JP6875480B2 - 蒸着マスク及びその製造方法 - Google Patents
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Description
図1において、蒸着マスク1は、マスク本体2に、多数独立の蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が設けられたものである。マスク本体2は、ニッケルやニッケル−コバルト等のニッケル合金、銅、その他の電着金属を素材として、電鋳法により形成される。図2において、マスク本体2は、200×200mmの四角形状の母型領域の中に、例えば50×50mmの正方形状に4つ独立して形成されており、その内部にパターン形成領域4を備える。このパターン形成領域4に、蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が形成されている。
本発明の第2実施形態に係る蒸着マスクを図6ないし図12に基づいて説明する。図6において、蒸着マスク1は、多数独立の蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が設けられたマスク本体2を備え、このマスク本体2は、ニッケルやニッケルコバルト等のニッケル合金、銅、その他の電着金属を素材として、電鋳法により形成される。図9において、蒸着マスク1は、500mm×400mmの四角形状を呈しており、その内部に複数個のマスク本体2を備える。各マスク本体2は、50×40mmの四角形状に形成されており、その内部にパターン形成領域4を備える。パターン形成領域4には、多数独立の蒸着通孔5からなる発光層形成用の蒸着パターン6が形成されている。
本発明の第3実施形態に係る蒸着マスクを図13ないし図15に基づいて説明する。上記各実施形態におけるマスク本体2(蒸着マスク1)は、母型として導電性基板を用い、その表面にパターンレジストを形成後、電鋳して製造しているが、母型として絶縁性基板を用いて製造することもできる。図13および図14は、本実施形態に係る蒸着マスクの製造方法を示すものであり、以下に該製造方法の各工程について説明する。
2 マスク本体
3 枠体
4 パターン形成領域
4a パターン形成領域の外周縁
5 蒸着通孔
6 蒸着パターン
9 金属層
10 母型
12 一次パターンレジスト
13 第一金属層
15 二次パターンレジスト
16 第二金属層
17 パターンフィルム
18 三次パターンレジスト
21 通孔
40 母型
43 パターンレジスト
44 第一金属層
45 第二金属層
50 微小凹み
60 張出部
Claims (5)
- マスク本体2に多数独立の蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が設けられた蒸着マスクであって、
前記蒸着通孔5は、被蒸着基板側に位置する小孔部5aと、気化源側に位置し、前記小孔部5aの開口形状よりも大きく形成された大孔部5bとが連通形成され、前記小孔部5aの上端周縁がR状となっており、
前記蒸着通孔5間における前記マスク本体2の断面形状が段差状であり、前記マスク本体2の被蒸着基板側に微小凹み50を有し、
前記蒸着通孔5間における前記マスク本体2の断面視において、前記微小凹み50の幅寸法が前記マスク本体2の気化源側の寸法より大きく、前記マスク本体2の被蒸着基板側の寸法より小さいことを特徴とする蒸着マスク。 - 前記微小凹み50の外周部が被蒸着基板側に向かって出っ張り形状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。
- 前記微小凹み50の側面が前記マスク本体2の厚み方向と平行であることを特徴とする請求項1または2に記載の蒸着マスク。
- マスク本体2に多数独立の蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が設けられ、前記蒸着通孔5が被蒸着基板側に位置する小孔部5aと、気化源側に位置し、前記小孔部5aの開口形状よりも大きく形成された大孔部5bとが連通形成され、前記小孔部5aの上端周縁がR状となっており、前記蒸着通孔5間における前記マスク本体2の断面形状が段差状であり、前記マスク本体2の被蒸着基板側に微小凹み50を有する蒸着マスクの製造方法であって、
絶縁性の母型40表面に、金属膜41をパターン形成する工程と、
前記母型10および前記金属膜41上に、前記マスク本体10を形成する工程と、
前記母型10および前記金属膜41から前記マスク本体10を剥離する工程とを含むことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。 - 前記微小凹み50の形状が前記金属膜41の形状に対応して形成されることを特徴とする請求項4に記載の蒸着マスクの製造方法。
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