JP6993273B2 - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Description
2 スリットノズル(ノズル)
6,6a,6b 高さセンサ(測距部)
51 ノズル支持体(支持部)
53 ノズル移動部(移動部)
55 位置センサ(位置検出部)
81 CPU(情報取得部、膜厚算出部)
811 情報取得部
812 膜厚算出部
S 基板
Sa 基板Wの上面(主面)
Claims (7)
- 基板の主面に塗布液の膜を形成する基板処理装置において、
スリット状の吐出口から前記塗布液を吐出しながら前記基板に対し相対移動して前記塗布液を前記主面に塗布し前記膜を形成するノズルと、
前記主面に臨んで配置され、前記主面までの第1距離および前記主面に塗布された前記膜の表面までの第2距離を計測する測距部と、
前記測距部を前記ノズルと一体的に、前記主面に沿った移動方向に前記基板に対し相対移動させる移動部と、
前記移動方向において、前記基板に対する前記測距部の位置を検出する位置検出部と、
前記位置検出部が検出した前記測距部の位置と当該位置で前記測距部が計測した前記第1距離とを対応付けた第1情報、および、前記位置検出部が検出した前記測距部の位置と当該位置で前記測距部が計測した前記第2距離とを対応付けた第2情報を取得する情報取得部と、
前記第1情報および前記第2情報に基づき、前記基板に対する前記測距部の位置が互いに同一であるときの前記第1距離と前記第2距離との差から当該位置に対応する前記膜の厚さを算出する膜厚算出部と
を備え、
前記ノズルは、所定の移動開始位置から前記基板に対し一の方向に相対移動して前記主面に前記塗布液を塗布した後、前記基板に対し前記一の方向とは反対方向に、かつ前記一の方向への相対移動よりも速い相対速度で前記移動開始位置まで相対移動し、
前記測距部は、前記一の方向において前記ノズルの前方に配置され、前記塗布液の塗布前の前記主面に対し前記一の方向に相対移動するときに当該相対移動方向に沿った互いに異なる複数位置で前記第1距離を計測し、塗布後の前記主面に対し前記反対方向に相対移動するときに当該相対移動方向に沿った互いに異なる複数位置で前記第2距離を計測し、
前記膜厚算出部は、前記基板に対する前記一の方向および前記反対方向への前記測距部の相対移動における相対移動速度に応じて、前記位置検出部による位置検出と前記測距部による距離計測との間のレスポンスタイムに起因する位置ずれを補正する、基板処理装置。 - 前記ノズルおよび前記測距部を支持して前記基板に対し前記移動方向に相対移動する支持部を備える請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記測距部は、被測定面に向けて光を照射する投光部と、前記被測定面からの反射光を検出する受光部とを有する請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記位置ずれは、前記位置検出から前記距離計測までの時間差と、前記一の方向への移動および前記反対方向への移動における前記測距部の移動速度とに基づき補正される請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記測距部の前記一の方向への移動と前記反対方向への移動との間で計測タイミングを異ならせて取得された前記測距部による計測結果に基づき、前記膜の厚さが求められる請求項4に記載の基板処理装置。
- 前記測距部は断続的に前記距離計測の結果を取得し、
前記膜厚算出部は、前記測距部による前記一の方向への移動と前記反対方向への移動との間で互いに対応する計測位置を特定し、当該計測位置における前記膜の厚さを、当該計測位置を挟む位置で取得された前記距離計測の結果を補間した値に基づき求める、
請求項4に記載の基板処理装置。 - スリット状の吐出口から塗布液を吐出するノズルを基板に対し相対移動させて、前記塗布液を前記基板の主面に塗布して前記塗布液の膜を形成する基板処理方法において、
前記主面に臨んで配置した測距部を、前記基板に対し前記主面に沿った移動方向に前記ノズルと一体的に相対移動させ、前記移動方向における前記基板に対する前記測距部の位置を位置検出部により検出するとともに、前記測距部が前記主面までの第1距離および前記主面に塗布された前記膜の表面までの第2距離を計測し、
前記位置検出部が検出した前記測距部の位置と当該位置で前記測距部が計測した前記第1距離とを対応付けた第1情報、および、前記位置検出部が検出した前記測距部の位置と当該位置で前記測距部が計測した前記第2距離とを対応付けた第2情報を取得し、
膜厚検出部が、前記第1情報および前記第2情報に基づき、前記基板に対する前記測距部の位置が互いに同一であるときの前記第1距離と前記第2距離との差から当該位置に対応する前記膜の厚さを算出し、
前記ノズルは、所定の移動開始位置から前記基板に対し一の方向に相対移動して前記主面に前記塗布液を塗布した後、前記基板に対し前記一の方向とは反対方向に、かつ前記一の方向への相対移動よりも速い相対速度で前記移動開始位置まで相対移動し、
前記測距部は、前記一の方向において前記ノズルの前方に配置され、前記塗布液の塗布前の前記主面に対し前記一の方向に相対移動するときに当該相対移動方向に沿った互いに異なる複数位置で前記第1距離を計測し、塗布後の前記主面に対し前記反対方向に相対移動するときに当該相対移動方向に沿った互いに異なる複数位置で前記第2距離を計測し、
前記膜厚算出部は、前記基板に対する前記一の方向および前記反対方向への前記測距部の相対移動における相対移動速度に応じて、前記位置検出部による位置検出と前記測距部による距離計測との間のレスポンスタイムに起因する位置ずれを補正する、基板処理方法。
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