JP7078935B2 - 含フッ素錯体化合物、及びこれを用いる含フッ素有機化合物の製造方法 - Google Patents
含フッ素錯体化合物、及びこれを用いる含フッ素有機化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7078935B2 JP7078935B2 JP2019169762A JP2019169762A JP7078935B2 JP 7078935 B2 JP7078935 B2 JP 7078935B2 JP 2019169762 A JP2019169762 A JP 2019169762A JP 2019169762 A JP2019169762 A JP 2019169762A JP 7078935 B2 JP7078935 B2 JP 7078935B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- fluorine
- thf
- nmr
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 208
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 title claims description 97
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 94
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 title claims description 94
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 26
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 title description 7
- -1 pentafluorosulfanyl groups Chemical group 0.000 claims description 218
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 96
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 42
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 126
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 88
- 238000000034 method Methods 0.000 description 68
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 44
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N Phenanthrene Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 43
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 41
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 39
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 31
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 28
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 24
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 23
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 22
- 238000002330 electrospray ionisation mass spectrometry Methods 0.000 description 21
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 20
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 18
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 17
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 14
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 14
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 13
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 12
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 12
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 12
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 11
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 238000004009 13C{1H}-NMR spectroscopy Methods 0.000 description 10
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 10
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 10
- 238000003818 flash chromatography Methods 0.000 description 9
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 8
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 6
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 6
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 5
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 5
- 125000005841 biaryl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 5
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 5
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N boronic acid Chemical compound OBO ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 4
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 4
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OVEWNBYMFPGNRR-UHFFFAOYSA-N (1,1,2,2-tetrafluoro-2-phenylethyl)benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(F)(F)C(F)(F)C1=CC=CC=C1 OVEWNBYMFPGNRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SKGRFPGOGCHDPC-UHFFFAOYSA-N 1-iodo-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(I)C=C1 SKGRFPGOGCHDPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 3
- YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N as-o-xylenol Natural products CC1=CC=C(O)C=C1C YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N iodobenzene Chemical compound IC1=CC=CC=C1 SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SYSZENVIJHPFNL-UHFFFAOYSA-N (alpha-D-mannosyl)7-beta-D-mannosyl-diacetylchitobiosyl-L-asparagine, isoform B (protein) Chemical compound COC1=CC=C(I)C=C1 SYSZENVIJHPFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YVZCHMCAZVBAOI-UHFFFAOYSA-N 1-(1,1,2,2-tetrafluoro-2-phenylethyl)-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound C1=CC(C(F)(F)F)=CC=C1C(F)(F)C(F)(F)C1=CC=CC=C1 YVZCHMCAZVBAOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- WKJOQYHMXRVQDK-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)acetamide Chemical compound CN(C)CC(N)=O WKJOQYHMXRVQDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CCZWSTFVHJPCEM-UHFFFAOYSA-N 2-iodopyridine Chemical compound IC1=CC=CC=N1 CCZWSTFVHJPCEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OHHKQBZOURGNLR-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-chloro-1-iodobenzene Chemical compound ClC1=CC(Br)=CC=C1I OHHKQBZOURGNLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIEBHDXUIJSHSL-UHFFFAOYSA-N 4-iodobenzaldehyde Chemical compound IC1=CC=C(C=O)C=C1 NIEBHDXUIJSHSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOKDXPVXJWTSRM-UHFFFAOYSA-N 4-iodobenzonitrile Chemical compound IC1=CC=C(C#N)C=C1 XOKDXPVXJWTSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006306 4-iodophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1I 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003435 aroyl group Chemical group 0.000 description 2
- HSDAJNMJOMSNEV-UHFFFAOYSA-N benzyl chloroformate Chemical compound ClC(=O)OCC1=CC=CC=C1 HSDAJNMJOMSNEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 229910000175 cerite Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- YCBJOQUNPLTBGG-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-iodobenzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(I)C=C1 YCBJOQUNPLTBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- LULAYUGMBFYYEX-UHFFFAOYSA-N metachloroperbenzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 LULAYUGMBFYYEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 125000006574 non-aromatic ring group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N phthalic anhydride Chemical compound C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 2
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 2
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- HJYSJYHWFUBGLO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-dimethyl-[4-[1,1,2,2-tetrafluoro-2-[4-(trifluoromethyl)phenyl]ethyl]phenoxy]silane Chemical compound FC(C(C1=CC=C(C=C1)O[Si](C)(C)C(C)(C)C)(F)F)(F)C1=CC=C(C=C1)C(F)(F)F HJYSJYHWFUBGLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005000 thioaryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N tricyclohexylphosphine Chemical compound C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N trimethylphosphine Chemical compound CP(C)C YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1C COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWHDROKFUHTORW-UHFFFAOYSA-N tritert-butylphosphane Chemical compound CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C(C)(C)C BWHDROKFUHTORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- OFBZFCDEEKKBPC-UHFFFAOYSA-N (1,1,2,2-tetrafluoro-3-phenylpropyl)benzene Chemical compound FC(C(CC1=CC=CC=C1)(F)F)(C1=CC=CC=C1)F OFBZFCDEEKKBPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFDGGPSDLCPLRS-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-phenyloctan-3-one Chemical compound FC(C(C(CCCCC)=O)(F)F)(C1=CC=CC=C1)F YFDGGPSDLCPLRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGSVDMWDOWRCFE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoropent-4-enylbenzene Chemical compound FC(CC=C)(C(C1=CC=CC=C1)(F)F)F AGSVDMWDOWRCFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZQTRPPVKQPFO-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2C=NOC2=C1 KTZQTRPPVKQPFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APFKHBUPKZQJQP-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trimethyl-2-(1,1,2,2-tetrafluoro-2-phenylethyl)benzene Chemical group FC(C(C1=CC=CC=C1)(F)F)(F)C1=C(C=C(C=C1C)C)C APFKHBUPKZQJQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMMCSVDDDBQCTL-UHFFFAOYSA-N 1-[1,1,2,2-tetrafluoro-2-[4-(trifluoromethyl)phenyl]ethyl]-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(C(C1=CC=C(C=C1)C(F)(F)F)(F)F)(C1=CC=C(C=C1)C(F)(F)F)F WMMCSVDDDBQCTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUMVWZAONQRMDR-UHFFFAOYSA-N 1-[1,1,2,2-tetrafluoro-2-[4-(trifluoromethyl)phenyl]ethyl]naphthalene Chemical class FC(C(C1=CC=CC2=CC=CC=C12)(F)F)(F)C1=CC=C(C=C1)C(F)(F)F CUMVWZAONQRMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBPNYVKUZDIQSV-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-[1,1,2,2-tetrafluoro-2-[4-(trifluoromethyl)phenyl]ethyl]benzene Chemical compound FC(C(C1=CC=C(C=C1)Br)(F)F)(F)C1=CC=C(C=C1)C(F)(F)F JBPNYVKUZDIQSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDZJDDKWFMNBBE-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-[1,1,2,2-tetrafluoro-2-[4-(trifluoromethyl)phenyl]ethyl]benzene Chemical class FC(C(C1=CC=C(C=C1)Cl)(F)F)(F)C1=CC=C(C=C1)C(F)(F)F PDZJDDKWFMNBBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRNPCRVNSAJARZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-[1,1,2,2-tetrafluoro-2-[4-(trifluoromethyl)phenyl]ethyl]benzene Chemical compound FC(C(C1=CC=C(C=C1)C=C)(F)F)(F)C1=CC=C(C=C1)C(F)(F)F BRNPCRVNSAJARZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFXSUYKSSSYNOW-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-4-(1,1,2,2-tetrafluoro-2-phenylethyl)benzene Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(F)(F)C(F)(F)C1=CC=CC=C1 IFXSUYKSSSYNOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRFRJPWVOXCUEM-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-4-[1,1,2,2-tetrafluoro-2-[4-(trifluoromethyl)phenyl]ethyl]benzene Chemical compound FC(C(C1=CC=C(C=C1)OC)(F)F)(F)C1=CC=C(C=C1)C(F)(F)F NRFRJPWVOXCUEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004214 1-pyrrolidinyl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001462 1-pyrrolyl group Chemical group [*]N1C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- LUGZULVOHCJEHO-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoro-1-(4-methoxyphenyl)-3-phenylpropan-1-one Chemical compound FC(C(=O)C1=CC=C(C=C1)OC)(C(C1=CC=CC=C1)(F)F)F LUGZULVOHCJEHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXSXULDJZWDNJD-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoro-3-phenylpropanoic acid Chemical compound FC(C(=O)O)(C(C1=CC=CC=C1)(F)F)F DXSXULDJZWDNJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIBFJPXGNVPNHK-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluoro-1,3-benzodioxole-4-carbaldehyde Chemical group C1=CC(C=O)=C2OC(F)(F)OC2=C1 NIBFJPXGNVPNHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000579 2,2-diphenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- VYVHAUQIKOXIDB-UHFFFAOYSA-N 2-(1,1,2,2-tetrafluoro-2-phenylethyl)aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1C(F)(F)C(F)(F)C1=CC=CC=C1 VYVHAUQIKOXIDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOTDYVVJCZXJSF-UHFFFAOYSA-N 2-(1,1,2,2-tetrafluoro-2-phenylethyl)phenol Chemical compound FC(C(C1=CC=CC=C1)(F)F)(F)C1=C(C=CC=C1)O MOTDYVVJCZXJSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRXRIKUZMGVZHN-UHFFFAOYSA-N 2-(1,1,2,2-tetrafluoro-2-phenylethyl)pyridine Chemical compound C=1C=CC=NC=1C(F)(F)C(F)(F)C1=CC=CC=C1 BRXRIKUZMGVZHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEGCNXMCSPWDFM-UHFFFAOYSA-N 2-(1,1,2,2-tetrafluoro-2-phenylethyl)thiophene Chemical compound FC(C(C1=CC=CC=C1)(F)F)(F)C=1SC=CC=1 XEGCNXMCSPWDFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOOFAKCCTQIPLK-UHFFFAOYSA-N 2-(4-iodophenyl)ethynyl-trimethylsilane Chemical group C[Si](C)(C)C#CC1=CC=C(I)C=C1 WOOFAKCCTQIPLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQHSSYROJYPFDV-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1,3-dichloro-5-(trifluoromethyl)benzene Chemical group FC(F)(F)C1=CC(Cl)=C(Br)C(Cl)=C1 IQHSSYROJYPFDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- UBPDKIDWEADHPP-UHFFFAOYSA-N 2-iodoaniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1I UBPDKIDWEADHPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROIMNSWDOJCBFR-UHFFFAOYSA-N 2-iodothiophene Chemical compound IC1=CC=CS1 ROIMNSWDOJCBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDTMFDGELKWGFT-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropan-2-olate Chemical compound CC(C)(C)[O-] SDTMFDGELKWGFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004485 2-pyrrolidinyl group Chemical group [H]N1C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- VHMICKWLTGFITH-UHFFFAOYSA-N 2H-isoindole Chemical compound C1=CC=CC2=CNC=C21 VHMICKWLTGFITH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003349 3-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004575 3-pyrrolidinyl group Chemical group [H]N1C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001541 3-thienyl group Chemical group S1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- FCXCYEWYOLSTGI-UHFFFAOYSA-N 4,4,5,5-tetrafluoro-2-methyl-5-phenylpent-1-en-3-one Chemical compound FC(C(C(=C)C)=O)(C(C1=CC=CC=C1)(F)F)F FCXCYEWYOLSTGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBDVSKCLRNPVMK-UHFFFAOYSA-N 4,4,5,5-tetrafluoro-5-phenylpent-1-en-3-one Chemical compound FC(C(C=C)=O)(C(C1=CC=CC=C1)(F)F)F VBDVSKCLRNPVMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFCZZOOOEFTWEU-UHFFFAOYSA-N 4-(1,1,2,2-tetrafluoro-2-phenylethyl)benzaldehyde Chemical compound FC(C(C1=CC=CC=C1)(F)F)(F)C1=CC=C(C=O)C=C1 SFCZZOOOEFTWEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYCXKUSZQKTPTG-UHFFFAOYSA-N 4-(1,1,2,2-tetrafluoro-2-phenylethyl)benzonitrile Chemical compound C=1C=C(C#N)C=CC=1C(F)(F)C(F)(F)C1=CC=CC=C1 YYCXKUSZQKTPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSWNJARUPYNMRD-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1,2,2-tetrafluoro-2-[4-(trifluoromethyl)phenyl]ethyl]benzaldehyde Chemical compound FC(C(C1=CC=C(C=C1)C=O)(F)F)(F)C1=CC=C(C=C1)C(F)(F)F HSWNJARUPYNMRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMFUKUMFARNOHO-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1,2,2-tetrafluoro-2-[4-(trifluoromethyl)phenyl]ethyl]benzonitrile Chemical compound FC(C(C1=CC=C(C=C1)C#N)(F)F)(F)C1=CC=C(C=C1)C(F)(F)F WMFUKUMFARNOHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIBVLZCMEJIFDL-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dicarboxyphenyl)-1,1,2,2-tetrafluoroethyl]phthalic acid Chemical compound C(=O)(O)C=1C=C(C=CC=1C(=O)O)C(C(C1=CC(=C(C=C1)C(=O)O)C(=O)O)(F)F)(F)F MIBVLZCMEJIFDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNHXPXJGRGBPFE-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dimethylphenyl)-1,1,2,2-tetrafluoroethyl]-1,2-dimethylbenzene Chemical compound CC=1C=C(C=CC=1C)C(C(C1=CC(=C(C=C1)C)C)(F)F)(F)F XNHXPXJGRGBPFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMCLHZBUCSDUNB-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-chloro-1-(1,1,2,2-tetrafluoro-2-phenylethyl)benzene Chemical compound BrC1=CC(=C(C=C1)C(C(C1=CC=CC=C1)(F)F)(F)F)Cl NMCLHZBUCSDUNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSMDINRNYYEDRN-UHFFFAOYSA-N 4-iodophenol Chemical compound OC1=CC=C(I)C=C1 VSMDINRNYYEDRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000339 4-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- KDDQRKBRJSGMQE-UHFFFAOYSA-N 4-thiazolyl Chemical group [C]1=CSC=N1 KDDQRKBRJSGMQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVOFLSXZLFHJCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,1,2,2-tetrafluoro-2-phenylethyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound FC(C(C1=CC=CC=C1)(F)F)(F)C=1C=C2C(C(=O)OC2=O)=CC=1 PVOFLSXZLFHJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCKVHOUUJMYIAN-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound BrC1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 BCKVHOUUJMYIAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWDWFSXUQODZGW-UHFFFAOYSA-N 5-thiazolyl Chemical group [C]1=CN=CS1 CWDWFSXUQODZGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 6-[3-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-3-oxopropyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)C(CCC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)=O DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N Cu+ Chemical compound [Cu+] VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium on carbon Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKDLQFSLLCQTOH-UHFFFAOYSA-N Trichodonin Natural products C1C(O)C2C3(COC(=O)C)C(C=O)C(C)(C)CCC3OC(=O)C22C(=O)C(=C)C1C2 QKDLQFSLLCQTOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHKPLLOSJHHKNU-INIZCTEOSA-N [(3S)-3-[8-(1-ethyl-5-methylpyrazol-4-yl)-9-methylpurin-6-yl]oxypyrrolidin-1-yl]-(oxan-4-yl)methanone Chemical compound C(C)N1N=CC(=C1C)C=1N(C2=NC=NC(=C2N=1)O[C@@H]1CN(CC1)C(=O)C1CCOCC1)C FHKPLLOSJHHKNU-INIZCTEOSA-N 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 230000010933 acylation Effects 0.000 description 1
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXMOTZIXVICDSD-UHFFFAOYSA-N anisoyl chloride Chemical compound COC1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 MXMOTZIXVICDSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940027989 antiseptic and disinfectant iodine product Drugs 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003725 azepanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002393 azetidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004069 aziridinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006269 biphenyl-2-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C1=C(*)C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006268 biphenyl-3-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000319 biphenyl-4-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000259 cinnolinyl group Chemical group N1=NC(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001047 cyclobutenyl group Chemical group C1(=CCC1)* 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001162 cycloheptenyl group Chemical group C1(=CCCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003678 cyclohexadienyl group Chemical group C1(=CC=CCC1)* 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000298 cyclopropenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002576 diazepinyl group Chemical group N1N=C(C=CC=C1)* 0.000 description 1
- 125000004852 dihydrofuranyl group Chemical group O1C(CC=C1)* 0.000 description 1
- 125000005043 dihydropyranyl group Chemical group O1C(CCC=C1)* 0.000 description 1
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N dimethylpyridine Natural products CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005982 diphenylmethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCNBIJXIZDEKCK-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-(1,1,2,2-tetrafluoro-2-phenylethyl)benzoate Chemical compound C(C)OC(=O)C1=CC=C(C=C1)C(C(C1=CC=CC=C1)(F)F)(F)F UCNBIJXIZDEKCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004992 fast atom bombardment mass spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- YWGHUJQYGPDNKT-UHFFFAOYSA-N hexanoyl chloride Chemical compound CCCCCC(Cl)=O YWGHUJQYGPDNKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005946 imidazo[1,2-a]pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002636 imidazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003453 indazolyl group Chemical group N1N=C(C2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005956 isoquinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001786 isothiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 1
- 125000002757 morpholinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- SWMBQMGPRYJSCI-UHFFFAOYSA-N octylphosphane Chemical compound CCCCCCCCP SWMBQMGPRYJSCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 125000001715 oxadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000160 oxazolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- YJMBIJXCTSRBGZ-UHFFFAOYSA-N pentafluoro-[4-(1,1,2,2-tetrafluoro-2-phenylethyl)phenyl]-lambda6-sulfane Chemical compound FC(C(C1=CC=CC=C1)(F)F)(F)C1=CC=C(C=C1)S(F)(F)(F)(F)F YJMBIJXCTSRBGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-M phenolate Chemical compound [O-]C1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004592 phthalazinyl group Chemical group C1(=NN=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004483 piperidin-3-yl group Chemical group N1CC(CCC1)* 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical group CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002206 pyridazin-3-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)N=N1 0.000 description 1
- 125000004940 pyridazin-4-yl group Chemical group N1=NC=C(C=C1)* 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000246 pyrimidin-2-yl group Chemical group [H]C1=NC(*)=NC([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004527 pyrimidin-4-yl group Chemical group N1=CN=C(C=C1)* 0.000 description 1
- 125000004528 pyrimidin-5-yl group Chemical group N1=CN=CC(=C1)* 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000719 pyrrolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- RPACBEVZENYWOL-XFULWGLBSA-M sodium;(2r)-2-[6-(4-chlorophenoxy)hexyl]oxirane-2-carboxylate Chemical compound [Na+].C=1C=C(Cl)C=CC=1OCCCCCC[C@]1(C(=O)[O-])CO1 RPACBEVZENYWOL-XFULWGLBSA-M 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003718 tetrahydrofuranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001412 tetrahydropyranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004568 thiomorpholinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- DHWBYAACHDUFAT-UHFFFAOYSA-N tricyclopentylphosphane Chemical compound C1CCCC1P(C1CCCC1)C1CCCC1 DHWBYAACHDUFAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGNTWNVBGLNYDV-UHFFFAOYSA-N triisopropylphosphine Chemical compound CC(C)P(C(C)C)C(C)C IGNTWNVBGLNYDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F1/00—Compounds containing elements of Groups 1 or 11 of the Periodic System
- C07F1/08—Copper compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B37/00—Reactions without formation or introduction of functional groups containing hetero atoms, involving either the formation of a carbon-to-carbon bond between two carbon atoms not directly linked already or the disconnection of two directly linked carbon atoms
- C07B37/04—Substitution
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/26—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton
- C07C17/263—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by condensation reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/68—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton from amines, by reactions not involving amino groups, e.g. reduction of unsaturated amines, aromatisation, or substitution of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C25/00—Compounds containing at least one halogen atom bound to a six-membered aromatic ring
- C07C25/02—Monocyclic aromatic halogenated hydrocarbons
- C07C25/13—Monocyclic aromatic halogenated hydrocarbons containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C253/00—Preparation of carboxylic acid nitriles
- C07C253/30—Preparation of carboxylic acid nitriles by reactions not involving the formation of cyano groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
- C07C255/49—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
- C07C255/50—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton to carbon atoms of non-condensed six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/11—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by reactions increasing the number of carbon atoms
- C07C37/18—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by reactions increasing the number of carbon atoms by condensation involving halogen atoms of halogenated compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C381/00—Compounds containing carbon and sulfur and having functional groups not covered by groups C07C301/00 - C07C337/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C39/00—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C39/24—Halogenated derivatives
- C07C39/367—Halogenated derivatives polycyclic non-condensed, containing only six-membered aromatic rings as cyclic parts, e.g. halogenated poly-hydroxyphenylalkanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
- C07C41/18—Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds
- C07C41/30—Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds by increasing the number of carbon atoms, e.g. by oligomerisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/20—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C43/225—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/45—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by condensation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
- C07C45/67—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
- C07C45/68—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C47/00—Compounds having —CHO groups
- C07C47/52—Compounds having —CHO groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings
- C07C47/55—Compounds having —CHO groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/20—Unsaturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C49/227—Unsaturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms containing halogen
- C07C49/233—Unsaturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms containing halogen containing six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/20—Unsaturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C49/227—Unsaturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms containing halogen
- C07C49/233—Unsaturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms containing halogen containing six-membered aromatic rings
- C07C49/235—Unsaturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms containing halogen containing six-membered aromatic rings having unsaturation outside the aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
- C07C49/84—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing ether groups, groups, groups, or groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
- C07C67/333—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
- C07C67/343—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/62—Halogen-containing esters
- C07C69/65—Halogen-containing esters of unsaturated acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/76—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/76—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C69/78—Benzoic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D213/26—Radicals substituted by halogen atoms or nitro radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D307/87—Benzo [c] furans; Hydrogenated benzo [c] furans
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
- C07D333/06—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
- C07D333/12—Radicals substituted by halogen atoms or nitro or nitroso radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic System
- C07F5/02—Boron compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic System
- C07F5/02—Boron compounds
- C07F5/04—Esters of boric acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/0825—Preparations of compounds not comprising Si-Si or Si-cyano linkages
- C07F7/083—Syntheses without formation of a Si-C bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/30—Hydrogen technology
- Y02E60/50—Fuel cells
Description
このため、従来、様々な含フッ素有機化合物の合成方法の開発に多大な努力が払われている。
含フッ素有機化合物のなかで、テトラフルオロエチレン構造(-CF2-CF2-)(以下、本明細書中、TFE構造と称する場合がある。)の両末端に有機基を有する構造の化合物(本明細書中、TFE化合物と称する場合がある。)は、ユニークな特徴を有し、例えば、燃料電池材料等に用いられる含フッ素重合体の単量体、及び液晶材料として有用である。
このようなTFE化合物の合成方法として、非特許文献1~4には、それぞれ、種々の化合物のフッ素化による合成方法が開示されている。
また、例えば、非特許文献5、及び非特許文献6には、それぞれ、含フッ素銅化合物を用いたTFE化合物の合成方法が開示されている。
また、非特許文献5、及び6に記載の方法は、テトラフルオロエチレンを出発原料とする方法ではなく、原料の入手の容易性に欠ける。
様々なTFE化合物を、含フッ素樹脂の原料単量体として広く用いられ、工業的に大量生産されている化合物であるテトラフルオロエチレンを原料にして製造することができれば、その産業上のメリットは極めて大きい。
従って、本発明は、テトラフルオロエチレンを出発原料として利用でき、かつ多種多様な、TFE構造の両末端に有機基を有する含フッ素化合物を合成できる製造方法を提供することを目的とする。
式(1a):
R1-CF2-CF2-M1 (1a)
[式中、
M1は、銅、亜鉛、ニッケル、鉄、コバルト、及びスズからなる群より選択される金属を表し;及び
R1は、有機基を表す。]
で表される含フッ素有機金属化合物、及び
ピリジン環を有する化合物、及びホスフィンからなる群より選択される配位子
を含む含フッ素錯体化合物。
項2.
項1に記載の含フッ素錯体化合物の製造方法であって、
部分構造式(2a):
R1-B (2a)
[式中、
R1は、項1における記載と同意義を表す。]
で表される部分を有するボロン酸又はそのエステル又はそれらの塩である有機ホウ素化合物を、
前記金属M1の水酸化物、ハロゲン化物、アルコキシド、アリールオキシド、チオアルコキシド、又はチオアリールオキシドである金属化合物、
前記配位子、及び
テトラフルオロエチレン
と反応させる工程A
を含む製造方法。
項3.
式(4):
R2-CF2-CF2-R1 (4)
[式中、
R1は、項1における記載と同意義を表し;及び
R2は、有機基を表す。]
で表される含フッ素化合物の製造方法であって、
項1に記載の含フッ素錯体化合物を、
式(5):
X-R2 (5)
[式中、
R2は前記と同意義を表し;及び
Xはハロゲン原子を表す。]
で表されるハロゲン化合物
と反応させる工程B
を含む製造方法。
項4.
式(4-1):
(Ra1S-)ma1Ra1L-CF2-CF2-Ra2L(-Ra2S)ma2
(4-1)
[式中、
式:(Ra1S-)ma1Ra1Lで表される部分は、ma1個のRa1Sで置換されたRa1Lを表し;
式:Ra2L(-Ra2S)ma2で表される部分は、ma2個のRa2Sで置換されたRa2Lを表し;
Ra1S、及びRa2Sは、同一又は異なって、及び各出現において独立して、重合性基を表し;
ma1、及びma2は、同一又は異なって、0以上の整数を表し、及びma1とma2の合計は1以上であり;及び
Ra1L、及びRa2Lは、同一又は異なって、ma1個のRa1S、又はma2個のRa2Sに加えて、更に、フルオロ基、パーフルオロ有機基、及びペンタフルオロスルファニル基からなる群より選択される1個以上の置換基を有していてもよい芳香環基を表す。]
で表される含フッ素化合物。
項5.
式(4-2):
(Ra1S-)ma1Ra1L-CF2-CF2-Ra2L(-Ra2S)ma2
(4-2)
[式中、
(Ra1S-)ma1Ra1L-で表される部分は、ma1個のRa1Sで置換されたRa1Lを表し;
-Ra2L(-Ra2S)ma2で表される部分は、ma2個のRa2Sで置換されたRa2Lを表し;
Ra1S、及びRa2Sは、同一又は異なって、及び各出現において独立して、1個以上のハロゲン原子で置換されていてもよいアシル基を表し;
ma1、及びma2は、同一又は異なって、0以上の整数を表し、及びma1とma2の合計は1以上であり;及び
Ra1L、及びRa2Lは、同一又は異なって、ma1個のRa1S、又はma2個のRa2Sに加えて、更に、(1)フルオロ基、パーフルオロ有機基、及びペンタフルオロスルファニル基からなる群より選択される1個以上の置換基を有していてもよい芳香環基、又は(2)結合手を表す。
但し、Ra1L、及びRa2Lは、同時に結合手ではない。]
で表される含フッ素化合物。
項6.
式(4-3):
(Ra1S-)ma1Ra1L-CF2-CF2-Ra2L(-Ra2S)ma2
(4-3)
[式中、
(Ra1S-)ma1Ra1Lで表される部分は、ma1個のRa1Sで置換されたRa1Lを表し;
Ra2L(-Ra2S)ma2で表される部分は、ma2個のRa2Sで置換されたRa2Lを表し;
Ra1Sは、各出現において独立して、フルオロ基、パーフルオロ有機基、及びペンタフルオロスルファニル基からなる群より選択される1個以上の置換基を有していてもよい1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロイソベンゾフラン-5-イル基を表し;
Ra2Sは、各出現において独立して、
(1)フルオロ基、パーフルオロ有機基、及びペンタフルオロスルファニル基からなる群より選択される1個以上の置換基を有していてもよい1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロイソベンゾフラン-5-イル基、
(2)アミノ基、
(3)カルボキシ基、又は
(4)ハロゲノカルボニル基
を表し;
ma1は、1以上の整数を表し;
ma2は、0以上の整数を表し;及び
Ra1L、及びRa2Lは、同一又は異なって、ma1個のRa1S、又はma2個のRa2Sに加えて、更に、(1)フルオロ基、パーフルオロ有機基、及びペンタフルオロスルファニル基からなる群より選択される1個以上の置換基を有していてもよい芳香環基、又は(2)結合手を表す。
但し、Ra2Sが(2)アミノ基、(3)カルボキシ基、又は(4)ハロゲノカルボニル基である場合、Ra2Lは、Ra2Sに加えて、(1)フルオロ基、パーフルオロ有機基、及びペンタフルオロスルファニル基からなる群より選択される1個以上の置換基を有していてもよい芳香環基である。]
で表される含フッ素化合物。
項7.
式(4-4):
(Ra1S-)ma1Ra1L-CF2-CF2-Ra2L(-Ra2S)ma2
(4-4)
[式中、
(Ra1S-)ma1Ra1Lで表される部分は、ma1個のRa1Sで置換されたRa1Lを表し;
Ra2L(-Ra2S)ma2で表される部分は、ma2個のRa2Sで置換されたRa2Lを表し;
Ra1S、及びRa2Sは、同一又は異なって、及び各出現において独立して、フルオロ基、パーフルオロ有機基、又はペンタフルオロスルファニル基を表し;
ma1、及びma2は、同一又は異なって、0以上の整数を表し、及びma1とma2の合計は1以上であり;及び
Ra1Lは、及びRa2Lは、同一又は異なって、ma1個のRa1S、又はma2個のRa2Sに加えて、更に、1個以上のアルコキシ基を有していてもよい芳香環基を表す。]
で表される含フッ素化合物。
項8.
式(4-5):
(Ra1S-)ma1Ra1L-CF2-CF2-Ra2S (4-5)
[式中、
式:(Ra1S)ma1-Ra1Lで表される部分は、ma1個のRa1Sで置換されたRa1Lを表し;
Ra1Sは、重合性基を表し;
Ra2Sは、(1)カルキボキシ基、若しくはその前駆体基、又は(2)スルホ基、若しくはその前駆体基を表し;
ma1は、0以上の整数を表し;
Ra1Lは、ma1個のRa1Sに加えて、更に、フルオロ基、パーフルオロ有機基、及びペンタフルオロスルファニル基からなる群より選択される1個以上の置換基を有していてもよい芳香環基を表す。]
で表される含フッ素化合物。
化合物)の合成を可能にする。
当該「有機基」の例としては、例えば、
1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
1個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、
1個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基、
シアノ基、
アルデヒド基、
RCO-、
RSO2-、
ROCO-、及び
ROSO2-
(これらの式中、Rは、独立して、
1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
1個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、又は
1個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基である)
が挙げられる。
パーフルオロ有機基は、例えば、トリフルオロメチル基等の炭素数1~8のパーフルオロ有機基である。
本明細書中、「パーフルオロ有機基」を記号Rfで表す場合がある。
リール基」を包含する。
本明細書中、特に断りのない限り、「アリール基」は、炭素数6~18のアリール基であることができる。
本明細書中、特に断りのない限り、「アリール基」としては、例えば、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル、2-ビフェニル、3-ビフェニル、4-ビフェニル、及び2-アンスリルが挙げられる。
本明細書中、特に断りのない限り、「非芳香族複素環基」は、例えば、環構成原子として、炭素原子に加えて酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子から選ばれる1~4個のヘテロ原子を含有する非芳香族複素環基である。
本明細書中、特に断りのない限り、「非芳香族複素環基」は、飽和、又は不飽和であることができる。
本明細書中、特に断りのない限り、「非芳香族複素環基」としては、例えば、テトラヒドロフリル、オキサゾリジニル、イミダゾリニル(例、1-イミダゾリニル、2-イミダゾリニル、4-イミダゾリニル)、アジリジニル(例、1-アジリジニル、2-アジリジニル)、アゼチジニル(例、1-アゼチジニル、2-アゼチジニル)、ピロリジニル(例、1-ピロリジニル、2-ピロリジニル、3-ピロリジニル)、ピペリジニル(例、1-ピペリジニル、2-ピペリジニル、3-ピペリジニル)、アゼパニル(例、1-アゼパニル、2-アゼパニル、3-アゼパニル、4-アゼパニル)、アゾカニル(例、1-アゾカニル、2-アゾカニル、3-アゾカニル、4-アゾカニル)、ピペラジニル(例、1,4-ピペラジン-1-イル、1,4-ピペラジン-2-イル)、ジアゼピニル(例、1,4-ジアゼピン-1-イル、1,4-ジアゼピン-2-イル、1,4-ジアゼピン-5-イル、1,4-ジアゼピン-6-イル)、ジアゾカニル(例、1,4-ジアゾカン-1-イル、1,4-ジアゾカン-2-イル、1,4-ジアゾカン-5-イル、1,4-ジアゾカン-6-イル、1,5-ジアゾカン-1-イル、1,5-ジアゾカン-2-イル、1,5-ジアゾカン-3-イル)、テトラヒドロピラニル(例、テトラヒドロピラン-4-イル)、モルホリニル(例、4-モルホリニル)、チオモルホリニル(例、4-チオモルホリニル)、2-オキサゾリジニル、ジヒドロフリル、ジヒドロピラニル、及びジヒドロキノリル等が挙げられる。
本明細書中、特に断りのない限り、「ヘテロアリール基」は、例えば、環構成原子として、炭素原子に加えて酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子から選ばれる1~4個のヘテロ原子を含有するヘテロアリール基である。当該「ヘテロアリール基」の炭素数は、例えば、3~17であることができる。
本明細書中、特に断りのない限り、「ヘテロアリール基」は、「単環性ヘテロアリール基」、及び「芳香族縮合複素環基」を包含する。
、4-イソチアゾリル、5-イソチアゾリル)、チアゾリル(例、2-チアゾリル、4-チアゾリル、5-チアゾリル)、トリアゾリル(例、1,2,3-トリアゾール-4-イル、1,2,4-トリアゾール-3-イル)、オキサジアゾリル(例、1,2,4-オキサジアゾール-3-イル、1,2,4-オキサジアゾール-5-イル)、チアジアゾリル(例、1,2,4-チアジアゾール-3-イル、1,2,4-チアジアゾール-5-イル)、テトラゾリル、ピリジル(例、2-ピリジル、3-ピリジル、4-ピリジル)、ピリダジニル(例、3-ピリダジニル、4-ピリダジニル)、ピリミジニル(例、2-ピリミジニル、4-ピリミジニル、5-ピリミジニル)、ピラジニル等が挙げられる。
本発明の含フッ素錯体化合物(本明細書中、含フッ素錯体化合物(1)と称する場合がある。)は、
式(1a):
R1-CF2-CF2-M1 (1a)
[式中、
M1は、銅、亜鉛、ニッケル、鉄、コバルト、及びスズからなる群より選択される金属を表し;及び
R1は、有機基を表す。]
で表される含フッ素有機金属化合物(本明細書中、含フッ素有機金属化合物(1a)と称する場合がある。)、及び
ピリジン環を有する化合物、及びホスフィンからなる群より選択される配位子(本明細書中、単に、配位子(1b)と称する場合がある。)
を含む。
含フッ素錯体化合物(1)は、好ましくは、含フッ素有機金属化合物(1a)、及び配位子(1b)からなる。
M1は、好ましくは、銅(好ましくは、銅(I))である。
1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアリール基(より好ましくは、1個以上の置換基を有していてもよい炭素数6~18のアリール基)、又は
1個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基(より好ましくは、1個以上の置換基を有していてもよい5~18員のヘテロアリール基)
である。
当該「1個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基」、
当該「1個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基」、
当該「1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基」、
当該「1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基」、
当該「1個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基」、
当該「1個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基」、
当該「1個以上の置換基を有していてもよいアリール基」、及び
当該「1個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基」
における「置換基」としては、例えば、ハロゲン原子(好ましくはフッ素)、シアノ基、アミノ基、アルコキシ基、パーフルオロ有機基(好ましくは炭素数1~8のパーフルオロ有機基、より好ましくはトリフルオロメチル基)、ペンタフルオロスルファニル基(F5S-)、及び重合性基が好適に例示される。
これらに加えて、当該「1個以上の置換基を有していてもよいアリール基」の置換基としては、例えば、カルボニルオキシカルボニル基(-CO-O-CO-)等の2価の基が
好適に例示される。当該2価の基は、アリール基中の1個のベンゼン環と一緒になって、縮合環(例、1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロイソベンゾフラン)を形成している。
(1)シアノ基、
(2)アルデヒド基、
(3)1個以上のハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基(例、1個以上のハロ
ゲン原子で置換されていてもよいビニル基)、
(4)ハロゲン原子、及びトリメチルシリル基からなる群より選択される1個以上の置換基
で置換されていてもよいアルキニル基(例、トリメチルシリル化されていてもよいエチニル基)、
(5)エポキシ基、
(6)1個以上のハロゲン原子で置換されていてもよい(メタ)アクリロイル基(例、メタ
クリロイル基、アクリロイル基、2-フルオロアクリロイル基、2-クロロアクリロイル基)、並びに
(7)(a)シアノ基、
(b)アルデヒド基、
(c)1個以上のハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、
(d)1個以上のハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基(例、1個以上のハ
ロゲン原子で置換されていてもよいビニル基)、
(e)エポキシ基、及び
(f)1個以上のハロゲン原子で置換されていてもよい(メタ)アクリロイル基(例、メ
タクリロイル基、アクリロイル基、2-フルオロアクリロイル基、2-クロロアクリロイル基)
からなる群より選択される1個以上の置換基で、それぞれ置換された、アルキル基、及びアルコキシ基
が挙げられる。
1個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
1個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基
である。
トリアリールホスフィンとしては、具体的には、トリフェニルホスフィン、トリメシチルホスフィン、トリ(o-トリル)ホスフィン等のトリ(単環アリール)ホスフィンが挙げられる。これらの中でも、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリt-ブチルホスフィンが好ましい。
その好ましい例としては、1,10-フェナントロリンが挙げられる。
本発明の含フッ素錯体化合物は、例えば、以下に説明する製造方法によって、製造できる。
部分構造式(2a):
R1-B (2a)
[式中、
R1は、前記と同意義を表す。]
で表される部分を有するボロン酸又はそのエステル又はそれらの塩である有機ホウ素化合物(本明細書中、有機ホウ素化合物(2)と称する場合がある。)を、
前記金属M1の水酸化物、ハロゲン化物、アルコキシド、アリールオキシド、チオアルコキシド、又はチオアリールオキシドである金属化合物(本明細書中、金属化合物(3)と称する場合がある。)、
配位子(1b)、及び
テトラフルオロエチレン
と反応させる工程Aを含む。
式(2-1):
R1-BY2 (2-1)
[式中、
R1は、前記と同意義を表し;及び
Yは、独立して、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表し;及び
2個のYで示されるアルコキシ基は互いに架橋されていてもよい。]
で表されるボロン酸又はそのエステル又はそれらの塩
が挙げられる。
この場合、式(1a)中のBY2で表される部分は、例えば、
有機ホウ素化合物(2)は、公知の方法又はそれに準じる方法により製造でき、及び商業的に入手できる。
配位子(1b)は、公知の方法又はそれに準じる方法により製造でき、及び商業的に入手できる。
当該混合は、例えば、有機ホウ素化合物(2)、金属化合物(3)、及び配位子(1b)の溶液又は懸濁液に、TFEの気体を導入することにより、実施できる。
当該溶液又は懸濁液の溶媒としては、例えばジエチルエーテル、1,4-ジオキサン、アセトニトリル、酢酸エチル、ギ酸エチル、トルエン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ヘキサン、及びテトラヒドロフラン、並びにこれらの混合物等が挙げられる。
当該溶媒の量は、有機ホウ素化合物(2)1重量部に対して、通常0.5~500重量部の範囲内、好ましくは1~100重量部の範囲内、より好ましくは2.5~50重量部の範囲内である。
金属化合物(3)の量は、有機ホウ素化合物(2)1モルに対して、通常0.2~10
モルの範囲内、好ましくは0.5~5モルの範囲内、より好ましくは0.8~2モルの範囲内である。
配位子(1b)の量は、有機ホウ素化合物(2)1モルに対して、通常0.2~10モルの範囲内、好ましくは0.5~5モルの範囲内、より好ましくは0.8~2モルの範囲内である。
TFEの量は、有機ホウ素化合物(2)1モルに対して、通常0.5~過剰量の範囲内、好ましくは0.8~50モルの範囲内、より好ましくは1~10モルの範囲内である。
工程Aは、通常-20~200℃の範囲内、好ましくは0~150℃の範囲内、より好ましくは20~100℃の範囲内の温度で実施される。
工程Aの反応時間は、通常1分~10日の範囲内、好ましくは5分~3日の範囲内、より好ましくは10分~1日の範囲内である。
本発明の含フッ素化合物の製造方法は、前記で説明した本発明の含フッ素錯体化合物を用いて、
式(4):
R2-CF2-CF2-R1 (4)
[式中、
R1は、前記と同意義を表し;及び
R2は、有機基を表す。]
で表される含フッ素化合物(本明細書中、含フッ素化合物(4)と称する場合がある。)を製造する方法である。
当該製造方法は、
本発明の含フッ素錯体化合物(1)を、
式(5):
X-R2 (5)
[式中、
R2は前記と同意義を表し;及び
Xはハロゲン原子を表す。]
で表されるハロゲン化合物(本明細書中、ハロゲン化合物(5)と称する場合がある。)と反応させる工程Bを含む。
1個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
1個以上の置換基を有していてもよいアリール基(より好ましくは1個以上の置換基を有していてもよい炭素数6~18のアリール基)、
1個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
1個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基(より好ましくは1個以上の置換基を有していてもよい5~18員のヘテロアリール基)、
RCO-、
RSO2-、
ROCO-、又は
ROSO2-
(これらの式中、Rは、独立して、
水素原子、
ハロゲン原子、
アリール基、
アラルキル基、又は
アルキル基である。)
である。
当該「1個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基」、
当該「1個以上の置換基を有していてもよいアリール基」、
当該「1個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基」、又は
当該「1個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基」
における「置換基」としては、例えば、フルオロ基、パーフルオロ有機基(好ましくは炭素数1~8のパーフルオロ有機基、より好ましくはトリフルオロメチル基)、ペンタフルオロスルファニル基、及び重合性基が好適に例示される。
当該混合は、例えば、溶媒中の含フッ素錯体化合物(1)の懸濁液に、ハロゲン化合物(5)を添加することにより、実施できる。
当該懸濁液の溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、1,4-ジオキサン、アセトニトリル、酢酸エチル、ギ酸エチル、トルエン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ヘキサン、及びテトラヒドロフラン、並びにこれらの混合物等が挙げられる。
当該溶媒の量は、含フッ素錯体化合物(1)1重量部に対して、通常0.5~500重量部の範囲内、好ましくは1~100重量部の範囲内、より好ましくは2.5~50重量部の範囲内である。
ハロゲン化合物(5)の量は、含フッ素錯体化合物(1)1モルに対して、通常0.2~10モルの範囲内、好ましくは0.5~5モルの範囲内、より好ましくは0.8~2モルの範囲内である。
工程Bは、通常-20~200℃の範囲内、好ましくは0~150℃の範囲内、より好ましくは20~100℃の範囲内の温度で実施される。
工程Bの反応時間は、通常1分~10日の範囲内、好ましくは5分~3日の範囲内、より好ましくは10分~1日の範囲内である。
工程A及び工程Bの反応は、例えば、有機ホウ素化合物(2)、金属化合物(3)、配位子(1b)、ハロゲン化合物(5)、及びTFEを混合することにより、ワンポッドで実施できる。
られる含フッ素重合体の単量体、及び液晶材料として用いることができる。
当該製造方法で得られた含フッ素化合物(4)は、そのまま耐熱性ポリマーや燃料電池材料等に用いられる含フッ素重合体の単量体、及び液晶材料の製造に用いてもよく、所望により、更に、溶媒抽出、乾燥、濾過、蒸留、濃縮、再結晶、昇華、カラムクロマトグラフィー、及びこれらの組み合わせ等の公知の精製方法によって精製されてもよい。
前記含フッ素化合物(4)は、後記式(4-1)、(4-2)、(4-3)、(4-4)、及び(4-5)で表される新規化合物を包含する。
(Ra1S-)ma1Ra1L-CF2-CF2-Ra2L(-Ra2S)ma2
(4-1)
[式中、
式:(Ra1S-)ma1Ra1Lで表される部分は、ma1個のRa1Sで置換されたRa1Lを表し;
式:Ra2L(-Ra2S)ma2で表される部分は、ma2個のRa2Sで置換されたRa2Lを表し;
Ra1S、及びRa2Sは、同一又は異なって、及び各出現において独立して、重合性基を表し;
ma1、及びma2は、同一又は異なって、0以上の整数を表し、及びma1とma2の合計は1以上であり;及び
Ra1Lは、及びRa2Lは、同一又は異なって、ma1個のRa1S、又はma2個のRa2Sに加えて、更に、フルオロ基、パーフルオロ有機基(好ましくは炭素数1~8のパーフルオロ有機基、より好ましくはトリフルオロメチル基)、及びペンタフルオロスルファニル基からなる群より選択される1個以上の置換基を有していてもよい芳香環基を表す。]
で表される含フッ素化合物(本明細書中、含フッ素化合物(4-1)と称する場合がある。)。
TMSは、トリメチルシリル基を表し、及び
Rは、独立して、水素原子、メチル基、塩素原子、又はフッ素原子を表す。
式(4-1-a-1)および式(4-1-b-1)の化合物は、工程Aおよび工程Bに従って製造できるが、水酸基を公知の保護基で保護した原料を用いて工程Aおよび工程Bに従って製造した後、保護基を公知の方法で脱保護して製造することもできる。公知の保護基とは、たとえば、トリアルキルシリル基、アルキル基、アルコキシアルキル基、ベンジル基、アシル基などが挙げられる。
(Ra1S-)ma1Ra1L-CF2-CF2-Ra2L(-Ra2S)ma2
(4-2)
[式中、
(Ra1S-)ma1Ra1L-で表される部分は、ma1個のRa1Sで置換されたRa1Lを表し;
-Ra2L(-Ra2S)ma2で表される部分は、ma2個のRa2Sで置換されたRa2Lを表し;
Ra1S、及びRa2Sは、同一又は異なって、及び各出現において独立して、1個以上のハロゲン原子で置換されていてもよいアシル基を表し;
ma1、及びma2は、同一又は異なって、0以上の整数を表し、及びma1とma2の合計は1以上であり;及び
Ra1Lは、及びRa2Lは、同一又は異なって、ma1個のRa1S、又はma2個のRa2Sに加えて、更に、(1)フルオロ基、パーフルオロ有機基(好ましくは炭素数1~8のパーフルオロ有機基、より好ましくはトリフルオロメチル基)、及びペンタフルオロスルファニル基からなる群より選択される1個以上の置換基を有していてもよい芳香環基、又は(2)結合手を表す。
但し、Ra1L、及びRa2Lは、同時に結合手ではない。]
で表される含フッ素化合物(本明細書中、含フッ素化合物(4-2)と称する場合がある。)。
このことは、他の式の化合物でも同じである。
(Ra1S-)ma1Ra1L-CF2-CF2-Ra2L(-Ra2S)ma2
(4-3)
[式中、
(Ra1S-)ma1Ra1Lで表される部分は、ma1個のRa1Sで置換されたR
a1Lを表し;
Ra2L(-Ra2S)ma2で表される部分は、ma2個のRa2Sで置換されたRa2Lを表し;
Ra1Sは、各出現において独立して、フルオロ基、パーフルオロ有機基(好ましくは炭素数1~8のパーフルオロ有機基、より好ましくはトリフルオロメチル基)、及びペンタフルオロスルファニル基からなる群より選択される1個以上の置換基を有していてもよい1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロイソベンゾフラン-5-イル基を表し;
Ra2Sは、各出現において独立して、
(1)フルオロ基、パーフルオロ有機基(好ましくは炭素数1~8のパーフルオロ有機基、より好ましくはトリフルオロメチル基)、及びペンタフルオロスルファニル基からなる群より選択される1個以上の置換基を有していてもよい1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロイソベンゾフラン-5-イル基、
(2)アミノ基、
(3)カルボキシ基、又は
(4)ハロゲノカルボニル基
を表し;
ma1は、1以上の整数を表し;
ma2は、0以上の整数(好ましくは、1以上の整数)を表し;及び
Ra1L、及びRa2Lは、同一又は異なって、ma1個のRa1S、又はma2個のRa2Sに加えて、更に、(1)フルオロ基、パーフルオロ有機基(好ましくは炭素数1~8のパーフルオロ有機基、より好ましくはトリフルオロメチル基)、及びペンタフルオロスルファニル基からなる群より選択される1個以上の置換基を有していてもよい芳香環基、又は(2)結合手を表す。
但し、Ra2Sが(2)アミノ基、(3)カルボキシ基、又は(4)ハロゲノカルボニル基である場合、Ra2Lは、Ra2Sに加えて、(1)フルオロ基、パーフルオロ有機基(好ましくは炭素数1~8のパーフルオロ有機基、より好ましくはトリフルオロメチル基)、及びペンタフルオロスルファニル基からなる群より選択される1個以上の置換基を有していてもよい芳香環基である。]
で表される含フッ素化合物(本明細書中、含フッ素化合物(4-3)と称する場合がある。)。
(Ra1S-)ma1Ra1L-CF2-CF2-Ra2L(-Ra2S)ma2
(4-4)
[式中、
(Ra1S-)ma1Ra1Lで表される部分は、ma1個のRa1Sで置換されたRa1Lを表し;
Ra2L(-Ra2S)ma2で表される部分は、ma2個のRa2Sで置換されたRa2Lを表し;
Ra1S、及びRa2Sは、同一又は異なって、及び各出現において独立して、フルオロ基、パーフルオロ有機基(好ましくは炭素数1~8のパーフルオロ有機基、より好ましくはトリフルオロメチル基)、又はペンタフルオロスルファニル基を表し;
ma1、及びma2は、同一又は異なって、0以上の整数を表し、及びma1とma2の合計は1以上であり;及び
Ra1Lは、及びRa2Lは、同一又は異なって、ma1個のRa1S、又はma2個のRa2Sに加えて、更に、1個以上のアルコキシ基を有していてもよい芳香環基を表す。]
で表される含フッ素化合物(本明細書中、含フッ素化合物(4-4)と称する場合がある。)。
(Ra1S-)ma1Ra1L-CF2-CF2-Ra2S (4-5)
[式中、
式:(Ra1S)ma1-Ra1Lで表される部分は、ma1個のRa1Sで置換されたRa1Lを表し;
Ra1Sは、重合性基を表し;
Ra2Sは、(1)カルキボキシ基、若しくはその前駆体基、又は(2)スルホ基、若しくはその前駆体基を表し;
ma1は、0以上の整数(好ましくは、1以上の整数)を表し;及び
Ra1Lは、ma1個のRa1Sに加えて、更に、フルオロ基、パーフルオロ有機基(好ましくは炭素数1~8のパーフルオロ有機基、より好ましくはトリフルオロメチル基)、及びペンタフルオロスルファニル基からなる群より選択される1個以上の置換基を有していてもよい芳香環基を表す。]
で表される含フッ素化合物(本明細書中、含フッ素化合物(4-5)と称する場合がある。)。
1個のRa1S、及び1個のRa2Sが、フルオロ基、パーフルオロ有機基(好ましくは炭素数1~8のパーフルオロ有機基、より好ましくはトリフルオロメチル基)、及びペンタフルオロスルファニル基からなる群より選択される1個以上の置換基を有していてもよい1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロイソベンゾフラン-5-イル基である含フッ素化合物(4-3)[本明細書中、含フッ素化合物(4-3a)と称する場合がある。]をジアミンと反応させてポリイミドを製造することができる。
当該ポリイミドは、新規化合物である。
当該ポリイミドは、次式:
ma1’は(ma1)-1であり、且つ0以上の整数を表し、
ma2’は(ma2)-1であり、且つ0以上の整数を表し、
Ra1L、及びRa2Lは、同一又は異なって、芳香環基を表すか、または単結合を表し、
Ryは、2価の有機基を表し、及び
その他の記号は前記式(4-3)における意義と同意義を表す。]
で表される構成単位Aを有する。
Ra1L、及びRa2Lが、それぞれ表す芳香環基は、前記式(4-3)でこれらがそれぞれ表す芳香環基と同じである。
好ましくは、Ra1L、及びRa2Lの両方が単結合である。
Ryは、前記ジアミンから2個のアミノ基を取り除いて形成される基である。ここで、前記ジアミンは、H2N-Ry-NH2[Ryは、2価の有機基を表す。]で表される。
Ryは、好ましくは、
1個以上の置換基を有していてもよいアリーレン基(好ましくは、1個以上の置換基を有していてもよいフェニレン基)、
1個以上の置換基を有していてもよいビアリール基(好ましくは、1個以上の置換基を有していてもよいビフェニル基)、
1個以上の置換基を有していてもよい(シクロ)アルキレン基、又は
式:-Ar-X-Ar-
[式中、
Xは、-O-、-NH-、-NPh-、-S-、-S(=O)-、-SO2-、-Rf-(好ましくは、-CF2-、又は-CF2CF2-)、又は-Ar-を表し、及び
Arは、1個以上の置換基を有していてもよいアリーレン基、又は1個以上の置換基を有していてもよいビアリール基を表す。]
である。
Ryは、より好ましくは、1個以上の置換基を有していてもよいアリーレン基、又はビアリール基であり、更に好ましくは1個以上の置換基を有していてもよいビアリール基であり、より更に好ましくは1個以上の置換基を有していてもよいビフェニル基である。
Ryで表される、「1個以上の置換基を有していてもよいアリーレン基」、「1個以上の置換基を有していてもよいビアリール基」、及び「1個以上の置換基を有していてもよい(シクロ)アルキレン基」における置換基の好ましい例としては、それぞれ、フルオロ基、パーフルオロ有機基(好ましくは炭素数1~8のパーフルオロ有機基、より好ましくはトリフルオロメチル基)、及びペンタフルオロスルファニル基が挙げられ、より好ましい例としては、フッ素原子、及びパーフルオロ有機基(好ましくは炭素数1~8のパーフルオロ有機基、より好ましくはトリフルオロメチル基)が挙げられ、更に好ましい例としては、トリフルオロメチル基が挙げられる。
Ryは、特に好ましくは、
Ryは、より特に好ましくは、
すなわち、例えば、
前記で説明した製造方法で製造した、1個のRa1S、及び1個のRa2Sが3,4-ジメチルフェニル基である含フッ素化合物(4-3)[以下、含フッ素化合物(4-3i)と称する場合がある。]を過マンガン酸カリウム等の酸化剤で酸化すること(芳香族化合物のメチル基の酸化);及び
得られた、1個のRa1S、及び1個のRa2Sが3,4-ジカルボキシフェニル基である含フッ素化合物(4-3)を、無水酢酸等の酸無水物で処理して含フッ素化合物(4-3a)を得ること(2個のカルボキシル基の分子内脱水縮合)
を含む製造方法によっても、製造できる。
前記ジアミンの例は、1個以上のフッ素原子を有していてもよい脂肪族ジアミン、1個以上のフッ素原子を有していてもよい脂環族ジアミン、及び1個以上のフッ素原子を有していてもよい芳香族ジアミンを包含する。
本明細書中、「脂肪族ジアミン」とは、環状部を有さないジアミンであり、好ましくは、炭素数1~6の脂肪族ジアミンである。
本明細書中、「脂環族ジアミン」とは、環状部として1個以上の非芳香環を有するジアミンであり、好ましくは、環状部として1個以上の非芳香環のみを有するジアミンである。
本明細書中、「芳香族ジアミン」とは、環状部として1個以上の芳香環を有するジアミンであり、好ましくは、環状部として1個以上の芳香環のみを有するジアミンである。
前記ジアミンは、好ましくは、炭素数1~30、好ましくは2~20のジアミンである。
前記ジアミンは、好ましくは、1個以上のトリフルオロメチル基を有していてもよい芳香族ジアミンである。
前記ジアミンは、好ましくは、1個以上のフッ素原子を有していてもよい炭素数6~30、好ましくは6~20の芳香族ジアミンである。
前記ジアミンは、より好ましくは、1個以上のトリフルオロメチル基を有していてもよい炭素数7~30、好ましくは7~20の芳香族ジアミンである。
前記ジアミンの例としては、好ましくは、次の化合物が挙げられる。
具体的には、例えば、含フッ素化合物(4-3a)とジアミンとを反応させてポリアミド酸を得る工程P1、及び
当該ポリアミド酸を加熱して閉環反応させる工程P2
を含む製造方法によって製造できる。
~45:55の範囲内、好ましくは、52:48~48:52の範囲内、さらに好ましくは、51:49~49:51の範囲内である。
当該極性溶媒の好ましい例は、ジメチルアミノアセトアミドを包含する。
当該極性溶媒は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
ある。
br:ブロード
s:シングレット
d:ダブレット
dd:ダブルダブレット
ddt:ダブルダブルトリプレット
t:トリプレット
tdd:トリプルダブルダブレット
m:マルチプレット
rt:室温
Calcd:計算値
Found:実測値
phen:フェナントロリン
Ph:フェニル
(phen)CuCF2CF2Phの合成
5,5-ジメチル-2-フェニル-1,3,2-ジオキサボリナン(190.1 mg, 1.0 mmol)、CuOtBu (136.6 mg, 1.0 mmol)、及び1,10-フェナントロリン (phen: 180.1 mg, 1.0 mmol) を10 mL
のTHF溶媒中にて混合し、室温にて30分間攪拌を行うことで(phen)CuPhを調製した。溶液
を耐圧容器に移してTFEを3.5 atmに加圧し、40℃で6時間加熱を行った。未反応のTFEを脱気後、THFを加え濾過により不溶性の固体を除去し、濾液を濃縮後、ヘキサン洗浄を行う
ことで褐色固体の錯体化合物:(phen)CuCF2CF2Phが得られた (387.2 mg, 収率:92%)。
1H NMR (400 MHz, CD2Cl2, rt, δ/ppm): 7.35-7.47 (m, 3H), 7.60-7.73 (m, 2H), 7.80-7.91 (br, 2H), 7.91-8.11 (br, 2H), 8.41-8.64 (br, 2H), 8.93-9.21 (br, 2H). 19F{1H} NMR (376 MHz, CD2Cl2, rt, δ/ppm): major: -111.8 (br, 2F), -108.1 (br, 2F). minor: -115.9 (br, 2F), -113.6 (br, 2F).
実施例2-1~実施例2-24では、実施例1で調製、及び単離した錯体化合物:(phen)CuCF2CF2Phを用いて、次の方法A、及び/又は方法Bによって、それぞれ、目的の各含フッ素化合物を得た。
[方法A]
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol) とヨードアレーン (0.024 mmol, 1.2 eq) を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、室温または60℃にて加熱を行うことで、目的物を得た。内部標準として、反応溶液中に加えたα,α,α-ト
リフルオロトルエンにより、19F NMRから収率を求めた。
[方法B]
窒素雰囲気下、基質を10mlのTHFに懸濁した(phen)CuCF2CF2Ph (1.2 eq)に加え、60℃で所定時間、加熱した。反応液を室温まで冷却後、エーテル10mlを加え、不溶物をろ過して除いた。ろ液は濃縮後、カラムクロマトグラフィーによる精製を行い、目的物を得た。
1,1,2,2-テトラフルオロ-1,2-ジフェニルエタン
次の通り、方法Aにより、標題化合物を調製した。
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)とヨードベンゼン(4.9 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、60℃で20時間加熱を行
い、対応する標題化合物が収率98%(19F NMRから算出)で得られた。
次の通り、方法Bにより、標題化合物を調製した。
窒素雰囲気下、ヨードベンゼン(20.4 mg, 0.10 mmol)を10mlのTHFに懸濁した錯体(phen)CuCF2CF2Ph (50.4 mg, 0.12 mmol)に加え、60℃で4時間、加熱した。反応液を室温まで
冷却後、エーテル10mlを加え、不溶物をろ過して除いた。ろ液は濃縮後、フラッシュカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 ヘキサン:酢酸エチル=99:1)による精製を行い、標題化合物を23.4 mg(収率:92%)得た。
1H NMR (400 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 7.37-7.57 (m, 10H). 19F NMR (376 MHz, in
CDCl3, rt, δ/ppm): -111.8 (s, 4F). 13C{1H} NMR (100.6 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 116.6 (tt, 1JCF = 253.1, 2JCF = 36.5 Hz), 126.9 (tt, JCF = 3.7, 3.7 Hz), 128.0, 130.9 (t, 2JCF = 26.4). HRMS Calcd for C14H10F4 254.0719 found m/z 254.0718.
4-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-フェニルエチル)アニソール
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)と4-ヨードアニソール(5.6 mg,
0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、60℃で20時間加熱
を行い、対応する標題化合物が収率95%(19F NMRから算出)で得られた。
次の通り、方法Bにより、標題化合物を調製した。
窒素雰囲気下、4-ヨードアニソール (70.2 mg, 0.30 mmol)を10mlのTHFに懸濁した錯体(phen)CuCF2CF2Ph(151.2 mg, 0.36 mmol)に加え、60℃で16時間、加熱した。反応液を室
温まで冷却後、エーテル10mlを加え、不溶物をろ過して除いた。ろ液は濃縮後、フラッシュカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 ヘキサン:酢酸エチル=99:1)による精製を行い、標題化合物を79.0 mg(収率:93%)得た。
1H NMR (400 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 3.84 (s, 3H), 6.91 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 7.36 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 7.38-7.52 (m, 5H). 19F NMR (376 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): -111.9 (s, 2F), -110.8 (s, 2F), -65.4 (s, 3F). 13C{1H} NMR (100.6 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 55.3, 113.4, 116.6 (tt, 1JCF = 252.5, 2JCF = 36.7 Hz), 116.8
(tt, 1JCF = 252.5, 2JCF = 36.7 Hz), 122.9 (t, 2JCF = 25.5 Hz), 126.9 (t, 3JCF =
6.6 Hz), 128.0, 128.4 (t, 3JCF = 6.6 Hz), 130.8, 131.0 (t, 2JCF = 25.6 Hz), 161.5. HRMS Calcd for C15H12F4O 284.0824 found m/z 284.0826.
1-トリフルオロメチル-4-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-フェニルエチル)ベンゼン
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)と4-ヨードベンゾトリフルオリド(6.5 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、60℃で6時間加熱を行い、対応する標題化合物が収率98%(19F NMRから算出)で得られた。
次の通り、方法Bにより、標題化合物を調製した。
窒素雰囲気下、4-ヨードベンゾトリフルオリド(27.2 mg, 0.10 mmol)を10mlのTHFに懸
濁した錯体(phen)CuCF2CF2Ph(50.4 mg, 0.12 mmol)に加え、60℃で4時間、加熱した。反
応液を室温まで冷却後、エーテル10mlを加え、不溶物をろ過して除いた。ろ液は濃縮後、フラッシュカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 ヘキサン:酢酸エチル=99:1)による精製を行い、標題化合物を31.2 mg(収率:97%)得た。
1H NMR (400 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 7.41-7.56 (m, 5H), 7.61 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.70 (d, J = 8.3 Hz, 2H). 19F NMR (376 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): -114.3 (s, 2F), -113.8 (s, 2F), -65.4 (s, 3F). 13C{1H} NMR (100.6 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 116.0 (tt, 1JCF = 253.2, 2JCF = 36.0 Hz), 116.4 (tt, 1JCF = 253.2, 2JCF = 36.0 Hz), 123.4 (q, 1JCF = 273.5 Hz, -CF3), 125.1 (q, 3JCF = 3.6 Hz), 126.9 (t, 3JCF = 6.3 Hz), 127.6 (t, 3JCF = 6.3 Hz), 128.2, 130.3 (t, 2JCF = 24.4 Hz), 131.2, 133.1 (q, 2JCF = 32.1 Hz), 134.6 (t, 2JCF = 24.4 Hz). HRMS Calcd for C15H9F7 322.0592 found m/z 322.0594.
2-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-フェニルエチル)メシチレン
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)と2-ヨードメシチレン(5.9 mg,
0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、60℃で140時間加熱を行い、対応する標題化合物が収率83%(19F NMRから算出)で得られた。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -112.9 (s, 2F), -102.1 (s, 2F). MS
(EI): m/z (%): 296 (6) [M]+, 169 (100) [(Me)3C6H2CF2]+, 127 (14) [PhCF2]+, 77 (8), 51 (3).
4-ブロモ-2-クロロ-1-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-フェニルエチル)ベンゼン
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)と4-ブロモ-2-クロロ-1-ヨードベンゼン(10.1 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、60℃で6時間加熱を行い、対応する標題化合物が収率98%(19F NMRから算出)で得られた。
次の通り、方法Bにより、標題化合物を調製した。
窒素雰囲気下、4-ブロモ-2-クロロ-1-ヨードベンゼン(95.2 mg, 0.30 mmol)を10mlのTHFに懸濁した錯体(phen)CuCF2CF2Ph(126.3 mg, 0.30 mmol)に加え、60℃で12時間、加熱した。反応液を室温まで冷却後、エーテル10mlを加え、不溶物をろ過して除いた。ろ液は濃縮後、フラッシュカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 ヘキサン:酢酸エチル=95:5)による精製を行い、標題化合物を89.1 mg(収率:81%)得た。
1H NMR (400 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 7.38 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.41-7.54 (m, 6H), 7.64 (m, 1H). 19F NMR (376 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): -110.4 (t, JFF = 9.6
Hz, 2F), -107.6 (t, JFF = 9.6 Hz, 2F), -65.4 (s, 3F). 13C{1H} NMR (100.6 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 116.2 (tt, 1JCF = 256.0, 2JCF = 38.6 Hz), 116.8 (tt, 1JCF = 253.9, 2JCF = 36.4 Hz), 125.8, 127.0 (t, 3JCF = 6.9 Hz), 127.5 (t, 2JCF = 24.4
Hz), 128.2, 129.7, 130.3 (t, 2JCF = 24.6 Hz), 131.1, 131.4 (t, 3JCF = 8.5 Hz), 134.3, 134.5 (t, 3JCF = 2.7 Hz). HRMS Calcd for C14H8BrClF4 365.9434 found m/z 365.9438.
4-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-フェニルエチル)ベンズアルデヒド
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)と4-ヨードベンズアルデヒド(5.6 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、60℃で2時間加熱を行い、対応する標題化合物が収率99%(19F NMRから算出)で得られた。
次の通り、方法Bにより、標題化合物を調製した。
窒素雰囲気下、4-ヨードベンズアルデヒド(69.6 mg, 0.30 mmol)を10mlのTHFに懸濁し
た錯体(phen)CuCF2CF2Ph (151.2 mg, 0.36 mmol)に加え、60℃で4時間、加熱した。反応
液を室温まで冷却後、エーテル10mlを加え、不溶物をろ過して除いた。ろ液は濃縮後、フラッシュカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 ヘキサン:酢酸エチル=95:5)による精製を行い、標題化合物を84.0 mg(収率:99%)得た。
1H NMR (400 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 7.40-7.55 (m, 5H), 7.65 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.94 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 10.09 (s, 1H). 19F NMR (376 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): -112.2 (s, 2F), -111.5 (s, 2F). 13C{1H} NMR (100.6 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 116.1 (tt, 1JCF = 253.2, 2JCF = 36.7 Hz), 116.4 (tt, 1JCF = 253.2, 2JCF = 35.5 Hz), 126.8 (t, 3JCF = 6.5 Hz), 127.8 (t, 3JCF = 6.2 Hz), 128.2, 129.2, 130.2 (t, 2JCF = 24.8 Hz), 131.1, 136.4 (t, 2JCF = 24.9 Hz), 137.9, 191.4. HRMS Calcd for C15H10F4O 282.0668 found m/z 282.0668.
1-エトキシカルボニル-4-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-フェニルエチル)ベンゼン
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)と4-エトキシカルボニル-1-ヨ
ードベンゼン(7.8 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合
し、60℃で6時間加熱を行い、対応する標題化合物が収率88%(19F NMRから算出)で得られた。
次の通り、方法Bにより、標題化合物を調製した。
窒素雰囲気下、4-エトキシカルボニル-1-ヨードベンゼン(32.6 mg, 0.10 mmol)を10ml
のTHFに懸濁した錯体(phen)CuCF2CF2Ph (50.4 mg, 0.12 mmol)に加え、60℃で4時間、加
熱した。反応液を室温まで冷却後、エーテル10mlを加え、不溶物をろ過して除いた。ろ液は濃縮後、フラッシュカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 ヘキサン:酢酸エチル=95:5)による精製を行い、標題化合物を31.9 mg(収率:98%)得た。
1H NMR (400 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 1.41 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 4.41 (q, J = 7.2 Hz, 2H), 7.37-7.51 (m, 5H), 7.53 (d, J = 8.2 Hz, 2H), 8.08 (d, J = 8.2 Hz, 2H). 19F NMR (376 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): -112.2 (s, 2F), -111.7 (s, 2F). 13C{1H} NMR (100.6 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 14.2, 61.3, 116.3 (tt, 1JCF = 252.4, 2JCF = 36.5 Hz), 116.4 (tdd, 1JCF = 254.0, 2JCF = 38.2, 32.7 Hz), 126.8 (t, 3JCF
= 6.2 Hz), 127.0 (t, 3JCF = 6.2 Hz), 128.1, 129.2, 130.4 (t, 2JCF = 25.0 Hz), 131.0, 132.9, 135.0 (t, 2JCF = 25.0 Hz), 165.6. HRMS Calcd for C17H14F4O2 326.0930 found m/z 326.0929.
4-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-フェニルエチル)ベンゾニトリル
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)と4-ヨードベンゾニトリル(5.5
mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、60℃で2時間加熱を行い、対応する標題化合物が収率97%(19F NMRから算出)で得られた。
次の通り、方法Bにより、標題化合物を調製した。
窒素雰囲気下、4-ヨードベンゾニトリル(68.7 mg, 0.30 mmol)を10mlのTHFに懸濁した
錯体(phen)CuCF2CF2Ph (50.4 mg, 0.12 mmol)に加え、60℃で64時間、加熱した。反応液
を室温まで冷却後、エーテル10mlを加え、不溶物をろ過して除いた。ろ液は濃縮後、フラッシュカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 ヘキサン:酢酸エチル=95:5)による精製
を行い、標題化合物を78.6 mg(収率:94%)得た。
1H NMR (400 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 7.40-7.56 (m, 5H), 7.60 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.72 (d, J = 8.3 Hz, 2H). 19F NMR (376 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): -112.5
(s, 2F), -112.4 (s, 2F). 13C{1H} NMR (100.6 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 115.1, 115.7 (tt, 1JCF = 254.9, 2JCF = 37.3 Hz), 116.3 (tt, 1JCF = 252.9, 2JCF = 35.3 Hz), 117.8, 126.8 (t, 3JCF = 6.6 Hz), 127.8 (t, 3JCF = 6.6 Hz), 128.3, 129.9 (t, 2JCF = 24.8 Hz), 131.3, 131.9, 135.3 (t, 2JCF = 25.6 Hz). HRMS Calcd for C15H9F4N 279.0671 found m/z 279.0670.
2-(4-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-フェニルエチル))-5,5-ジメチル-1,3,2-ジオキサボリ
ナン
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)と2-(4-ヨードフェニル)-5,5-
ジメチル-1,3,2-ジオキサボリナン(7.6 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、60℃で6時間加熱を行い、対応する標題化合物が収率72%(19F NMRから算出)で得られた。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -114.6 (s, 2F), -114.4 (s, 2F). HRMS Calcd for C19H19F4O2B 366.1414. found m/z 366.1412.
1-(4-(1,1,2,2-テトラフルオロエチル-2-フェニル))-2-(トリメチルシリル)アセチレン
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)と1-(4-ヨードフェニル)-2-ト
リメチルシリルアセチレン(7.2 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶
媒中にて混合し、60℃で6時間加熱を行い、対応する標題化合物が収率92%(19F NMRから算出)で得られた。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -115.0 (s, 2F), -114.6 (s, 2F). HRMS Calcd for C19H18F4Si 350.1114 found m/z 350.1112.
2-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-フェニルエチル)チオフェン
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)と2-ヨードチオフェン(5.1 mg,
0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、60℃で2時間加熱を行い、対応する標題化合物が収率77%(19F NMRから算出)で得られた。
MS (EI): m/z (%): 260 (15) [M]+, 133 (100) [C4H3SCF2]+, 127 (50) [PhCF2]+, 77 (13), 51 (5).
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)と2-ヨードピリジン(4l: 4.9 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、60℃で6時間加熱を行い、対応する標題化合物が収率99%(19F NMRから算出)で得られた。
次の通り、方法Bにより、標題化合物を調製した。
窒素雰囲気下、2-ヨードピリジン(61.5 mg, 0.30 mmol)を10mlのTHFに懸濁した錯体(phen)CuCF2CF2Ph (151.2 mg, 0.36 mmol)に加え、60℃で4時間、加熱した。反応液を室温まで冷却後、エーテル10mlを加え、不溶物をろ過して除いた。ろ液は濃縮後、フラッシュカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 ヘキサン:酢酸エチル=95:5)による精製を行い、標題化合物を74.1 mg(収率:97%)得た。
1H NMR (400 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 7.39-7.56 (m, 6H), 7.61 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.82 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 8.71 (d, J = 4.2 Hz, 1H). 19F NMR (376 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): -114.7 (t, J = 6.5 Hz, 2F), -111.1 (t, J = 6.5 Hz, 2F). 13C{1H} NMR (100.6 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 114.2 (tt, 1JCF = 252.8, 2JCF = 37.2 Hz), 116.5 (tt, 1JCF = 254.0 2JCF = 34.9 Hz), 122.6 (t, 3JCF = 4.4 Hz), 125.4, 126.8 (t, 3JCF = 6.4 Hz), 128.2, 130.6 (t, 2JCF = 25.2 Hz), 131.0, 136.7, 149.4, 149.6 (t, 2JCF = 26.2Hz). HRMS Calcd for C13H9F4N 255.0671 found m/z 255.0666.
4-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-フェニルエチル)フェニル硫黄 ペンタフルオリド
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)と4-ヨードフェニルサルファペンタフルオリド(7.9 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混
合し、60℃で2時間加熱を行い、対応する標題化合物が収率90%(19F NMRから算出)で得られた。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -114.3 (s, 2F), -113.8 (s, 2F). MS
(EI): m/z (%): 380 (1) [M]+, 361 (1), 145 (4), 127 (100) [PhCF2]+, 77 (7), 51 (3).
2-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-フェニルエチル)フェノール
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)と4-ヨードフェノール(5.3 mg,
0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、60℃で20時間加熱
を行い、対応する標題化合物が収率61%(19F NMRから算出)で得られた。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -114.6 (s, 2F), -113.2 (br, 2F). MS (EI): m/z (%): 270 (8) [M]+, 143 (100) [HOC6H4CF2]+, 127 (11) [PhCF2]+, 95 (9), 75 (3), 50 (2).
2-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-フェニルエチル)アニリン
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)と2-ヨードアニリン(5.3 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、60℃で40時間加熱を
行い、対応する標題化合物が収率85%(19F NMRから算出)で得られた。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -114.5 (t, 3JFF = 5.3 Hz, 2F), -112.2 (t, 3JFF = 5.3 Hz, 2F). MS (EI): m/z (%): 269 (17) [M]+, 142 (100) [H2NC6H4CF2]+, 127 (9) [PhCF2]+, 102 (11), 77 (9), 51 (5).
4-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-フェニルエチル)フタル酸無水物
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)と4-ブロモフタル酸無水物(5.4
mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、60℃で6時間加熱を行い、対応する標題化合物が収率80%(19F NMRから算出)で得られた。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -113.9 (s, 2F), -113.4 (s, 2F). MS
(EI): m/z (%): 324 (2) [M]+, 127 (100) [PhCF2]+, 107 (2), 77 (6), 75 (6), 51 (3).
エチル (Z)-4,4,5,5-テトラフルオロ-5-フェニルペンタ-2-エノアート
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)とシス-3-ヨード-アクリレート(5.4 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、60℃で2時間加熱を行い、対応する標題化合物が収率92%(19F NMRから算出)で得られた。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -114.1 (s, 2F), -112.7 (d, 3JHF = 15.1 Hz, 2F). MS (EI): m/z (%): 276 (1) [M]+, 231 (3) [PhCF2CH=CHC(O)]+, 127 (100) [PhCF2]+, 77 (8), 51 (2).
4,4,5,5-テトラフルオロ-5-フェニル-1-ペンテン
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)とアリルクロリド(1.8 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、室温で4時間撹拌を行い、対応する標題化合物が収率83%(19F NMRから算出)で得られた。
1H NMR (400 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 2.83 (td, 3JHF = 18.0 Hz, J = 7.2 Hz, 2H, H1), 5.26 (dd, J = 17.7, 1.2 Hz, 1H, H3), 5.27 (dd, J = 10.1, 1.2 Hz, 1H, H4),
5.84 (ddt, J = 17.7, 10.1, 7.2 Hz, 2H, H2), 7.4-7.6 (m, 5H). 19F NMR (376 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): -116.6 (tt, 3JHF = 18.0 Hz, 3JFF = 7.8 Hz, 2F, F2), -114.5 (t, 3JFF = 7.8 Hz, 2F, F1). MS (EI): m/z (%): 218 (11) [M]+, 203 (3), 127 (100) [PhCF2]+, 77 (9), 51 (5).
1,1,2,2-テトラフルオロ-1,3-ジフェニルプロパン
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)とベンジルブロミド(4.1 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、60℃で2時間加熱を行い、対応する標題化合物が収率32%(19F NMRから算出)で得られた。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -116.6 (t, JHF = 18.5 Hz, 2F), -114.2 (s, 2F). MS (EI): m/z (%): 268 (24) [M]+, 127 (100) [PhCF2]+, 91 (48) [PhCH2]+, 77 (10), 51 (5).
2,2,3,3-テトラフルオロ-3-フェニル-2-ブタノン
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)とアセチルクロリド(1.9 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、室温で1時間撹拌を行い、対応する標題化合物が収率78%(19F NMRから算出)で得られた。
1H NMR (400 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 2.44 (s, 3H), 7.45-7.58 (m, 5H). 19F NMR
(376 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): -120.4 (t, 3JFF = 7.5 Hz, 2F), -110.6 (t, 3JFF
= 7.5 Hz, 2F). HRMS Calcd for C10H8F4O 220.0511 found m/z 220.0507.
1,1,2,2-テトラフルオロ-1-フェニル-3-オクタノン
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)とヘキサノイルクロリド(3.2 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、室温で4時間撹拌を行い、対応する標題化合物が収率99%(19F NMRから算出)で得られた。
19F NMR (376 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): -120.4 (t, 3JFF = 7.0 Hz, 2F), -110.7 (t, 3JFF = 7.0 Hz, 2F). MS (EI): m/z (%): 276 (1) [M]+, 127 (36) [PhCF2]+, 99 (100) [C5H11C(O)]+, 71 (49) [C5H11]+, 55 (8).
4,4,5,5-テトラフルオロ-5-フェニルペンタ-1-エン-3-オン
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)とアクリロイルクロリド(2.2 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、室温で1時間撹拌を行い、対応する標題化合物が収率99%(19F NMRから算出)で得られた。
1H NMR (400 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 6.02 (d, J = 10.5 Hz, 1H), 6.62 (d, J = 17.3 Hz, 1H), 6.83 (dd, J = 10.5, 17.3 Hz, 1H), 7.45-7.59 (m, 5H). 19F NMR (376 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): -121.4 (t, 3JFF = 6.5 Hz, 2F), -110.7 (t, 3JFF = 6.5
Hz, 2F).
4,4,5,5-テトラフルオロ-2-メチル-5-フェニルペンタ-1-エン-3-オン
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)とメタクリロイルクロリド(2.5
mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、室温で1時間撹拌を行い、対応する標題化合物が収率73%(19F NMRから算出)で得られた。
1H NMR (400 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 1.89 (s, 3H), 6.07 (br, 1H), 6.24 (br, 1H), 7.37-7.54 (m, 5H). 19F NMR (376 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): -112.2 (s, 2F), -109.9 (s, 2F).
2,2,3,3-テトラフルオロ-1-(4-メトキシフェニル)-3-フェニル-1-プロパノン
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)と4-メトキシベンゾイルクロリド(4.1 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、室温で1時間撹拌を行い、対応する標題化合物が収率94%(19F NMRから算出)で得られた。
19F NMR (376 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): -112.8 (t, 3JFF = 7.0 Hz, 2F), -109.9 (s, 2F). MS (EI) m/z (%): 312 (2) [M]+, 135 (100) [MeOC6H4C(O)]+, 127 (7) [PhCF2]+, 107 (8) [MeOC6H4]+, 92 (10), 77 (19).
(1)ベンジル 2,2,3,3-テトラフルオロ-3-フェニルプロパノアート
窒素雰囲気下、(phen)CuCF2CF2Ph (8.4 mg, 0.02 mmol)とベンジルクロロフォルメート(4.1 mg, 0.024 mmol)を0.5mlのTHF/ THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にて混合し、60℃で1時間加熱を行い、対応する標題化合物が収率90%(19F NMRから算出)で得られた。
次の通り、方法Bにより、標題化合物を調製した。
窒素雰囲気下、ベンジルクロロフォルメート(51.2 mg, 0.30 mmol)を10mlのTHFに懸濁
した錯体(phen)CuCF2CF2Ph (151.2 mg, 0.36 mmol)に加え、60℃で2時間、加熱した。反
応液を室温まで冷却後、エーテル10mlを加え、不溶物をろ過して除いた。ろ液は濃縮後、フラッシュカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 ヘキサン:酢酸エチル=95:5)による精製を行い、標題化合物を72.9 mg(収率:78%)得た。
1H NMR (400 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 5.34 (s, 2H), 7.34-7.47 (m, 7H), 7.49-7.58 (m, 3H). 19F NMR (376 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): -118.7 (t, JFF = 5.1 Hz, 2F), -111.3 (t, JFF = 5.1 Hz, 2F). 13C{1H} NMR (100.6 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 69.0, 109.3 (tt, 1JCF = 262.4, 2JCF = 38.7 Hz), 115.5 (tt, 1JCF = 253.9, 2JCF = 31.4 Hz), 126.6 (t, 3JCF = 6.6 Hz), 128.4, 128.5, 128.7, 128.9, 129.2 (t, 2JCF =
24.2 Hz),131.4, 133.7, 160.2 (t, 2JCF = 30.6 Hz). MS (EI): m/z (%): 312 (10) [M]+, 158 (9), 127 (29) [PhCF2]+, 91 (100) [PhCH2]+, 77 (9), 65 (10).
(2)2,2,3,3-テトラフルオロ-3-フェニルプロパン酸
mg (収率:98%)得た。
1H NMR (400 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 7.34-7.65 (m, 5H), 7.89 (br, 1H, -COOH).
19F NMR (376 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): -118.9 (br, 2F, -CF2COOH), -111.2 (s, 2F). 13C{1H} NMR (100.6 MHz, in CDCl3, rt, δ/ppm): 109.6 (br, -CF2COOH), 115.6 (tt, 1JCF = 254.5, 2JCF = 31.9 Hz), 126.7 (t, 3JCF = 6.2 Hz), 128.5, 129.0 (t, 2JCF = 24.4 Hz), 131.7, 164.1 (br, -COOH).
実施例3-1~実施例3-11では、次の方法Cに従って、段階的合成により、目的の各含フッ素化合物を得た。
[方法C]
窒素雰囲気下、CuOtBu (2.7 mg, 0.02 mmol)、1,10-フェナントロリン (3.6 mg, 0.02 mmol) およびアリールボロン酸エステル (0.024 mmol, 1.2 eq) およびα,α,α-トリフルオロトルエン(2.4 μL, 0.02 mmol; 19F NMRの内部標準として)をTHF/THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にてNMRチューブ内で混合し、TFEを3.5 atmに加圧した後、それぞれ反応を行った。未反応のTFEを脱気した後、4-トリフルオロメチルヨードベンゼン (6.5 mg, 0.024 mmol, 1.2 eq) を加え60℃にて4時間加熱した。標題
化合物の収率は、19F NMRにより算出した。
4-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-フェニルエチル)ベンゾトリフルオリド
方法Cに従い、基質として、5,5-ジメチル-2-(1-ナフチル)-1,3,2-ジオキサボリナン(5.8 mg)を用い、標題化合物を96%の収率で得た。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -113.1 (s, 2F), -107.0 (s, 2F), -65.7 (s, 3F). MS (EI): m/z (%): 372 (13) [M]+, 195 (4) [CF3PhCF2]+, 178 (12), 177
(100) [C10H7CF2]+, 127 (10).
4-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-(4-ビニルフェニル)エチル)ベンゾトリフルオリド
ナン(5.2 mg)を用い、標題化合物を89%の収率で得た。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -114.5 (s, 2F), -114.0 (s, 2F), -65.7 (s, 3F). MS (EI): m/z (%): 348 (7) [M]+, 195 (4) [CF3PhCF2]+, 154 (9), 153 (100) [CH2=CHC6H4CF2]+, 133 (13), 127 (7), 102 (4), 77(4), 51 (2).
4-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-(4-メトキシフェニル)エチル)ベンゾトリフルオリド
リナン(5.3 mg)を用い、標題化合物を82%の収率で得た。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -114.6 (s, 2F), -113.0 (s, 2F), -65.7 (s, 3F). MS (EI): m/z (%): 352 (4) [M]+, 333 (2), 195 (3) [CF3PhCF2]+, 158 (8), 157 (100) [MeOC6H4CF2]+, 114 (12), 109 (5).
4-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-(4-(tert-ブチルジメチルシロキシ)フェニル)エチル)ベン
ゾトリフルオリド(9e)
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -114.8 (s, 2F), -113.3 (s, 2F), -65.7 (s, 3F). MS (EI): m/z (%): 452 (16) [M]+, 395 (21) [M - tBu]+, 257 (14) [TBSOPhCF2]+, 219 (100), 201 (18), 77 (42), 57 (10).
1,1,2,2-テトラフルオロ-1,2-ビス(4-(トリフルオロメチル)フェニル)エタン
ジオキサボリナン(6.2 mg)を用い、標題化合物を88%の収率で得た。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -114.0 (s, 4F), -65.8 (s, 6F). MS (EI): m/z (%): 390 (1) [M]+, 371 (7), 195 (100) [CF3PhCF2]+, 176 (3), 145 (28), 126 (7), 95 (3), 75 (3), 50 (2).
4-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-(4-ホルミルフェニル)エチル)ベンゾトリフルオリド
ボリナン(5.2 mg)を用い、標題化合物を82%の収率で得た。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -114.2 (s, 2F), -114.2 (s, 2F), -65.8 (s, 3F). MS (EI): m/z (%): 350 (47) [M]+, 195 (75) [CF3PhCF2]+, 155 (100) [CHOPhCF2]+, 127 (76), 145 (24) [CF3Ph]+, 126 (25), 77 (14), 51 (8).
4-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-(4-シアノフェニル)エチル)ベンゾトリフルオリド
ナン(5.2 mg)を用い、標題化合物を47%の収率で得た。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -114.6 (s, 2F), -114.2 (s, 2F), -65.8 (s, 3F). MS (EI): m/z (%): 347 (8) [M]+, 328 (6), 195 (100) [CF3PhCF2]+, 152
(48) [CNPh]+, 145 (25) [CF3Ph]+, 127 (29) [PhCF2]+, 91 (100) [PhCH2]+, 77 (9), 65 (10).
4-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-(4-クロロフェニル)エチル)ベンゾトリフルオリド
ナン(5.4 mg)を用い、標題化合物を94%の収率で得た。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -114.4 (s, 2F), -114.0 (s, 2F), -65.8 (s, 3F). MS (EI): m/z (%): 356 (2) [M]+, 337 (3), 195 (7) [CF3PhCF2]+, 161 (100) [ClC6H4CF2]+, 145 (12), 126 (12), 111 (8), 75 (9), 50 (7).
4-(1,1,2,2-テトラフルオロ-2-(4-ブロモフェニル)エチル)ベンゾトリフルオリド
ナン(6.5 mg)を用い、標題化合物を100%の収率で得た。
19F NMR (376 MHz, in THF/THF-d8, rt, δ/ppm): -114.2 (s, 2F), -114.2 (s, 2F), -65.8 (s, 3F). MS (EI): m/z (%): 400 (3) [M]+, 381 (3), 205 (100) [BrC6H4CF2]+, 145 (20), 126 (74), 75 (18), 50 (8).
実施例4-1では、一段階合成で、目的の含フッ素化合物を得た。
1,1,2,2-テトラフルオロ-1,2-ジフェニルエタンの合成
窒素雰囲気下、CuOtBu (2.7 mg, 0.02 mmol)、1,10-フェナントロリン (3.6 mg, 0.02 mmol) 、5,5-ジメチル-2-フェニル-1,3,2-ジオキサボリナン(3.8 mg, 0.02 mmol)、ヨー
ドベンゼン(4.9 mg, 0.024 mmol, 1.2 eq)およびα,α,α-トリフルオロトルエン(2.4 μL, 0.02 mmol; 19F NMRの内部標準として)を、0.5mlのTHF/THF-d8 (v/v’= 4/1)溶媒中にてNMRチューブ内で混合し、TFEを3.5 atmに加圧した後、60℃で20時間加熱した。19F NMRにより、目的物1,1,2,2-テトラフルオロ-1,2-ジフェニルエタンが83%の収率で生成し
ていることを確認した。
合成例1.
1,2-ビス(3,4-ジメチルフェニル)テトラフルオロエタン(化合物 1)の合成
化合物1:1H NMR (396 MHz, in CDCl3, δ/ppm): 2.31 (s, 6H), 2.32 (s, 6H), 7.19 (d, J = 7.7 Hz, 2H), 7.22 (d, J = 7.7 Hz, 2H), 7.31 (s, 2H). 19F NMR (373 MHz, in CDCl3, δ/ppm): -110.52 (s).
MS (EI) m/z 310 (M+). HRMS calcd for C18H18F4310.1345; found 310.1344
1,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)テトラフルオロエタン(化合物 2)の合成
収率93%)を濾取した。
化合物2(Na塩):1H NMR (400 MHz, in D2O, δ/ppm): 7.23 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.29 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.49 (s, 2H). 19F NMR (376 MHz, in D2O, δ/ppm): -112.19
(s).
MS (FAB-) m/z 429 (M-1). HRMS calcd for C18H9F4O8 (M-1) 429.0234; found 429.0231
1,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)テトラフルオロエタン 無水物(酸無水物誘導体 3)の合成
、反応液を減圧下に濃縮し、酸無水物誘導体3(347mg, 収率95%)を得た。
酸無水物誘導体3:1H NMR (400 MHz, in CDCl3, δ/ppm): 8.23 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 8.26 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 8.27 (s, 2H). 19F NMR (376 MHz, in CDCl3, δ/ppm): -109.77 (s).
MS (FAB+) m/z 395 (M+1). HRMS calcd for C18H7F4O6 (M+1) 395.0179; found 395.0181
ポリイミド(化合物5)の合成
確認した。反応前後のフラスコの重量測定により、定量的にポリイミド(化合物5)が形成されたことを確認した(79mg)。
化合物5: IR (KBr, cm-1): 1770, 1718, 1700, 1685, 1628, 1560, 1542, 1509, 1489, 1419, 1335, 1259, 1224, 1170, 1119, 1053.
Claims (2)
- 式(4-1):
(Ra1S-)ma1Ra1L-CF2-CF2-Ra2L(-Ra2S)ma2 (4-1)
[式中、
式:(Ra1S-)ma1Ra1Lで表される部分は、ma1個のRa1Sで置換されたRa1Lを表し;
式:Ra2L(-Ra2S)ma2で表される部分は、ma2個のRa2Sで置換されたRa2Lを表し;
Ra1S、及びRa2Sは、同一又は異なって、及び各出現において独立して、
(1)アルデヒド基、
(2)ビニル基、及び
(3)トリメチルシリル基で置換されたアルキニル基
を表し;
ma1、及びma2は、同一又は異なって、0以上の整数を表し、及びma1とma2の合計は1以上であり;及び
Ra1L、及びRa2Lは、同一又は異なって、パーフルオロ有機基、及びペンタフルオロスルファニル基からなる群より選択される1個以上の置換基を有していてもよい芳香環基を表す。]
で表される含フッ素化合物。 - 式(4-3):
(Ra1S-)ma1Ra1L-CF2-CF2-Ra2L(-Ra2S)ma2 (4-3)
[式中、
(Ra1S-)ma1Ra1Lで表される部分は、ma1個のRa1Sで置換されたRa1Lを表し;
Ra2L(-Ra2S)ma2で表される部分は、ma2個のRa2Sで置換されたRa2Lを表し;
Ra1Sは、1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロイソベンゾフラン-5-イル基を表し;
Ra2Sは、1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロイソベンゾフラン-5-イル基を表し;
ma1は、1以上の整数を表し;
ma2は、0以上の整数を表し;及び
Ra1L、及びRa2Lは、同一又は異なって、(1)芳香環基、又は(2)結合手を表す。
但し、
Ra2Lが結合手、かつma2が0の場合は、ない。]
で表される含フッ素化合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013207624 | 2013-10-02 | ||
JP2013207624 | 2013-10-02 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018029704A Division JP2018115167A (ja) | 2013-10-02 | 2018-02-22 | 含フッ素錯体化合物、及びこれを用いる含フッ素有機化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020073465A JP2020073465A (ja) | 2020-05-14 |
JP7078935B2 true JP7078935B2 (ja) | 2022-06-01 |
Family
ID=52778820
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015540564A Active JP6293159B2 (ja) | 2013-10-02 | 2014-10-02 | 含フッ素錯体化合物、及びこれを用いる含フッ素有機化合物の製造方法 |
JP2018029704A Withdrawn JP2018115167A (ja) | 2013-10-02 | 2018-02-22 | 含フッ素錯体化合物、及びこれを用いる含フッ素有機化合物の製造方法 |
JP2019169762A Active JP7078935B2 (ja) | 2013-10-02 | 2019-09-18 | 含フッ素錯体化合物、及びこれを用いる含フッ素有機化合物の製造方法 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015540564A Active JP6293159B2 (ja) | 2013-10-02 | 2014-10-02 | 含フッ素錯体化合物、及びこれを用いる含フッ素有機化合物の製造方法 |
JP2018029704A Withdrawn JP2018115167A (ja) | 2013-10-02 | 2018-02-22 | 含フッ素錯体化合物、及びこれを用いる含フッ素有機化合物の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9802963B2 (ja) |
JP (3) | JP6293159B2 (ja) |
KR (1) | KR20160062117A (ja) |
CN (3) | CN112047913A (ja) |
DE (1) | DE112014004558T5 (ja) |
WO (1) | WO2015050236A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9802963B2 (en) * | 2013-10-02 | 2017-10-31 | Daikin Industries, Ltd. | Fluorine-containing complex compound, and production method for fluorine-containing organic compound employing same |
JP6497548B2 (ja) * | 2015-02-19 | 2019-04-10 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素錯体化合物、及び含フッ素錯体化合物を用いる含フッ素有機化合物の製造方法 |
US10703695B2 (en) * | 2016-08-31 | 2020-07-07 | University Of Ottawa | Process for catalytic hydrodefluorodimerization of fluoroölefins |
CN112638985B (zh) * | 2018-08-28 | 2024-03-15 | 大金工业株式会社 | 含氟芳香族聚合物及其制造方法 |
WO2022102345A1 (ja) * | 2020-11-10 | 2022-05-19 | 東レ株式会社 | 樹脂組成物、硬化膜、絶縁膜または保護膜、アンテナ素子、並びに電子部品、表示装置または半導体装置及びその製造方法 |
CN115477629B (zh) * | 2022-09-27 | 2023-11-07 | 南京大学 | 一类四氟乙基双(邻苯二甲酸酐)衍生物的制备方法及其应用 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002212163A (ja) | 2001-01-24 | 2002-07-31 | Seimi Chem Co Ltd | 五フッ化硫黄化合物及び該化合物を含有する液晶組成物 |
JP2003026624A (ja) | 2001-05-31 | 2003-01-29 | Bayer Ag | 含フッ素ビスフェノール、それらの製造、それらの前駆体及び中間体と含フッ素ビスフェノールの使用 |
JP2004189715A (ja) | 2002-10-15 | 2004-07-08 | Chisso Corp | 液晶性ビニルケトン誘導体およびその重合体 |
JP2018115167A (ja) | 2013-10-02 | 2018-07-26 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素錯体化合物、及びこれを用いる含フッ素有機化合物の製造方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3297591A (en) * | 1962-10-22 | 1967-01-10 | Union Carbide Corp | Process for the preparation of alpha-perfluoro-p-xylylene poluymers |
GB1265051A (ja) * | 1968-03-13 | 1972-03-01 | ||
US3812177A (en) * | 1968-03-13 | 1974-05-21 | Merck & Co Inc | 2-(2-phenyl-1,1,2,2-tetrafluoroethyl)-benzylamines |
JPS4712775Y1 (ja) | 1970-01-08 | 1972-05-11 | ||
CA995250A (en) * | 1971-04-28 | 1976-08-17 | David F. Hinkley | Preparation of substituted benzylamines |
JPS5121743B2 (ja) | 1972-05-23 | 1976-07-05 | ||
JPS50119841A (ja) | 1974-03-02 | 1975-09-19 | ||
DE3516256A1 (de) | 1985-05-07 | 1986-11-13 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | (meth)-acrylsaeureester und ihre verwendung |
JPH04306241A (ja) * | 1991-01-17 | 1992-10-29 | Sanyo Chem Ind Ltd | コーティング材 |
JPH04288344A (ja) | 1991-03-18 | 1992-10-13 | Sanyo Chem Ind Ltd | 保護用フィルム、保護層を有する部材 |
JP3178890B2 (ja) * | 1991-03-27 | 2001-06-25 | 旭硝子株式会社 | フルオロアルカン誘導体化合物を含有する液晶組成物及び液晶表示素子 |
DE10129335A1 (de) | 2001-06-19 | 2003-01-02 | Merck Patent Gmbh | Polyimide mit CF¶2¶O-Strukturelementen |
JP4209171B2 (ja) * | 2002-10-24 | 2009-01-14 | 富士通株式会社 | ケイ素含有硬化性ポリマー組成物、これを用いた光導波路装置、配線基板およびケイ素含有硬化性ポリマー組成物の製造方法 |
ATE446351T1 (de) * | 2006-07-25 | 2009-11-15 | Merck Patent Gmbh | Flüssigkristallines medium |
JP5433268B2 (ja) * | 2009-03-19 | 2014-03-05 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
WO2012024564A1 (en) | 2010-08-20 | 2012-02-23 | The Board Of Trustess Of The University Of Illinois | Fluoroalkylation methods and reagents |
JP6091256B2 (ja) | 2013-02-28 | 2017-03-08 | 新日鐵住金株式会社 | ふっ素原子を含有する多孔高分子錯体、これを用いたガス吸着材ならびにガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
JP5988896B2 (ja) | 2013-02-28 | 2016-09-07 | 新日鐵住金株式会社 | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
JP6132596B2 (ja) | 2013-03-04 | 2017-05-24 | 新日鐵住金株式会社 | ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
JP6080616B2 (ja) | 2013-03-05 | 2017-02-15 | 新日鐵住金株式会社 | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
-
2014
- 2014-10-02 US US15/026,356 patent/US9802963B2/en not_active Ceased
- 2014-10-02 JP JP2015540564A patent/JP6293159B2/ja active Active
- 2014-10-02 WO PCT/JP2014/076474 patent/WO2015050236A1/ja active Application Filing
- 2014-10-02 CN CN202010909196.1A patent/CN112047913A/zh active Pending
- 2014-10-02 CN CN201480054514.3A patent/CN105683200A/zh active Pending
- 2014-10-02 US US16/668,703 patent/USRE49222E1/en active Active
- 2014-10-02 KR KR1020167011086A patent/KR20160062117A/ko not_active Application Discontinuation
- 2014-10-02 CN CN202010910391.6A patent/CN111961068A/zh active Pending
- 2014-10-02 DE DE112014004558.6T patent/DE112014004558T5/de active Pending
-
2018
- 2018-02-22 JP JP2018029704A patent/JP2018115167A/ja not_active Withdrawn
-
2019
- 2019-09-18 JP JP2019169762A patent/JP7078935B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002212163A (ja) | 2001-01-24 | 2002-07-31 | Seimi Chem Co Ltd | 五フッ化硫黄化合物及び該化合物を含有する液晶組成物 |
JP2003026624A (ja) | 2001-05-31 | 2003-01-29 | Bayer Ag | 含フッ素ビスフェノール、それらの製造、それらの前駆体及び中間体と含フッ素ビスフェノールの使用 |
JP2004189715A (ja) | 2002-10-15 | 2004-07-08 | Chisso Corp | 液晶性ビニルケトン誘導体およびその重合体 |
JP2018115167A (ja) | 2013-10-02 | 2018-07-26 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素錯体化合物、及びこれを用いる含フッ素有機化合物の製造方法 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
KIRSCH, P et al.,reductive Dimerization of dithianylium salts and fluorodesulfuration: a new synthetic approach to tetrafluoroethylene substructures,Journal of Fluorine Chemistry,2004年,Vol. 125,pp. 1025-1029 |
MCEWEN, WE et al.,ADDITION OF FLUORINE TO TOLANES,Journal of Fluorine Chemistry,1984年,Vol. 25,pp.169-193 |
MOBBS, RH,Heptafluorobenzyl bromide,Journal of Fluorine Chemistry,1972年,Vol. 1,pp. 361-364 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020073465A (ja) | 2020-05-14 |
JP6293159B2 (ja) | 2018-03-14 |
JPWO2015050236A1 (ja) | 2017-03-09 |
JP2018115167A (ja) | 2018-07-26 |
DE112014004558T5 (de) | 2016-06-23 |
CN112047913A (zh) | 2020-12-08 |
USRE49222E1 (en) | 2022-09-27 |
CN105683200A (zh) | 2016-06-15 |
US20160214999A1 (en) | 2016-07-28 |
US9802963B2 (en) | 2017-10-31 |
KR20160062117A (ko) | 2016-06-01 |
CN111961068A (zh) | 2020-11-20 |
WO2015050236A1 (ja) | 2015-04-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7078935B2 (ja) | 含フッ素錯体化合物、及びこれを用いる含フッ素有機化合物の製造方法 | |
US11932596B2 (en) | Fluorovinyl ether compound | |
JP6856107B2 (ja) | フルオロアルコキシドの製造方法 | |
JP7244789B2 (ja) | 環状カーボネート化合物、及びその製造方法 | |
JP6497548B2 (ja) | 含フッ素錯体化合物、及び含フッ素錯体化合物を用いる含フッ素有機化合物の製造方法 | |
JP6851712B2 (ja) | 置換されたオレフィンの製造方法 | |
JP7264363B1 (ja) | フルオロエーテルの製造方法 | |
JP6919733B2 (ja) | プロピオン酸誘導体の製造方法 | |
JP6629020B2 (ja) | 置換されたオレフィン化合物の製造方法 | |
JP7220430B2 (ja) | 含フッ素芳香族ポリマー及びその製造方法 | |
JP2017202979A (ja) | ハロゲン化含フッ素有機化合物の製造方法 | |
JP2016166164A (ja) | 有機フッ素化合物の製造方法 | |
WO2020246612A1 (ja) | フッ化化合物 | |
JP2022078193A (ja) | 分枝含フッ素化合物 | |
JP2017202989A (ja) | 含フッ素化合物、及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191018 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191018 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200707 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20200907 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132 Effective date: 20201124 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20210125 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210810 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20211011 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211209 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220412 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220511 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7078935 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |