JP4369199B2 - 蒸着マスクとその製造方法 - Google Patents
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Description
図1および図4は本発明に係る蒸着マスクを、有機EL素子用蒸着マスクに適用した第1実施形態を示す。図1において有機EL素子用蒸着マスク1は、ニッケルやニッケルコバルト等のニッケル合金、その他の電着金属を素材として、電鋳方法により形成されたマスク本体2と、このマスク本体2を囲むように装着された枠体3とを含む。図4においてマスク本体2は、200×200mmの四角形状の母型領域の中に、例えば50×50mmの正方形状に4つ独立して形成されており、その内部にパターン形成領域4を備える。パターン形成領域4には、多数独立の蒸着通孔5からなる発光層形成用の蒸着パターン6が形成されている。
図6ないし図9に本発明に係る蒸着マスクを有機EL素子用蒸着マスクに適用した第2実施形態を示す。図6において有機EL素子用蒸着マスク1は、ニッケルやニッケルコバルト等のニッケル合金、その他の電着金属を素材として、電鋳方法により形成されたマスク本体2と、このマスク本体2を囲むように装着された枠体3とを含む。図9において、有機EL素子用蒸着マスク1は、500mm×400mmの四角形状を呈しており、その内部に複数個のマスク本体2を備える。各マスク本体2は、50×40mmの四角形状に形成されており、その内部にパターン形成領域4を備える。パターン形成領域4には、多数独立の蒸着通孔5からなる発光層形成用の蒸着パターン6が形成されている。
2 マスク本体
3 枠体
4 パターン形成領域
4a パターン形成領域の外周縁
5 蒸着通孔
6 蒸着パターン
9 電着金属層
10 母型
14 一次パターンレジスト
14a レジスト体
15 一次電着層
16 フォトレジスト層
16b 未露光のフォトレジスト層
17 パターンフィルム
18 二次パターンレジスト
18a レジスト体
21 通孔
Claims (9)
- 多数独立の蒸着通孔(5)からなる蒸着パターン(6)をパターン形成領域(4)内に備えるマスク本体(2)と、
マスク本体(2)の外周に配置された、低熱線膨張係数の材質からなるマスク本体(2)の補強用の枠体(3)とからなり、
マスク本体(2)のパターン形成領域(4)の外周縁(4a)の上面と、枠体(3)の上面およびパターン形成領域(4)に臨む側面と、マスク本体(2)と枠体(3)との間隙部分に金属層を形成して、マスク本体(2)と枠体(3)とを接合していることを特徴とする蒸着マスク。 - 前記金属層は、電鋳法により形成されたことを特徴とする請求項1記載の蒸着マスク。
- 蒸着マスクは、複数個の独立形成したマスク本体(2)を備えており、
枠体(3)には、各マスク本体(2)に対応する開口(3a)が複数個形成され、各開口(3a)に、一個のマスク本体(2)がそれぞれ配置されるようにしてあり、
枠体(3)と、各マスク本体(2)のパターン形成領域(4)の外周縁(4a)とを金属層を介して不離一体的に接合してある請求項1又は2記載の蒸着マスク。 - 金属層が、マスク本体(2)を枠体(3)側に引き寄せる、引っ張り応力(F1)が作用するようなテンションを加えた状態で形成されている請求項1又は2又は3記載の蒸着マスク。
- 多数独立の蒸着通孔(5)からなる蒸着パターン(6)をパターン形成領域(4)内に備えるマスク本体(2)と、マスク本体(2)の外周に配置された、低熱線膨張係数の材質からなるマスク本体(2)の補強用の枠体(3)とを金属層を介して接合してなる蒸着マスク(1)の製造方法であって、
母型(10)の表面に、レジスト体(14a)を有する一次パターンレジスト(14)を設ける第1のパターンニング工程と、
一次パターンレジスト(14)を用いて、母型(10)上に電着金属を電鋳して、マスク本体(2)に対応する一次電着層(15)を形成する第1の電鋳工程と、
一次電着層(15)を囲むように、母型(10)上に枠体(3)を配する枠体配設工程と、
枠体(3)の表面と、一次電着層(15)の外周縁(4a)、すなわちマスク本体(2)のパターン形成領域(4)の外周縁(4a)表面とを覆うように電鋳法より金属層を形成して、該金属層を介して一次電着層(15)と枠体(3)とを不離一体的に接合する第2の電鋳工程と、
母型(10)から一次電着層(15)、枠体(3)および金属層を一体に剥離する剥離工程とを含むことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。 - 多数独立の蒸着通孔(5)からなる蒸着パターン(6)をパターン形成領域(4)内に備える複数個のマスク本体(2)と、各マスク本体(2)に対応する複数個の開口(3a)を備える、低熱線膨張係数の材質からなるマスク本体(2)の補強用の枠体(3)とを金属層を介して接合してなる蒸着マスク(1)の製造方法であって、
母型(10)の表面に、レジスト体(14a)を有する一次パターンレジスト(14)を設ける第1のパターンニング工程と、
一次パターンレジスト(14)を用いて母型(10)上に電着金属を電鋳し、該母型(10)上にマスク本体(2)に対応する一次電着層(15)を所定位置に複数個形成する第1の電鋳工程と、
枠体(3)の各開口(3a)内に、該開口(3a)に対応する一次電着層(15)が位置するように位置合わせしながら、母型(10)上に枠体(3)を配する枠体配設工程と、
枠体(3)の表面と、一次電着層(15)の外周縁(4a)、すなわちマスク本体(2)のパターン形成領域(4)の外周縁(4a)表面とを覆うように、電鋳法により金属層を形成して、該金属層を介して一次電着層(15)と枠体(3)とを不離一体的に接合する第2の電鋳工程と、
母型(10)から一次電着層(15)、枠体(3)および金属層を一体に剥離する剥離工程とを含むことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。 - 母型(10)上に形成された一次電着層(15)の表面に、パターン形成領域(4)を覆うレジスト体(18a)を形成する工程を含み、
前記第2の電鋳工程において、レジスト体(18a)を利用して金属層を電鋳法にて形成するようにしている請求項5又は6記載の蒸着マスクの製造方法。 - 母型(10)上に形成された一次電着層(15)の表面に、パターン形成領域(4)を覆うレジスト体(18a)を形成するためのフォトレジスト層(16)を形成する工程を含み、
前記枠体配設工程においては、未露光のフォトレジスト層(16b)の粘着性を利用して、母型(10)上に枠体(3)を仮止め固定しており、
かかる仮止め固定状態で、第2の電鋳工程を行うようにしてある請求項5又は6又は7記載の蒸着マスクの製造方法。 - 前記第1の電鋳工程において、マスク本体(2)に対応する一次電着層(15)の外周縁(4a)には、多数個の通孔(21)が形成されるようにしてあり、
前記第2の電鋳工程において、通孔(21)を埋めるように金属層が形成されるようにしてある請求項5又は6又は7又は8記載の蒸着マスクの製造方法。
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