JP7144318B2 - 調光フィルム用透明導電フィルム及び調光フィルム - Google Patents
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Description
基材フィルムは、高い光透過性を有することが好ましい。従って、基材フィルムの材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン、ポリエーテルサルフォン、ポリスルホン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、及びセルロースナノファイバー等が挙げられる。上記基材フィルムの材料は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。
導電層は、光透過性を有する導電性材料により形成されている。上記導電性材料としては、特に限定されないが、例えば、IZO(インジウム亜鉛酸化物)及びITO(インジウムスズ酸化物)などのIn系酸化物、SnO2及びFTO(フッ素ドープ酸化スズ)などのSn系酸化物、AZO(アルミニウム亜鉛酸化物)及びGZO(ガリウム亜鉛酸化物)などのZn系酸化物、ナトリウム、ナトリウム-カリウム合金、リチウム、マグネシウム、アルミニウム、マグネシウム-銀混合物、マグネシウム-インジウム混合物、アルミニウム-リチウム合金、Al/Al2O3混合物、Al/LiF混合物、金等の金属、CuI、Agナノワイヤー(AgNW)、カーボンナノチューブ(CNT)並びに導電性透明ポリマーなどが挙げられる。上記導電性材料は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。
上記導電層と上記基材フィルムとの間に、アンダーコート層が配置されていてもよい。上記アンダーコート層は、例えば、屈折率調整層である。上記アンダーコート層が配置されることにより、導電層と基材フィルム(基材フィルムがハードコート層を有する場合は、導電層とハードコート層)との間の屈折率の差を小さくすることができるので、透明導電フィルムの光透過性をより一層高めることができる。
上記基材フィルムの上記導電層側とは反対の表面上(他方の表面上)に保護フィルムが配置されていてもよい。
本発明に係る調光フィルムは、第1の透明導電フィルムと、第2の透明導電フィルムと、調光層とを備える。上記調光層は、上記第1の透明導電フィルムと上記第2の透明導電フィルムとの間に配置されている。本発明に係る調光フィルムでは、上記第1の透明導電フィルム及び上記第2の透明導電フィルムの内の少なくとも一方が、本発明に係る透明導電フィルムである。上記第1の透明導電フィルム及び上記第2の透明導電フィルムの一方が、本発明に係る透明導電フィルムであってもよく、上記第1の透明導電フィルム及び上記第2の透明導電フィルムの双方が、本発明に係る透明導電フィルムであってもよい。
透明導電フィルムの作製:
基材フィルムとして、厚み50μmのPETフィルムを用意した。PETフィルムの一方の面にジルコニア粒子を分散したアクリル系ハードコート樹脂を塗布し、厚み1.0μmのハードコート層1を形成した。PETフィルムの他方の面に、アクリル系ハードコート樹脂を塗布し、厚み1.0μmのハードコート層2を形成した。このようにして、両面ハードコートフィルムを得た。
この両面ハードコートフィルムを真空装置内に設置し、真空排気を実施した。真空度が9.0×10-4Paまで到達した後、アルゴンガスを導入して、DCマグネトロンスパッタリング法によりアルゴンガス雰囲気下でハードコート層1側からSiOx層(2nm)、SiO2層(16nm)、SiOx層(2nm)をこの順で成膜し、その上にインジウムスズ酸化物(ITO)層を18nm積層した。具体的には、SnO2が7重量%のITO焼結体ターゲット、及びターゲット表面の最大水平磁束密度が1000ガウスとなるカソードを用いて、スパッタ圧力3.5×10-1Pa、O2圧力4×10-3Pa、Ar圧力1.1×10-1Paで、厚み17nmの導電層(インジウムスズ酸化物層)を形成した。その後熱風循環式オーブンにて140℃で30分アニール処理を行うことで、光透過性導電フィルムを得た。
調光フィルムの作製: 液晶成分として4-ブチルビフェニル-4’-カルボニトリル100重量部及び4’-ヒドロキシ-4-ビフェニルカルボニトリル50重量部を用いた。バインダー樹脂としてメタクリル酸-2-エチルヘキシル100重量部及びアクリル酸-2-エチルヘキシル50重量部を用いた。上記液晶成分と、上記バインダー樹脂と、光重合開始剤(BASF社製「Irgacure 184」)2重量部と、調光層の厚みを調整するギャップ材として粒径20μmのアクリル樹脂粒子(積水化学工業社製、ミクロパール)1重量部とを混合し、調光層を得た。上記光透過性導電フィルムを導電層側が向かい合うように2枚重ねラミネーター(テスター産業社製、小型ラミネーター)にセットし、調光層を間に流し込んで貼り合わせを行った。得られた積層フィルムをUVランプにて、150W/m2及び5分の条件で硬化させることで、調光フィルムを得た。
導電層の形成条件(O2圧力)及びアニール処理条件(加熱温度及び加熱時間)を下記の表1に示すように設定したこと以外は実施例1と同様にして、透明導電フィルム及び調光フィルムを得た。
導電層としてアルミニウム亜鉛酸化物(AZO)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、透明導電フィルム及び調光フィルムを得た。ターゲットとしては、Al2O5が2重量%のAZO焼結体ターゲットを用いた。導電層(アルミニウム亜鉛酸化物層)の厚みは17nmであった。
(1)表面張力
得られた透明導電フィルムの導電層の基材フィルム側とは反対の表面の表面張力を23℃で測定した。表面張力の測定には、和光純薬工業社製のぬれ張力試験用混合液を用いた。ぬれ張力試験用混合液を用い、導電層の表面に6cm2以上の面積になるように液体を拡げて、液膜を形成した。液体の量は、たまりを作らないで液膜を形成する程度にした。測定は毎回未測定領域で行い、複数回にわたって液体を拡げないようにした。
上記調光フィルムの貼り合せ時に、透明導電フィルムと調光層との貼り合せむらが発生するか否かを評価した。貼り合せむらとは、調光フィルムを透過光で見た際に、スジ状や斑点状の濃淡が見えることをいう。
A:透明導電フィルムと調光層との貼り合せむらが発生していない
B:透明導電フィルムと調光層との貼り合せむらが発生している
得られた調光フィルムにおいて、調光フィルムを構成する透明導電フィルム2枚を180°方向に引き剥がしたときの剥離時の強度をピール強度とした。ピール強度は引っ張り試験機で測定することにより求めた。引っ張り試験機としては島津製作所社製「EZ Test」を用いて測定した。調光フィルムを1inchの幅にカットして測定を行った。剥離する速度は100mm/minとした。
得られた透明導電フィルムの導電層の表面抵抗値(シート抵抗)を、抵抗率計(三菱化学アナリテック社製「ロレスタAX MCP-T370」)を用いて、JIS K7194に基づいて、測定した。
得られた透明導電フィルムの波長550nmにおける全光線透過率を、ヘーズメーター(日本電色工業社製「NDH-2000」)を用いて、JIS K7105に基づいて、測定した。
得られた透明導電フィルムのヘイズ値を、ヘーズメーター(日本電色工業社製「NDH-2000)を用いて、JIS K7136に基づいて測定した。
11…基材フィルム
11a…第1の表面
11b…第2の表面
12…導電層
21…調光フィルム
31…調光層
Claims (4)
- アクリル樹脂と、前記アクリル樹脂中に液晶分子とを含む調光層を備える調光フィルムに用いられる透明導電フィルムであって、
基材フィルムと、前記基材フィルムの一方の表面側に配置されている導電層とを有し、
前記透明導電フィルムは、前記調光層に前記導電層が接するように用いられ、
前記導電層の前記基材フィルム側とは反対の表面の表面張力が28dyn/cm以上、50dyn/cm以下である、調光フィルム用透明導電フィルム。 - 前記導電層の前記基材フィルム側とは反対の表面の表面張力が34dyn/cm以下である、請求項1に記載の調光フィルム用透明導電フィルム。
- 第1の透明導電フィルムと、
第2の透明導電フィルムと、
前記第1の透明導電フィルムと前記第2の透明導電フィルムとの間に配置された調光層とを備え、
前記調光層が、アクリル樹脂と、前記アクリル樹脂中に液晶分子とを含み、
前記第1の透明導電フィルム及び前記第2の透明導電フィルムの内の少なくとも一方が、請求項1又は2に記載の調光フィルム用透明導電フィルムである、調光フィルム。 - 前記調光層に対する前記調光フィルム用透明導電フィルムのピール強度が3.0N/inch以上である、請求項3に記載の調光フィルム。
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