２条の長尺基板Ｗ１、Ｗ２を搬送する露光装置に好適である。

基板搬送系が移動するため、基板搬送長（供給リール２２Ａ、２２Ｂと巻取リール３２Ａ、３２Ｂ間の基板長さ）を短く構成することができる。基板搬送長が短くなることで、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の皺、伸びなどが生じにくく、精度よくパターンを形成することができる。特に、１つの支持ローラ２４、３４を設けるだけで長尺基板Ｗ１、Ｗ２を送り出す搬送系を構成することができる。

また、露光動作完了後、露光ステージ１５が長尺基板Ｗ１、Ｗ２を吸着支持していない間に長尺基板Ｗ１、Ｗ２を下流側に送り出して巻き取るため、巻き取りをスムーズに行うことができる。このとき基板搬送長が短いため、短時間での巻き取りが可能となる。

本実施形態では、露光ステージ１５と基板搬送系（基板供給装置２０、基板巻取装置３０）は、それぞれステージ移動機構５０、搬送部移動機構６０によって別々に駆動されている。長尺基板Ｗ１、Ｗ２に関して言うと、供給リール２２Ａ、２２Ｂのロール状部分、巻取リール３２Ａ、３２Ｂのロール状部分の巻径は、長尺基板Ｗ１、Ｗ２が基板巻取装置３０に巻取られていく過程で逐次変化し、重量バランスが一定とならない。

しかしながら、ステージ移動機構５０とは異なる搬送部移動機構６０を設けることにより、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の重量バランス変化があっても露光ステージ１５の移動制御に影響が出るのを防いでいる。また、従来のステージ移動機構を利用したまま搬送系を構築することが可能となる。

一方、基板供給装置２０と基板巻取装置３０は、同じ移動部材６２に固定支持されており、一体となって移動する。基板供給装置２０と基板巻取装置３０が連動するため、基板供給装置２０と基板巻取装置３０との間で相対的位置関係に変化が生じず、露光ステージ１５との相対的維持関係を維持させることが容易となる。また、搬送部移動機構６０を１つの駆動系でまとめることができる。

一方で、移動制御部７０が、露光ステージ１５の移動中、露光ステージ１５と基板供給装置２０および基板巻取装置３０との相対的位置関係を保つように、アクチュエータ５５、６５を駆動制御している。これによって、供給リール２２Ａ、２２Ｂ、巻取リール３２Ａ、３２Ｂが露光ステージ１５に近づき、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の伸び、反りなどが生じるのを抑え、また、露光位置ずれを防ぐことができる。

なお、移動制御部７０は、距離間隔が閾値以上となったときに移動速度、加速度を制御するようにしてもよい。あるいは、供給リール２２Ａ、２２Ｂおよび／または巻取リール３２Ａ、３２Ｂを軸回転制御して、長尺基板Ｗ１、Ｗ２に適切なテンションがかかるように調整してもよい。

２条の長尺基板Ｗ１、Ｗ２だけでなく、より多くの複数の長尺基板を並列させて同時搬送させることも可能であり、また、１つの長尺基板で構成することも可能である。基板供給装置２０と基板巻取装置３０については、機械的に連結させず、別々の移動機構で移動させるようにしてもよい。また、露光ステージ１５と基板供給装置２０、基板巻取装置３０とを同じ移動機構で移動させるようにしてもよい。

以上の実施形態では、露光ステージ１５の上流側に基板供給装置２０と下流側に基板巻取装置３０を設けて、長尺基板Ｗ１、Ｗ２を同方向に移動させように供給リール２２Ａ、２２Ｂと巻取リール３２Ａ、３２Ｂを駆動していたが、長尺基板Ｗ１とＷ２とがお互いに逆方向に移動するようにしてもよい。

すなわち、露光ステージ１５の両側に２対のリールを設け、一方のリール対をＸ方向に向けて巻き取るように供給リール、巻取リールを設置する一方、他方のリール対を－Ｘ方向に向けて巻き取るように供給リール、巻取リールを設けることが可能である。この場合、基板供給装置と基板巻取装置の機能を組み合わせた一対の搬送装置を露光ステージに対して移動させる。このように長尺基板Ｗ１とＷ２とがお互いに逆方向に移動するように構成すると、露光ステージの上流側と下流側における長尺基板の重量バランスの変化を軽減することが可能となる。

また、以上の実施形態では露光ステージ１５が移動することで長尺基板Ｗ１、Ｗ２と露光部４０との相対移動を実現し露光を行っていたが、露光ステージ１５がベース１０Ｂに固定され、露光部４０が不図示の移動装置によって基板搬送方向に移動することで相対移動するようにしてもよい。その場合、基板供給装置２０と基板巻取装置３０とが、露光ステージ１５と相対的位置関係を維持するようにベース１０Ｂに固定される。

１０露光装置
１５露光ステージ
２０基板供給装置
２２Ａ、２２Ｂ供給リール
３０基板巻取装置
３２Ａ、３２Ｂ巻取リール
４０露光部
５０ステージ移動機構
６０搬送部移動機構
７０移動制御部
８０位置センサ
９０位置検出用フォトセンサ

Claims

長尺基板を支持し、基板搬送ラインに沿って往復移動可能な露光ステージと、
前記露光ステージの上流側に配置され、供給リールを設けた基板供給部と、
前記露光ステージの下流側に配置され、巻取リールを設けた基板巻取部と、
前記露光ステージを基板搬送ラインに沿って往復移動させるステージ移動機構と、
前記基板供給部と前記基板巻取部とを基板搬送ラインに沿って往復移動させる搬送部移動機構とを備え、
前記基板供給部および前記基板巻取部が、前記露光ステージと前記基板供給部および前記基板巻取部との相対的位置関係を維持するように、前記露光ステージの移動に合わせて、基板搬送ラインに沿って移動することを特徴とする露光装置。
長尺基板を支持し、基板搬送ラインに沿って往復移動可能な露光ステージと、
前記露光ステージの上流側に配置され、供給リールを設けた基板供給部と、
前記露光ステージの下流側に配置され、巻取リールを設けた基板巻取部とを備え、
前記基板供給部および前記基板巻取部が、基板搬送ラインに沿って移動可能であり、
前記露光ステージと前記基板供給部および前記基板巻取部との相対的位置関係を維持するように、前記基板供給部および前記基板巻取部の移動を制御する移動制御部をさらに備えることを特徴とする露光装置。
前記基板供給部と前記基板巻取部の少なくとも一方と、前記露光ステージとの距離間隔を検知するセンサをさらに備え、
前記移動制御部が、検出される距離間隔に応じて、前記露光ステージと前記基板供給部および前記基板巻取部の移動を制御することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
長尺基板を支持し、基板搬送ラインに沿って往復移動可能な露光ステージと、
それぞれ前記長尺基板に対してパターン光を投影する複数の露光ヘッドから構成される露光部と、
前記長尺基板の未露光部分を巻いた状態で保持し、送り出す供給リールと、
前記長尺基板の露光済み部分を巻き取り、保持する巻取リールとを備え、
露光動作のとき、前記供給リールおよび前記巻取リールが、前記露光ステージと前記供給リールおよび前記巻取リールとの間の互いの相対的位置関係を維持するように、前記露光ステージの移動機構とは異なる移動機構によって、基板搬送ラインに沿って移動することを特徴とする露光装置。
長尺基板を支持し、基板搬送ラインに沿って往復移動可能な露光ステージと、
それぞれ前記長尺基板に対してパターン光を投影する複数の露光ヘッドから構成される露光部と、
前記長尺基板の未露光部分を巻いた状態で保持し、送り出す供給リールと、
前記長尺基板の露光済み部分を巻き取り、保持する巻取リールとを備え、
露光動作のとき、前記露光ステージと、前記供給リールと、前記巻取リールとを、基板搬送ラインに沿って、一体的に移動させる移動機構と
を備えたことを特徴とする露光装置。
前記長尺基板が、並列した複数の長尺基板で構成されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の露光装置。
前記露光ステージが、前記長尺基板を吸着保持しながら移動するとともに、昇降可能であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の露光装置。