JP6872665B2 - 荷電粒子線装置 - Google Patents
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Description
図3を用いて第1の調整手順について説明する。まず、円孔形状を有する第1の荷電粒子線絞り119を荷電粒子線の光軸近傍に移動する(ステップ31)。荷電粒子線絞り部より荷電粒子線源101側に配置された第1の偏向器群123を用いて荷電粒子線を走査する(ステップ32)。これは、荷電粒子線が荷電粒子線絞り上を走査することに相当する。従って、検出器118の出力は、荷電粒子線が絞りの円孔部を走査されているときは、大きく(明るく)、荷電粒子線が円孔部以外を走査されているときは小さく(暗く)なる。従って、荷電粒子線の走査位置に基づき画像を表示すると円形の画像(荷電粒子線像)が表示される。ステップ32の走査により表示される円形が、画像(観察視野)の中心で最も明るくなるように荷電粒子線の光軸と第1の荷電粒子線絞りの位置を調整する(ステップ33)。これは一般的な荷電粒子線装置において実施される荷電粒子線絞りの位置調整に相当する。
図4を用いて第2の調整手順を説明する。第1の調整手順よりも荷電粒子線装置の光軸を精度よく調整するため、第1の調整手順で円環形状を有する荷電粒子線絞りの調整を実施した後に、第2の調整手順により微調整を行うようにしてもよい。
図5を用いて第3の調整手順を説明する。第3の調整手順では透過パターンを用いて調整する。やはり第1の調整手順よりも荷電粒子線装置の光軸を精度よく調整するため、第1の調整手順で円環形状を有する荷電粒子線絞りの調整を実施した後に、第3の調整手順により微調整を行うようにしてもよい。
Claims (14)
- 荷電粒子線を発生させる荷電粒子線源と、
円孔形状を有する第1の荷電粒子線絞りと、
円環形状を有する第2の荷電粒子線絞りと、
前記第1の荷電粒子線絞り及び前記第2の荷電粒子線絞りを移動させる荷電粒子線絞り器と、
前記荷電粒子線源と前記第1の荷電粒子線絞りまたは前記第2の荷電粒子線絞りとの間に配置される第1の偏向器群と、
前記荷電粒子線を試料に集束する対物レンズと、
前記荷電粒子線が前記試料に照射されることにより放出された二次荷電粒子を検出する検出器と、
前記検出器で検出された二次荷電粒子に基づき荷電粒子線像を形成するコンピュータとを有し、
前記荷電粒子線を前記第1の偏向器群により前記第1の荷電粒子線絞り上で走査することにより得られる円形の荷電粒子線像が画像の中心で最も明るくなるように前記荷電粒子線の光軸と前記第1の荷電粒子線絞りの位置とを設定した後に前記第1の荷電粒子線絞りから前記第2の荷電粒子線絞りに切り替え、切り替えられた前記第2の荷電粒子線絞りの位置は、前記荷電粒子線を前記第1の偏向器群により前記第2の荷電粒子線絞り上で走査することにより得られる円形の荷電粒子線像が画像の中心にくるように設定される荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記第2の荷電粒子線絞りに電圧を印加する荷電粒子線絞り電源を有する荷電粒子線装置。 - 請求項2において、
前記第2の荷電粒子線絞りは、前記荷電粒子線の光軸方向に円環形状を有する荷電粒子線絞りと円孔形状を有する荷電粒子線絞りとが重ね合わされており、前記円環形状を有する荷電粒子線絞りと前記円孔形状を有する荷電粒子線絞りとの間に前記荷電粒子線絞り電源により電圧が印加される荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記第2の荷電粒子線絞りが設定された位置を記憶し、
前記第2の荷電粒子線絞りが選択されることにより、前記第2の荷電粒子線絞りは、前記荷電粒子線絞り器により前記設定された位置に移動される荷電粒子線装置。 - 荷電粒子線を発生させる荷電粒子線源と、
前記荷電粒子線を試料に集束する対物レンズと、
円孔形状を有する第1の荷電粒子線絞りと、
円環形状を有する第2の荷電粒子線絞りと、
前記第1の荷電粒子線絞り及び前記第2の荷電粒子線絞りを移動させる荷電粒子線絞り器と、
前記対物レンズと前記第1の荷電粒子線絞りまたは前記第2の荷電粒子線絞りとの間に配置される第2の偏向器群及び第3の偏向器群と、
前記荷電粒子線が前記試料に照射されることにより放出された二次荷電粒子を検出する検出器と、
前記検出器で検出された二次荷電粒子に基づき荷電粒子線像を形成するコンピュータとを有し、
前記対物レンズの励磁を周期的に変動させながら前記荷電粒子線を前記第3の偏向器群により前記試料上で走査することにより得られる荷電粒子線像における前記対物レンズの励磁の周期的変動に同期した画像の移動が停止するように前記第2の偏向器群により前記荷電粒子線の経路を調整した後に前記第1の荷電粒子線絞りから前記第2の荷電粒子線絞りに切り替え、切り替えられた前記第2の荷電粒子線絞りの位置は、前記対物レンズの励磁を周期的に変動させながら前記荷電粒子線を前記第3の偏向器群により前記試料上で走査することにより得られる荷電粒子線像における前記対物レンズの励磁の周期的変動に同期した移動が停止するように設定される荷電粒子線装置。 - 請求項5において、
前記対物レンズの励磁を周期的に変動させることにより生じる前記対物レンズの励磁の周期的変動に同期した前記荷電粒子線像における画像の移動に代えて、前記荷電粒子線源の加速電圧を周期的に変動させることにより生じる前記加速電圧の周期的変動に同期した前記荷電粒子線像における画像の移動に基づき、前記第2の荷電粒子線絞りの位置が設定される荷電粒子線装置。 - 請求項5において、
前記第2の荷電粒子線絞りに電圧を印加する荷電粒子線絞り電源を有する荷電粒子線装置。 - 請求項7において、
前記第2の荷電粒子線絞りは、前記荷電粒子線の光軸方向に円環形状を有する荷電粒子線絞りと円孔形状を有する荷電粒子線絞りとが重ね合わされており、前記円環形状を有する荷電粒子線絞りと前記円孔形状を有する荷電粒子線絞りとの間に前記荷電粒子線絞り電源により電圧が印加される荷電粒子線装置。 - 請求項5において、
前記第2の荷電粒子線絞りが設定された位置を記憶し、
前記第2の荷電粒子線絞りが選択されることにより、前記第2の荷電粒子線絞りは、前記荷電粒子線絞り器により前記設定された位置に移動される荷電粒子線装置。 - 荷電粒子線を発生させる荷電粒子線源と、
前記荷電粒子線を試料に集束する対物レンズと、
円孔形状を有する第1の荷電粒子線絞りと、
円環形状を有する第2の荷電粒子線絞りと、
前記第1の荷電粒子線絞り及び前記第2の荷電粒子線絞りを移動させる荷電粒子線絞り器と、
前記対物レンズと前記第1の荷電粒子線絞りまたは前記第2の荷電粒子線絞りとの間に配置される第2の偏向器群と、
前記試料を透過した前記荷電粒子線を検出する透過パターン検出面と、
前記透過パターン検出面のパターンを観察するカメラとを有し、
前記対物レンズの励磁を周期的に変動させながら前記荷電粒子線を前記試料にスポット照射することにより得られる透過パターンが、前記対物レンズの励磁の周期的変動に同期して同心円状に均一に拡大、縮小するように前記第1の荷電粒子線絞りの位置を調整した後に前記第1の荷電粒子線絞りから前記第2の荷電粒子線絞りに切り替え、切り替えられた前記第2の荷電粒子線絞りの位置は、前記第1の荷電粒子線絞りの位置が調整された状態での前記透過パターンの中心と切り替えられた前記第2の荷電粒子線絞りを通った前記荷電粒子線が前記試料を透過して検出される透過パターンの中心と一致するように設定される荷電粒子線装置。 - 請求項10において、
前記第1の荷電粒子線絞りの位置の調整に代えて、前記第2の偏向器群により前記荷電粒子線の経路を調整する荷電粒子線装置。 - 請求項10において、
前記第2の荷電粒子線絞りに電圧を印加する荷電粒子線絞り電源を有する荷電粒子線装置。 - 請求項12において、
前記第2の荷電粒子線絞りは、前記荷電粒子線の光軸方向に円環形状を有する荷電粒子線絞りと円孔形状を有する荷電粒子線絞りとが重ね合わされており、前記円環形状を有する荷電粒子線絞りと前記円孔形状を有する荷電粒子線絞りとの間に前記荷電粒子線絞り電源により電圧が印加される荷電粒子線装置。 - 請求項10において、
前記第2の荷電粒子線絞りが設定された位置を記憶し、
前記第2の荷電粒子線絞りが選択されることにより、前記第2の荷電粒子線絞りは、前記荷電粒子線絞り器により前記設定された位置に移動される荷電粒子線装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2018/013396 WO2019186936A1 (ja) | 2018-03-29 | 2018-03-29 | 荷電粒子線装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019186936A1 JPWO2019186936A1 (ja) | 2021-02-25 |
JP6872665B2 true JP6872665B2 (ja) | 2021-05-19 |
Family
ID=68059590
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020508734A Active JP6872665B2 (ja) | 2018-03-29 | 2018-03-29 | 荷電粒子線装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11164716B2 (ja) |
JP (1) | JP6872665B2 (ja) |
CN (1) | CN111971774B (ja) |
DE (1) | DE112018007105T5 (ja) |
WO (1) | WO2019186936A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020230285A1 (ja) | 2019-05-15 | 2020-11-19 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置 |
JP7271717B2 (ja) * | 2019-12-12 | 2023-05-11 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線絞りへの入射角調整機構、および荷電粒子線装置 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3857034A (en) * | 1970-08-31 | 1974-12-24 | Max Planck Gesellschaft | Scanning charged beam particle beam microscope |
JPH07302564A (ja) | 1994-05-10 | 1995-11-14 | Topcon Corp | 走査電子顕微鏡 |
JP2001052998A (ja) * | 1999-06-03 | 2001-02-23 | Advantest Corp | 荷電粒子ビーム結像方法、荷電粒子ビーム結像装置及び荷電粒子ビーム露光装置 |
JP2001006591A (ja) * | 1999-06-18 | 2001-01-12 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置 |
KR101175523B1 (ko) * | 2003-05-28 | 2012-08-21 | 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이. | 대전 입자 빔렛 노광 시스템 |
JP4316394B2 (ja) * | 2004-01-21 | 2009-08-19 | 株式会社東芝 | 荷電ビーム装置 |
JP4620981B2 (ja) * | 2004-08-10 | 2011-01-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム装置 |
JP4708854B2 (ja) * | 2005-05-13 | 2011-06-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP4994151B2 (ja) * | 2007-08-14 | 2012-08-08 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置 |
DE102009016861A1 (de) * | 2009-04-08 | 2010-10-21 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Teilchenstrahlmikroskop |
JP2017010608A (ja) * | 2013-10-03 | 2017-01-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線の傾斜補正方法および荷電粒子線装置 |
DE112015006453B4 (de) * | 2015-04-14 | 2023-02-23 | Hitachi High-Tech Corporation | Vorrichtung mit einem Strahl geladener Teilchen und Probenbeobachtungsverfahren |
JP6351196B2 (ja) | 2015-04-27 | 2018-07-04 | 国立大学法人名古屋大学 | 荷電粒子ビーム用電磁レンズの球面収差補正装置 |
JP7047523B2 (ja) * | 2018-03-26 | 2022-04-05 | 株式会社島津製作所 | 荷電粒子ビーム軸合わせ装置、荷電粒子ビーム照射装置および荷電粒子ビーム軸合わせ方法 |
-
2018
- 2018-03-29 US US17/040,121 patent/US11164716B2/en active Active
- 2018-03-29 WO PCT/JP2018/013396 patent/WO2019186936A1/ja active Application Filing
- 2018-03-29 JP JP2020508734A patent/JP6872665B2/ja active Active
- 2018-03-29 DE DE112018007105.7T patent/DE112018007105T5/de active Granted
- 2018-03-29 CN CN201880091659.9A patent/CN111971774B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20210027977A1 (en) | 2021-01-28 |
DE112018007105T5 (de) | 2021-02-25 |
JPWO2019186936A1 (ja) | 2021-02-25 |
CN111971774A (zh) | 2020-11-20 |
WO2019186936A1 (ja) | 2019-10-03 |
CN111971774B (zh) | 2023-09-29 |
US11164716B2 (en) | 2021-11-02 |
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Date | Code | Title | Description |
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A521 | Request for written amendment filed |
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|
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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