JP7421617B2 - 蒸着マスク - Google Patents
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Description
図1において、蒸着マスク1は、マスク本体2に、多数独立の蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が設けられたものである。マスク本体2は、ニッケルやニッケル-コバルト等のニッケル合金、銅、その他の電着金属を素材として、電鋳法により形成される。図2において、マスク本体2は、200×200mmの四角形状の母型領域の中に、例えば50×50mmの正方形状に4つ独立して形成されており、その内部にパターン形成領域4を備える。このパターン形成領域4に、蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が形成されている。
本発明の第2実施形態に係る蒸着マスクを図6ないし図12に基づいて説明する。図6において、蒸着マスク1は、多数独立の蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が設けられたマスク本体2を備え、このマスク本体2は、ニッケルやニッケルコバルト等のニッケル合金、銅、その他の電着金属を素材として、電鋳法により形成される。図9において、蒸着マスク1は、500mm×400mmの四角形状を呈しており、その内部に複数個のマスク本体2を備える。各マスク本体2は、50×40mmの四角形状に形成されており、その内部にパターン形成領域4を備える。パターン形成領域4には、多数独立の蒸着通孔5からなる発光層形成用の蒸着パターン6が形成されている。
本発明の第3実施形態に係る蒸着マスクを図13ないし図15に基づいて説明する。上記各実施形態におけるマスク本体2(蒸着マスク1)は、母型として導電性基板を用い、その表面にパターンレジストを形成後、電鋳して製造しているが、母型として絶縁性基板を用いて製造することもできる。図13および図14は、本実施形態に係る蒸着マスクの製造方法を示すものであり、以下に該製造方法の各工程について説明する。
2 マスク本体
3 枠体
4 パターン形成領域
4a パターン形成領域の外周縁
5 蒸着通孔
6 蒸着パターン
9 金属層
10 母型
12 一次パターンレジスト
13 第一金属層
15 二次パターンレジスト
16 第二金属層
17 パターンフィルム
18 三次パターンレジスト
21 通孔
40 母型
43 パターンレジスト
44 第一金属層
45 第二金属層
50 微小凹み
60 張出部
Claims (5)
- マスク本体2に多数独立の蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が設けられた蒸着マスクであって、
前記蒸着通孔5は、被蒸着基板側に位置する小孔部5aと、気化源側に位置し、前記小孔部5aの開口形状よりも大きく形成された大孔部5bとが連通形成して構成されており、
前記マスク本体2は、前記小孔部5aを有して水平方向に伸びる下段部と、前記大孔部5bを有して前記下段部から上方に向かって伸びる上段部とを備え、
前記下段部の被蒸着基板側に微小凹み50を有し、
前記マスク本体2の断面視において、前記微小凹み50の幅寸法は、前記下段部の幅寸法より小さく、前記上段部の幅寸法より大きいことを特徴とする蒸着マスク。 - 前記マスク本体2の断面視において、前記微小凹み50の幅寸法が前記下段部の被蒸着基板側の幅寸法より小さいことを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。
- 前記マスク本体2の断面視において、前記微小凹み50の幅寸法が前記下段部の気化源側の幅寸法より小さいことを特徴とする請求項1または2に記載の蒸着マスク。
- 前記マスク本体2の断面視において、前記微小凹み50の幅寸法が前記上段部の被蒸着基板側の幅寸法より大きいことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の蒸着マスク。
- 前記マスク本体2の断面視において、前記微小凹み50の幅寸法が前記上段部の気化源側の幅寸法より大きいことを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の蒸着マスク。
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