DE112015006453B4 - Vorrichtung mit einem Strahl geladener Teilchen und Probenbeobachtungsverfahren - Google Patents

Vorrichtung mit einem Strahl geladener Teilchen und Probenbeobachtungsverfahren Download PDF

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Abstract

Vorrichtung mit einem Strahl geladener Teilchen, die umfasst:eine Kondensoreinheit (102-104), die eine Probe mit einem Strahl geladener Teilchen bestrahlt;eine Projektionseinheit (110-113), die ein Bild der Probe erzeugt;eine Aperturblende (106, 107), die innerhalb der Projektionseinheit (110-113) angeordnet ist und in der mehrere Öffnungen (151-154) mit unterschiedlichen Größen zum Durchlassen eines Elektronenstrahls von der Probe gebildet sind;eine Hauptsteuervorrichtung (121), die eine Position der Aperturblende (106, 107) ändert;eine Detektionseinheit (114), die ein durch die Projektionseinheit (110-113) erzeugtes Bild erhält;eine Messeinheit, die eine Bewegungsstrecke der Aperturblende (106, 107) misst;eine Anzeigeeinheit (123), die das durch die Detektionseinheit (114) erhaltene Bild anzeigt; undeine Auswahleinheit (401), die einen vorgegebenen Teil aus dem angezeigten Bild auswählt,wobei die Hauptsteuervorrichtung (121) die Aperturblende (106, 107) von einer Positionsbeziehung zwischen der Aperturblende (106, 107) und dem Bild in Übereinstimmung mit einer Position des ausgewählten vorgegebenen Teils bewegt, undwenn das Bild ein Elektronenstrahl-Beugungsbild ist: die Auswahleinheit (401) ausgebildet ist, einem Betreiber die Auswahl eines Beugungsflecks in dem angezeigten Elektronenstrahl-Beugungsbild zu ermöglichen; die Hauptsteuervorrichtung (121) eingerichtet ist, eine Öffnung (151) der Aperturblende (106, 107) auszuwählen, die einen Durchmesser aufweist, der für die Beobachtung des ausgewählten Beugungsflecks geeignet ist; die Hauptsteuervorrichtung (121) eingerichtet ist, die ausgewählte Öffnung (151) an eine Position des ausgewählten Beugungsflecks zu bewegen; die Aperturblende (106, 107) eine Objektivaperturblende (106) ist, die in eine Beugungsfläche innerhalb der Projektionseinheit (110-113) eingeführt werden kann; und die Hauptsteuervorrichtung (121) eingerichtet ist, ein Transmissionsbild des ausgewählten Beugungsflecks aufzunehmen und auf der Anzeigeeinheit (123) anzuzeigen; oderwenn das Bild ein Transmissionsbild der Probe ist: die Auswahleinheit (401) ausgebildet ist, einem Betreiber die Auswahl eines Teilbereichs in dem angezeigten Transmissionsbild zu ermöglichen; die Hauptsteuervorrichtung (121) eingerichtet ist, eine Öffnung (151) der Aperturblende (106, 107) auszuwählen, die einen Durchmesser aufweist, der einer Größe des ausgewählten Teilbereichs entspricht; die Hauptsteuervorrichtung (121) eingerichtet ist, die ausgewählte Öffnung (151) an eine Position des ausgewählten Teilbereichs zu bewegen; die Aperturblende (106, 107) eine Aperturblende (107) einer ausgewählten Fläche ist, die in eine primäre Bildfläche innerhalb der Projektionseinheit (110-113) eingeführt werden kann; und die Hauptsteuervorrichtung (121) eingerichtet ist, ein dem ausgewählten Teilbereich entsprechendes Beugungsmuster aufzunehmen und auf der Anzeigeeinheit (123) anzuzeigen; undwobei das Bild ein Elektronenstrahl-Beugungsbild oder ein Transmissionsbild der Probe ist, wobei die Aperturblende (106, 107) eine Objektivaperturblende, die in eine Beugungsfläche innerhalb der Projektionseinheit (110-113) eingeführt werden kann, und eine Aperturblende einer ausgewählten Fläche, die in eine primäre Bildfläche innerhalb der Projektionseinheit (110-113) eingeführt werden kann, ist, und wobei die Hauptsteuervorrichtung (121) die Position der Aperturblende (106, 107) durch Rückmelden eines Messergebnisses der Messeinheit ändert.

Description

  • Technisches Gebiet
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung mit einem Strahl geladener Teilchen und auf ein Probenbeobachtungsverfahren unter Verwendung der Vorrichtung.
  • Stand der Technik
  • In den letzten Jahren sind fortgeschrittene Betriebstechniken wie etwa die Einstellung einer Aperturblendenposition erforderlich gewesen, um irgendein Dunkelfeldbild aufzunehmen. Andererseits sind diese Betriebstechniken eine Ursache, die es erschwert, ein Dunkelfeldbild aufzunehmen. L. Reimer, „Transmission electron microscopy; physics of image formation and microanalysis“. Vol. 36, Springer, 1989, S.114-115, beschreibt die Funktionsweise eines Elektronen-Mikroskops. US 2013 / 0 299 696 A1 beschreibt ein Verfahren zur Erfassung von Transmissionsbildern. US 5 304 801 A , US 2009 / 0 045 337 A1 und DE 694 12 710 T2 beschreiben jeweils Elektronen-Mikroskope.
  • Liste der Entgegenhaltungen
  • Patentliteratur
  • PTL 1: JP 2009 - 110 788 A
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Technisches Problem
  • Im Folgenden wird eine Beschreibung einer Prozedur des verwandten Gebiets gegeben, die verwendet wird, um unter Verwendung eines Transmissionselektronenmikroskops (im Folgenden als ein „TEM“ bezeichnet) ein Dunkelfeldbild aufzunehmen. Nachdem ein Beobachtungsgebiet bestimmt worden ist, betreibt ein Betreiber eine Projektionslinse und schaltet eine Beobachtungsbetriebsart auf eine Beugungsmusterbeobachtungs-Betriebsart. Nachfolgend wird in einen Lichtweg eine Objektivaperturblende eingeführt, damit sie positioniert wird, und auf der Abbildungsoberfläche nur in einem gewünschten Beugungsfleckgebiet ein Bild einer Elektronenstrahlkomponente erzeugt. Danach wird die Projektionslinse zum Schalten der Beobachtungsbetriebsart in eine TEM-Bild-Beobachtungs-Betriebsart betrieben, wodurch ein Dunkelfeldbild erfasst wird, das einem vorgegebenen Beugungsfleck entspricht. Um ein Dunkelfeldbild zu erfassen, das einem anderen Beugungsfleck entspricht, wird die Beobachtungsbetriebsart erneut in die Beugungsmusterbeobachtungs-Betriebsart geschaltet und dieselbe Operation wiederholt. Auf diese Weise sind im verwandten Gebiet mehrere Einstelloperationen wie etwa die Operation des Betreibers zum Schalten zwischen einer Beugungsmusterbeobachtungs-Betriebsart und einer TEM-Bild-Beobachtungs-Betriebsart und die manuelle Operation des Betreibers zum Einstellen der Position einer Objektivaperturblende erforderlich, um unter Verwendung eines TEM ein Dunkelfeldbild zu erfassen. Außerdem muss die Operation des Einstellens der Position der Objektivaperturblende durch eine manuelle Eingabe eines Koordinatenpunkts ausgeführt werden, was viel Zeit und Arbeit erfordert.
  • Folglich ist eine Aufgabe der Erfindung die Schaffung einer Vorrichtung mit einem Strahl geladener Teilchen, die keine Operation des Betreibers zum Schalten zwischen einer Beugungsmusterbeobachtungs-Betriebsart und der TEM-Bild-Beobachtungs-Betriebsart und die Operation des Betreibers zum Einstellen der Position einer Objektivaperturblende erfordert und die eine Funktion zum leichten und automatischen Erfassen eines Transmissionsbilds, das irgendeinem Beugungsfleck entspricht, und zum leichten Erfassen eines Bilds eines Beugungsmusters, das einem Teilbereich des Transmissionsbilds entspricht, in einer kurzen Zeitdauer aufweist.
  • Um die oben beschriebene Aufgabe zu lösen, nimmt die Erfindung in dem Schutzumfang der Ansprüche beschriebene Konfigurationen an. Das heißt, die Erfindung nimmt eine Konfiguration an, in der eine Anzeigeeinheit, die ein Bild anzeigt, und eine Auswahleinheit, die die Position eines vorgegebenen Teils aus dem angezeigten Bild auswählt, vorgesehen sind und aus der Positionsbeziehung zwischen einer Aperturblende und dem Bild in Übereinstimmung mit der ausgewählten Position des vorgegebenen Teils eine vorgegebene Öffnung ausgewählt wird.
  • Genauer schafft die Erfindung eine Vorrichtung mit einem Strahl geladener Teilchen, die eine Kondensoreinheit, die eine Probe mit einem geladenen Strahl geladener Teilchen bestrahlt, eine Projektionseinheit, die ein Bild der Probe erzeugt, eine Aperturblende, die innerhalb der Projektionseinheit angeordnet ist und in der mehrere Öffnungen mit unterschiedlichen Größen zum Durchlassen eines Elektronenstrahls von der Probe gebildet sind, eine Bewegungseinheit, die eine Position der Aperturblende ändert, eine Detektionseinheit, die ein durch das Projektionsobjektsystem erzeugtes Bild erhält, eine Anzeigeeinheit, die das durch die Detektionseinheit erhaltene Bild anzeigt, und eine Auswahleinheit, die einen vorgegebenen Teil aus dem angezeigten Bild auswählt, enthält, wobei die Bewegungseinheit die Aperturblende von einer Positionsbeziehung zwischen der Aperturblende und dem Bild in Übereinstimmung mit einer Position des ausgewählten vorgegebenen Teils bewegt, wobei das Bild ein Elektronenstrahl-Beugungsbild und/oder ein Transmissionsbild der Probe ist und wobei die Aperturblende eine Objektivaperturblende, die in eine Beugungsfläche innerhalb der Projektionseinheit eingeführt werden kann, und/oder eine Aperturblende einer_ausgewählten Fläche, die in eine primäre Bildfläche innerhalb der Projektionseinheit eingeführt werden kann, ist.
  • Vorteilhafte Wirkungen der Erfindung
  • In Übereinstimmung mit der Erfindung wählt ein Betreiber z. B. einen vorgegebenen Teil (z. B. einen Fleck) eines Beugungsbilds auf einer Anzeigeeinheit aus, so dass es möglich ist, ein Transmissionsbild, das dem ausgewählten Teil entspricht, leicht und automatisch aufzunehmen. Außerdem wählt der Betreiber in Übereinstimmung mit der Erfindung z. B. einen vorgegebenen Teil (z. B. einen Bereich) des Transmissionsbilds auf der Anzeigeeinheit aus, so dass es möglich ist, ein Beugungsbild, das dem ausgewählten Teil entspricht, leicht und automatisch aufzunehmen. Andere Probleme, Konfigurationen und Wirkungen als die oben Beschriebenen gehen aus der folgenden Beschreibung von Ausführungsformen hervor.
  • Figurenliste
    • 1 ist eine schematische Darstellung, die die Gesamtkonfiguration eines Transmissionselektronenmikroskops (TEM) in Übereinstimmung mit einem Beispiel darstellt.
    • 2 ist eine schematische Darstellung, die einen Orbit eines Elektronenstrahls darstellt.
    • 3 ist eine schematische Darstellung, die ein Beispiel eines unter Verwendung eines Transmissionselektronenmikroskops (TEM) erfassten TEM-Bilds darstellt.
    • 4 ist eine schematische Darstellung, die ein Beispiel eines unter Verwendung eines Transmissionselektronenmikroskops (TEM) abgebildeten Beugungsmusters darstellt.
    • 5 ist eine schematische Darstellung, die ein Beispiel der Struktur einer Aperturblendenplatte darstellt.
    • 6 ist eine schematische Darstellung, die ein Beispiel eines Antriebsmechanismus der Aperturblendenplatte darstellt.
    • 7 ist eine schematische Darstellung, die ein Beispiel eines Beugungsmusters darstellt.
    • 8 ist eine schematische Darstellung, die ein Dunkelfeldbild (links), das nur unter Verwendung eines Beugungsflecks A in dem in 7 dargestellten Beugungsmuster erzeugt ist, und ein Beugungsmuster (rechts), wenn nur der Beugungsfleck A durch eine Objektivaperturblende durchgelassen wird, darstellt.
    • 9 ist eine schematische Darstellung, die ein Dunkelfeldbild (links), das nur unter Verwendung eines Beugungsflecks B in dem in 7 dargestellten Beugungsmuster erzeugt ist, und ein Beugungsmuster (rechts), wenn nur der Beugungsfleck B durch eine Objektivaperturblende durchgelassen wird, darstellt.
    • 10 ist eine schematische Darstellung, die ein Beispiel einer GUI darstellt, die verwendet wird, wenn ein Dunkelfeldbild, das irgendeinem Beugungsfleck entspricht, der ein Beugungsmusterbild erzeugt, automatisch aufgenommen wird.
    • 11 ist ein Ablaufplan, der ein Verfahren zum automatischen Aufnehmen eines Dunkelfeldbilds, das irgendeinem Beugungsfleck entspricht, darstellt.
    • 12 ist eine schematische Darstellung, die ein Beispiel einer GUI darstellt, die verwendet wird, wenn Dunkelfeldbilder, die mehreren Beugungsflecken entsprechen, automatisch aufgenommen werden.
    • 13 ist eine schematische Darstellung, die ein Beispiel darstellt, in dem ein Gebiet, das mehrere Beugungsflecken enthält, als ein zu beobachtendes Objekt ausgewählt wird.
    • 14 ist eine schematische Darstellung, die ein Verfahren zum Korrigieren der Anzahl von Bewegungspulsen einer Aperturblende aus einem Beugungsmuster darstellt.
    • 15 ist eine schematische Darstellung, die ein Beispiel einer GUI darstellt, die verwendet wird, wenn ein Beugungsmuster, das irgendeinem Bereich eines Dunkelfeldbilds entspricht, automatisch aufgenommen wird.
    • 16 ist ein Ablaufplan, der ein Verfahren zum automatischen Aufnehmen des Beugungsmusters, das irgendeinem Bereich des Dunkelfeldbilds entspricht, darstellt.
  • Beschreibung von Ausführungsformen
  • Im Folgenden wird anhand der beigefügten Zeichnungen ein Beispiel der Erfindung beschrieben. Indessen ist das Beispiel der Erfindung nicht auf ein später zu beschreibendes Beispiel beschränkt und können im Schutzumfang des technischen Erfindungsgedankens davon verschiedene Änderungen vorgenommen werden.
  • [Grundkonfiguration]
  • [Konfiguration der Vorrichtung]
  • 1 stellt ein Beispiel einer schematischen Konfiguration eines Transmissionselektronenmikroskops (TEM) dar, das eine der Vorrichtungen mit einem Strahl geladener Teilchen ist. Ein Elektronenstrahl, der durch eine Elektronenkanone 101 erzeugt wird, wird durch Kondensorlinsen 1 bis 3 (102 bis 104) gesammelt und zu einer Probe (nicht gezeigt) emittiert, die an einem Probentisch 105 angebracht ist. Elektronen, die durch die Probe gegangen sind, werden durch Projektionslinsen 1 bis 4 (110 bis 113) zu einer Abbildungsoberfläche einer CCD-Kamera 114 geführt. Ein durch die CCD-Kamera 114 detektiertes elektronisches Bild wird abgebildet, nachdem es in eine Hauptsteuervorrichtung 121 genommen worden ist. Ein Betreiber beobachtet das Bild als ein Probenbild. Die Kondensorlinsen 1 bis 3 (102 bis 104), der Probentisch 105, eine Objektivaperturblende 106 und eine Aperturblende 107 einer ausgewählten Fläche werden durch ein Apertursteuersubstrat 120 gesteuert, das eine Anweisung von der Hauptsteuervorrichtung 121 empfängt. Das durch die Hauptsteuervorrichtung abgebildete Bild wird auf einer Anzeigevorrichtung 123 angezeigt. Indessen wird eine Eingabevorrichtung 124 verwendet, um ein Teilgebiet des auf der Anzeigevorrichtung 123 angezeigten Bilds zu bestimmen. Eine später zu beschreibende Zeigevorrichtung 180 ist ein Beispiel der Eingabevorrichtung 124. Der Innenraum der Hauptsäule 100 ist durch eine in der Zeichnung nicht gezeigte Entleerungspumpe auf näherungsweise 10-5 PA entleert.
  • Die für die Beobachtung verwendete Probe wird durch eine Vorrichtung mit fokussiertem lonenstrahl oder dergleichen bis auf mehrere zehn nm dünn gemacht und an einem Probenständer angebracht. Der Probenständer wird in einen Probenhalter eingebaut und durch eine Vorentleerungskammer (Luftverriegelungskammer), die in eine in der Zeichnung nicht gezeigte Probenbewegungsvorrichtung eingebettet ist, in die Hauptsäule 100 eingeführt.
  • [TEM-Bild]
  • Anhand von 2 wird ein Orbit eines Elektronenstrahls während der Beobachtung eines TEM-Bilds (Transmissionsbilds) beschrieben. Während der Beobachtung des TEM-Bilds wird eine Probe 131' durch Kondensorlinsen 102 bis 104 (in 2 nicht gezeigt) mit im Wesentlichen parallelen Strahlen 130 bestrahlt, wobei Elektronen, die mit der Probe 131 in Wechselwirkung treten, durch mehrere Stufen von Projektionslinsen 132 und 133, die unter der Probe eingebaut sind, vergrößert werden. Das vergrößerte Bild wird auf der CCD-Kamera 114 erzeugt, um abgebildet zu werden. 3 ist ein Beispiel eines TEM-Bilds (Transmissionsbilds), das unter Verwendung der CCD-Kamera 114 erfasst wird.
  • [Beugungsmuster]
  • Falls ein Beugungsmuster beobachtet wird, werden ein Beugungsfleck 201 und ein Transmissionsfleck 202, die unter einer Probe erzeugt werden, unter Verwendung mehrerer Stufen von Projektionslinsen 132 und 133, wie in 2 gezeigt ist, vergrößert. Der vergrößerte Beugungsfleck 201 und der vergrößerte Transmissionsfleck 202 werden auf der CCD-Kamera 114 erzeugt, um abgebildet zu werden. Falls das Beugungsmuster beobachtet wird, ist der Wert eines Stroms, der zu den Projektionslinsen 132 und 133 fließt, verschieden von dem Wert eines Stroms, der zu den Projektionslinsen 132 und 133 fließt, falls ein TEM-Bild beobachtet wird. Das Schalten des Stromwerts wird durch die Hauptsteuereinheit 121 ausgeführt. 4 ist ein Beispiel eines Beugungsmusters, das einem TEM-Bild entspricht. In einem durch die CCD-Kamera 114 erfassten Bild wird ein Beugungsmuster (Beugungsfleck 201, Transmissionsfleck 202) beobachtet, das auf einer Kristallorientierung der Probe beruht.
  • [Objektivaperturblende]
  • Wie in 2 dargestellt ist, ist die Objektivaperturblende 106 in der Nähe eines Gebiets eingebaut, in dem der Beugungsfleck 201 erzeugt wird. Die Objektivaperturblende 106 wird verwendet, um gestreute Elektronen, die während der Beobachtung eines TEM-Bilds (Transmissionsbilds) überflüssig sind, abzutrennen, oder um ein Bild (Dunkelfeldbild), das durch Erzeugen nur eines spezifischen Beugungsflecks 201 erhalten wird, zu erfassen.
  • Nachfolgend wird ein Beispiel eines Objektivaperturblenden-Antriebsmechanismus beschrieben. Eine in 5 dargestellte Aperturblendenplatte 150 ist bei dem Endteil des Objektivaperturblenden-Antriebsmechanismus eingebaut. Im Fall von 5 sind mehrere Löcher 151 bis 154 vorgesehen, die innerhalb eines Durchmesserbereichs von mehreren µm bis zu mehreren hunderten µm unterschiedliche Durchmesser aufweisen. Ferner ist es ebenfalls möglich, die Aperturblende 150 zu verwenden, die einen Mechanismus enthält, der die Durchmesser der Löcher ändern kann. Der Objektivaperturblenden-Antriebsmechanismus bewegt die Aperturblendenplatte 150 innerhalb einer Ebene senkrecht zu der optischen Achse eines Elektronenstrahls zweidimensional. Während des Antreibens der Aperturblendenplatte 150 wird ein Gleichstrommotor, ein Schrittmotor oder dergleichen, der in der Zeichnung nicht gezeigt ist, der mit dem Aperturblendensteuersubstrat 120 verbunden ist, geeignet ausgewählt.
  • [Beispiel]
  • Im Folgenden werden eine Operation (Beispiel 1) in einem Fall des Aufnehmens eines TEM-Bilds (Transmissionsbilds) unter Verwendung eines Transmissionselektronenmikroskops und eine Operation (Beispiel 2) in einem Fall des Erfassens eines Beugungsmusters (Beugungsbilds) getrennt beschrieben. Allerdings können später zu beschreibende Operationen ebenfalls auf einen Fall angewendet werden, dass ein TEM-Bild (Transmissionsbild) oder ein Beugungsmuster (Beugungsbild) unter Verwendung verschiedener Vorrichtungen mit einem Strahl geladener Teilchen, die ein lonenmikroskop enthalten, erfasst werden.
  • [Beispiel 1]
  • In diesem Beispiel wird eine Beschreibung einer Beobachtungsbetriebsart gegeben, in der ein Dunkelfeldbild, das irgendeinem Beugungsfleck entspricht, der ein Beugungsmuster erzeugt, automatisch aufgenommen wird. In diesem Beispiel werden bei der Beobachtung ein Beugungsmuster und ein Transmissionsbild verwendet. Ein in 7 dargestelltes Beugungsmuster enthält eine Transmissionswelle und gebeugte Wellen. Ein Fleck C in 7 ist äquivalent der Transmissionswelle und die anderen Flecken sind die gebeugten Wellen. Ein Beobachtungsbild, das nur unter Verwendung der gebeugten Wellen erzeugt ist, ist ein Dunkelfeldbild, und ein Beobachtungsbild, das nur unter Verwendung der Transmissionswelle erzeugt ist, ist ein Hellfeldbild. Das Dunkelfeldbild und das Hellfeldbild werden zusammen als ein Transmissionsbild bezeichnet. Die Auswahl des Beobachtungsbilds wird in Übereinstimmung damit ausgeführt, welcher Beugungsfleck dafür ausgewählt wird, durch die Objektivaperturblende 106 durchgelassen zu werden.
  • Die 8 und 9 stellen Dunkelfeldbilder dar, die durch Durchstrahlen nur des Flecks A oder nur des Flecks B erzeugt sind. In den Dunkelfeldbildern wird ein stark gebeugtes Gebiet, das durch die Objektivaperturblende 106 ausgewählt wird, hell. Allerdings ist die Anzahl der Beugungsflecken, die dem Dunkelfeldbild entsprechen, zwei oder mehr. Aus diesem Grund ist es notwendig, dass unter den mehreren Beugungsflecken ein Beugungsfleck, den der Betreiber zu beobachten wünscht, ausgewählt wird, wenn das Dunkelfeldbild beobachtet wird. Andererseits ist die Anzahl der Beugungsflecken, die einem Hellfeldbild entsprechen, eins. Das Loch der Objektivaperturblende 106 wird so positioniert, dass nur der Beugungsfleck durchgelassen wird, der beobachtet werden soll, so dass es möglich ist, auf der Grundlage des gewünschten Beugungsflecks ein Beobachtungsbild zu erhalten. Allerdings wird der Innenraum eines Blickfelds dunkel, wenn die Objektivaperturblende 106 in einen Lichtweg eines Elektronenstrahls eingeführt wird. Das heißt, wie in der rechten Darstellung aus 8 dargestellt ist, wird ein Zustand eingestellt, in dem nur ein Elektronenstrahl beobachtet werden kann, der durch die Objektivaperturblende 106 gegangen ist. Wie in 8 dargestellt ist, ist die Anzahl der Beugungsflecken, die durch die Objektiväperturblende 106 gegangen sind, höchstens eins. Somit wird es äußerst schwierig, in dem Beobachtungsbild irgendeinen Beugungsfleck zu ermitteln.
  • Im Folgenden wird ein Verfahren zum Auswählen eines Beugungsflecks in Übereinstimmung mit diesem Beispiel beschrieben. 10 ist ein Beispiel einer GUI, die auf der Anzeigevorrichtung 123 angezeigt wird. In 10 wird ein Beugungsmuster in einem Bildanzeigegebiet 400 angezeigt und wird unter dem Beugungsmuster ein GUI-Bildschirm 401 angezeigt. Im Folgenden wird Bezug genommen auf die 10 und 11, um ein spezifisches Beispiel einer Funktion zum automatischen und aufeinanderfolgenden Aufnehmen eines Dunkelfeldbilds, das einem Beugungsfleck entspricht, der beliebig bestimmt wird, zu beschreiben.
  • Schritt 1101
  • Falls ein Dunkelfeldbild erfasst werden soll, das irgendeinem Fleck in einem zu beobachtenden Beugungsmuster entspricht, schaltet ein Betreiber eine Betriebsartauswahlspalte 402 des GUI-Bildschirms 401 in eine Beugungsmusterbeobachtungs-Betriebsart. In Übereinstimmung mit dieser Auswahl wird das Beugungsmuster in dem Bildanzeigegebiet 400 angezeigt. Der Betreiber wählt in dem angezeigten Beugungsmuster einen Beugungsfleck bei irgendeiner Position aus, an der ein Dunkelfeldbild erfasst werden soll.
  • Zum Beispiel gibt der Betreiber in einer Spalte A eines Kontrollkästchens 406, das auf dem GUI-Bildschirm 401 angezeigt wird, einen Haken ein, klickt er eine Registrierungsschaltfläche 403 an und klickt er ferner den Fleck A in dem Beugungsmuster an, falls ein Beugungsfleck A ausgewählt wird. Die Anklickoperation wird hier unter Verwendung der Zeigevorrichtung 180 oder dergleichen ausgeführt.
  • Die Anzahl der zu bestimmenden Beugungsflecken ist nicht auf eins beschränkt und kann zwei oder mehr sein. Zum Beispiel gibt der Betreiber einen Haken in eine Spalte B des Kontrollkästchens 406 ein, das, wie in 12 dargestellt ist, auf dem GUI-Bildschirm 401 angezeigt wird, klickt er die Registrierungsschaltfläche 403 an und klickt er ferner den Fleck B in dem Beugungsmuster an, falls ferner ein Beugungsmuster B ausgewählt wird. Die Anklickoperation des Betreibers wird wiederholt ausgeführt, bis die Registrierung eines Flecks, von dem gewünscht wird, dass er abgebildet wird, abgeschlossen ist. In 12 ist sogar ein Fleck C registriert worden.
  • • Schritt 1102
  • Jedes Mal, wenn ein Beugungsfleck bestimmt wird, wählt die Hauptsteuervorrichtung 121 ein Loch (irgendeines der Löcher 151 bis 154, die die Aperturblendenplatte 150 bilden) aus, das einen Aperturblendendurchmesser aufweist, der für die Beobachtung einzelner Beugungsflecken geeignet ist. Die Auswahl des Aperturblendenlochs hierin enthält hier nicht nur einen Fall, dass ein Aperturblendenloch im Wesentlichen mit derselben Größe wie die Größe des bestimmten irgendeinen Beugungsflecks als ein optimaler Durchmesser ausgewählt wird, sondern auch einen Fall, dass ein Teil eines Aperturblendenlochs, der den bestimmten irgendeinen Beugungsfleck enthält, als ein optimaler Durchmesser ausgewählt wird.
  • • Schritt 1103
  • Die Hauptsteuervorrichtung 121 berechnet die Koordinaten aller Beugungsflecken, die auf dem Bildschirm ausgewählt werden. Ein abzubildender Beugungsfleck wird auf der Grundlage der Koordinaten eindeutig spezifiziert. Die Koordinaten geben eine Position, an die eine Objektivaperturblende bewegt werden soll.
  • • Schritt 1104
  • Die Hauptsteuervorrichtung 121 speichert die berechneten Koordinaten eines oder mehrerer Beugungsflecken in einem in der Zeichnung nicht gezeigten Speicher. Das heißt, die Hauptsteuervorrichtung 121 registriert die berechneten Koordinaten in dem Speicher. Im Folgenden geht die Hauptsteuervorrichtung 121 in eine Betriebsart über, in der der Reihe nach Dunkelfeldbilder des gespeicherten einen oder der gespeicherten mehreren Beugungsflecken aufgenommen werden. Die Aufnahme der Dunkelfeldbilder wird durch den Klick des Betreibers auf eine TEM-Schaltfläche 404 unter Verwendung der Zeigevorrichtung 180 begonnen.
  • • Schritt 1105
  • Wenn die Hauptsteuervorrichtung 121 das Anklicken der TEM-Schaltfläche 404 detektiert hat, bewegt sie zunächst ein spezifisches Loch (das in Schritt 1102 ausgewählte Loch) der Objektivaperturblende 106 für die Erfassung des Dunkelfeldbilds des Beugungsflecks A automatisch an die Position der Koordinaten des Beugungsflecks A. Das heißt, die Position der Objektivaperturblende 106 wird so eingestellt, dass der Beugungsfleck A und das spezifische Loch der Objektivaperturblende 106 miteinander in Übereinstimmung sind.
  • Die Bewegung der Objektivaperturblende 106 wird in Übereinstimmung mit einer Positionsbeziehung zwischen der Objektivaperturblende 106 und dem Beugungsmuster gesteuert. Währenddessen sind der Mittelpunkt der Objektivaperturblende und der Mittelpunkt einer optischen Achse während der später zu beschreibenden Korrektur miteinander in Übereinstimmung. Entsprechend der Übereinstimmung zwischen den beiden Mitten sind ein Koordinatensystem eines Kamerabilds, ein Koordinatensystem einer Bilderzeugungsfläche (primären Bildfläche) und ein Koordinatensystem einer Beugungsfläche zueinander ähnlich, wobei die Koordinatensysteme als ein Koordinatensystem behandelt werden können.
  • • Schritt 1106
  • Wenn der Betreiber eine Abbildungsschaltfläche 405 anklickt, schaltet die Hauptsteuervorrichtung 121 einen aktuellen Wert der Projektionslinse auf eine TEM-Bild-Beobachtungs-Betriebsart, um ein Dunkelfeldbild A des Beugungsflecks A aufzunehmen, und zeigt sie das aufgenommene Bild in dem Bildanzeigegebiet 400 der Anzeigevorrichtung 123 an. Der Betreiber beobachtet das in dem Bildanzeigegebiet 400 angezeigte Dunkelfeldbild A. Falls die Anzahl der bestimmten Beugungsflecken nur eins ist, wird die Verarbeitung in dem Prozess dieses Schritts abgebrochen.
  • • Schritt 1107
  • Falls in Schritt 1101 die mehreren Beugungsflecken für die Erfassung eines Dunkelfeldbilds registriert werden, führt die Hauptsteuervorrichtung 121 automatisch einen Prozess des Erfassens eines Dunkelfeldbilds der Reihe nach in Bezug auf die anderen Beugungsflecken aus. Das spezifische Loch (das in Schritt 1102 ausgewählte Loch) der Objektivaperturblende 106 wird hierfür die Erfassung des Beugungsflecks B an die Position der Koordinaten des Beugungsflecks B bewegt. Das heißt, die Position der Objektivaperturblende 106 wird in der Weise eingestellt, dass der Beugungsfleck B und das spezifische Loch der Objektivaperturblende 106 miteinander in Übereinstimmung sind. Zu dieser Zeit kann die Hauptsteuervorrichtung 121 die Beobachtungsbetriebsart in eine Beugungsmusterbeobachtungs-Betriebsart schalten, kann sie aber die TEM-Bild-Beobachtungs-Betriebsart beibehalten, da die Koordinaten des Beugungsflecks B bereits registriert worden sind.
  • • Schritt 1108
  • Wenn der Betreiber die Abbildungsschaltfläche 405 anklickt, nimmt die Hauptsteuervorrichtung 121 das Dunkelfeldbild B, das dem Beugungsfleck B entspricht, auf und zeigt sie das aufgenommene Bild in dem Bildanzeigegebiet 400 der Anzeigevorrichtung 123 an. Der Betreiber beobachtet das in dem Bildanzeigegebiet 400 angezeigte Dunkelfeldbild B. Die Prozesse der Schritte 1107 und 1108 werden an allen registrierten Beugungsflecken wiederholt ausgeführt.
  • Auf diese Weise werden in diesem Beispiel mehrere Beugungsflecken für ein Beugungsmuster im Voraus registriert, so dass es möglich ist, mehrere Dunkelfeldbilder, die den jeweiligen Beugungsflecken äquivalent sind, automatisch und aufeinanderfolgend aufzunehmen. Das heißt, in dem Verfahren dieses Beispiels ist es nicht wie in dem Verfahren des verwandten Gebiets notwendig, eine Operation des Aufnehmens eines Dunkelfeldbilds durch manuelles Bestimmen eines Koordinatenwerts eines Beugungsflecks in Bezug auf ein Beugungsmuster zu wiederholen. Aus diesem Grund kann das Verfahren in diesem Beispiel die Aufnahme und Beobachtung eines Dunkelfeldbilds deutlich effizienter als in dem Verfahren des verwandten Gebiets machen.
  • In der obigen Beschreibung wird ein Beugungsfleck zum Aufnehmen eines Dunkelfeldbilds ausgewählt, wobei es aber möglich ist, mehrere Beugungsflecken der Reihe nach auszuwählen, um ein Dunkelfeldbild aufzunehmen. 13 stellt ein Beispiel des Auswahlverfahrens dar. In 13 sind zwei benachbarte Beugungsflecken 201 bestimmt worden. Das Loch 154 wird übrigens für die Beobachtung eines Dunkelfeldbilds verwendet, das den zwei Beugungsflecken 201 entspricht. In diesem Fall ist das Dunkelfeldbild, das aufgenommen werden soll, ein Bild, das durch Kombinieren einzelner Dunkelfeldbilder der zwei Beugungsflecken 201 miteinander erhalten wird, so dass es möglich ist, ein Dunkelfeldbild mit einem hohen Kontrastverhältnis zu erhalten.
  • Im Folgenden wird Bezug genommen auf 6, um einen Objektivaperturblenden-Antriebsmechanismus zu beschreiben, der die Objektivaperturblende 106 automatisch an die Position der Koordinaten eines auf dem GUI-Bildschirm 401 registrierten Beugungsflecks bewegen kann. Der Antriebsmechanismus enthält einen X-Achsen-Motor 300 und einen Y-Achsen-Motor 301, so dass er die Objektivaperturblende 106 innerhalb einer Ebene senkrecht zu der optischen Achse eines Elektronenstrahls zweidimensional bewegen kann. Außerdem wird die Rotationskraft des Motors durch ein Zahnrad und Vorschubspindeln 302 bis 305 in eine Linearbewegung einer beweglichen Achse 306 übertragen. Um eine hochgenaue Steuerung auszuführen, wird ein realer Betrag der Bewegung in der Nähe der Aperturblende unter Verwendung einer linearen X-Achsen-Skale 307 gemessen und ein Messergebnis an eine Motorsteuereinheit rückgemeldet. Ähnlich sind hinsichtlich einer Y-Achse lineare Skalen 308 bis 309 angebracht. Um einen Einfluss wegen eines Spiels in dem Zahnrad oder einer axialen Verformung zu minimieren, werden eine Sollstrecke und eine reale Bewegungsstrecke in der Nähe der Aperturöffnungsplatte 150 miteinander verglichen. In dem TEM ist der Innenraum der Hauptsäule 100, in den die Aperturblendenplatte 150 eingeführt ist, entleert. Aus diesem Grund sind die linearen Skalen innerhalb des Gehäuses 100 eingebaut. Dadurch ist es möglich, die Korrektur richtig auszuführen, selbst wenn eine mechanische Abweichung wie etwa ein Spiel auftritt. Die zu betrachtende Motorsteuereinheit kann nicht nur die lineare Skale, sondern auch ein Winkelcodierer, ein Gyrosensor oder dergleichen sein, wobei es aber bevorzugt ist, dass der Betrag der Bewegung einer Achse gemessen wird, um eine Messung, die eine Störung enthält, auszuführen.
  • Die Korrektur der Koordinaten wird für jeder Aperturblende dadurch ausgeführt, dass die Mitte der Aperturblende und die Mitte der Kamera (die Mitte der optischen Achse) in Bezug auf die Einführung der Aperturblendenplatte 150 miteinander in Übereinstimmung gebracht werden. Der Betrag der Abweichung, wenn ein Beobachtungsgebiet in der GUI ausgewählt wird, wird unter Verwendung der Koordinaten eines Aperturblendenmechanismus für die Mitte der optischen Achse berechnet, wodurch die Bewegung in irgendein Gebiet ermöglicht wird.
  • Anhand von 14 wird ein Korrekturverfahren beschrieben. 14 stellt ein Beispiel eines Beugungsmusters dar, das in der Nähe der Objektivaperturblende 106 erzeugt wird. Es wird das Beugungsmuster erzeugt, das mehrere Beugungsflecken in einer Ebene senkrecht zu einem Strahl geladener Teilchen begleitet. Das Beugungsmuster wird unter Verwendung einer Projektionslinse vergrößert, wird auf einem Szintillator der CCD-Kamera 114 erzeugt und wird auf einem Bildschirm der Anzeigevorrichtung 123 angezeigt. Der in dem Objektivaperturblenden-Antriebsmechanismus enthaltene Motor wird angetrieben, so dass es möglich ist, nur einen Fleckdurchgang über das Aperturblendenloch zu machen. Es gibt eine Korrelation zwischen einem Puls eines zum Steuern der Position des Aperturblendenlochs enthaltenen Winkelcodierers und einer Bewegungsstrecke des Aperturblendenlochs. Diese Korrelation kann durch Messen einer Strecke auf dem Bildschirm der Anzeigevorrichtung 123 erhalten werden, falls das Aperturblendenloch um ein Ausmaß bewegt wird, das äquivalent einer bestimmten Anzahl von Pulsen ist. Zum Beispiel wird der Betrag der Bewegung pro Puls durch M/P erhalten, wenn das Aperturblendenloch auf dem Bildschirm der Anzeigevorrichtung 123 um eine Strecke M bewegt wird, falls das Aperturblendenloch um ein Ausmaß von P Pulsen bewegt wird. Auf diese Weise kann z. B. die Anzahl der Pulse, die erforderlich sind, um das Aperturblendenloch an die Position des Beugungsflecks A zu bewegen, durch L • P/M erhalten werden, wenn eine Strecke zu dem Beugungsfleck A auf der Anzeigevorrichtung 123 auf der Grundlage eines in der Mitte des Beugungsmusters positionierten Transmissionsflecks 201 L ist.
  • Wie oben beschrieben wurde, ist es möglich, unter mehreren Beugungsflecken, die ein Beugungsmuster erzeugen, einen oder mehrere Beugungsflecken, die beobachtet werden sollen, auf demselben Bildschirm auf einmal zu bestimmen und automatisch alle Dunkelfeldbilder aufzunehmen, die den bestimmten Beugungsflecken entsprechen, wenn das Transmissionselektronenmikroskop dieses Beispiels verwendet wird. Dadurch ist es möglich, die Betriebsarbeit und die Menge des Betriebs eines Betreibers zum Beobachten der Dunkelfeldbilder drastisch zu verringern.
  • [Beispiel 2]
  • In diesem Beispiel wird eine Beschreibung einer Beobachtungsbetriebsart gegeben, in der ein Beugungsmuster, das einem Teilgebiet entspricht, das ein Transmissionsgebiet erzeugt, automatisch aufgenommen wird. Wie in 2 dargestellt ist, wird ein Transmissionsbild, das durch eine Objektivlinse erzeugt wird, in einem Gebietsteil unter einer Probe erzeugt. In dem Gebietsteil ist eine Aperturblende 107 einer ausgewählten Fläche eingebaut. Die Aperturblende 107 einer ausgewählten Fläche wird verwendet, um ein Beugungsmuster eines spezifischen Gebiets eines Transmissionsbilds aufzunehmen. Ähnlich der in 5 dargestellten Aperturblendenplatte 150 ist eine Aperturblendenplatte, die die Aperturblende 107 einer ausgewählten Fläche bildet, mit mehreren Löchern mit einem Durchmesser von 0,1 µm bis mehreren hunderten µm vorgesehen. Ein zu den Projektionslinsen 110 bis 113 fließender Strom kann so gesteuert werden, dass zwischen der Tatsache, dass ein direkt unter einer Probe erzeugtes Beugungsmuster vergrößert wird, um in der CCD-Kamera 114 ein Bild des Beugungsmusters zu erzeugen, und der Tatsache, dass ein durch eine Objektivlinse erzeugtes TEM-Bild vergrößert wird, um in der CCD-Kamera 114 das TEM-Bild zu erzeugen, geschaltet wird.
  • Wenn die Aperturblende 107 einer ausgewählten Fläche in das durch die Objektivlinse erzeugte TEM-Bild eingeführt wird, ist es möglich, nur Elektronen in einem spezifischen Gebiet des TEM-Bilds durchzulassen. Ferner ist es möglich, nur ein Beugungsmuster zu beobachten, das dem spezifischen Gebiet entspricht, wenn eine Beobachtungsbetriebsart durch Ändern eines zu dem Projektionslinsen 110 bis 113 fließenden Stroms zu einer Beugungsmusterbeobachtungs-Betriebsart geschaltet wird. Es ist möglich, aus dem Beugungsmuster eine Atomstruktur des spezifischen Gebiets zu analysieren.
  • Im Folgenden wird ein Verfahren zum Auswählen mehrerer Auswahlbereiche (Teilgebiete) beschrieben. 15 ist ein Beispiel einer GUI, die auf einer Anzeigevorrichtung 123 angezeigt wird. In 15 ist ein Transmissionsbild in dem Bildanzeigegebiet 400 angezeigt und ist ein GUI-Bildschirm 401 unter dem Transmissionsbild angezeigt. Im Folgenden wird Bezug genommen auf 15 und 16, um ein spezifisches Beispiel einer Funktion des automatischen und aufeinanderfolgenden Abbildens von Beugungsmustern, die einzelnen Auswahlbereichen (Teilgebieten) entsprechen, zu beschreiben.
  • • Schritt 1601
  • Falls gewünscht ist, dass ein Beugungsmuster abgebildet wird, das irgendeinem Bereich in einem zu beobachtenden Transmissionsbild entspricht, schaltet ein Betreiber eine Auswahl in einer Betriebsartauswahlspalte 402 des GUI-Bildschirms 401 zu einer TEM-Bild-Beobachtungs-Betriebsart. Eine Hauptsteuervorrichtung 121, die die Auswahl empfangen hat, steuert die Projektionslinsen 110 bis 113 unter Verwendung eines für die TEM-Bild-Beobachtungs-Betriebsart geeigneten Stroms. .Im Ergebnis wird ein TEM-Bild in dem Bildanzeigegebiet 400 angezeigt.
  • • Schritt 1602
  • Der Betreiber wählt irgendeinen Bereich in dem in dem Bildanzeigebereich 400 angezeigten TEM-Bild aus. Zum Beispiel gibt der Betreiber einen Haken in eine Spalte A eines Kontrollkästchens 406 ein, das auf dem GUI-Bildschirm 401 angezeigt wird, klickt er eine Registrierungsschaltfläche 403 an und bestimmt er ferner den beobachteten irgendeinen Bereich A in dem TEM-Bild, falls der Betreiber einen Auswahlbereich A auswählt. Die Bestimmung (Auswahl) des Bereichs wird hier durch Anklicken oder Ziehen einer Zeigevorrichtung ausgeführt.
  • Die Anzahl der auszuwählenden Bereiche ist nicht auf einen beschränkt und kann zwei oder mehr sein. Zum Beispiel gibt der Betreiber einen Haken in eine Spalte B des auf dem GUI-Bildschirm 401 angezeigten Kontrollkästchens 406 ein, klickt er die Registrierungsschaltfläche 403 an und bestimmt er ferner den irgendeinen Auswahlbereich B des Beugungsmusters, falls ferner ein Bereich B ausgewählt werden soll. Die Operation des Betreibers des Bestimmens des Bereichs wird wiederholt ausgeführt, bis die Registrierung eines abzubildenden Bereichs abgeschlossen ist.
  • • Schritt 1603
  • Jedes Mal, wenn ein Bereich bestimmt (ausgewählt wird), wählt die Hauptsteuervorrichtung 121 einen Aperturblendendurchmesser aus, der der Größe des Bereichs entspricht. Der Aperturblendendurchmesser, wie er hier verwendet ist, bedeutet den Durchmesser des Lochs, das die Aperturblende 107 einer ausgewählten Fläche bildet.
  • • Schritt 1604
  • Jedes Mal, wenn ein Bereich ausgewählt (bestimmt) wird, berechnet die Hauptsteuervorrichtung 121 die Koordinaten der Mitte davon und speichert sie die Koordinaten in einem Speicher. Falls die Größe des Bereichs beliebig ist, wird die Größe des Bereichs ebenfalls in dem Speicher gespeichert. Im Folgenden geht die Hauptsteuervorrichtung 121 zu einer Betriebsart über, in der Beugungsmuster, die einem oder mehreren gespeicherten Bereichen entsprechen, der Reihe nach aufgenommen werden. Die Erfassung der Beugungsmuster wird durch das Anklicken des Betreibers einer Beugungsmusterschaltfläche 407 unter Verwendung einer Zeigevorrichtung 180 begonnen.
  • • Schritt 1605
  • Zunächst bewegt die Hauptsteuervorrichtung 121 ein spezifisches Loch (das in Schritt 1603 ausgewählte Loch) der Aperturblende 107 einer ausgewählten Fläche automatisch an die Position der Koordinaten des Bereichs A. Das heißt, die Position der Aperturblende 107 einer ausgewählten Fläche wird so eingestellt, dass der Bereich, von dem es erwünscht ist, seine Struktur zu analysieren, und das spezifische Loch der Aperturblende 107 einer ausgewählten Fläche miteinander in Übereinstimmung sind. Die Bewegung der Aperturblende 107 einer ausgewählten Fläche wird in Übereinstimmung mit einer Positionsbeziehung zwischen der Aperturblende 107 einer ausgewählten Fläche und dem TEM-Bild bestimmt. Währenddessen stehen die Mitte der Aperturblende einer ausgewählten Fläche und die Mitte einer optischen Achse während der Korrektur miteinander in Übereinstimmung. Ein Koordinatensystem eines Kamerabilds, ein Koordinatensystem einer Bilderzeugungsfläche (primären Bildfläche) und ein Koordinatensystem einer Beugungsfläche sind in Übereinstimmung mit der Übereinstimmung zwischen den beiden Mitten zueinander ähnlich, wobei die Koordinatensysteme als ein Koordinatensystem behandelt werden können.
  • • Schritt 1606
  • Wenn eine Abbildungsschaltfläche 405 angeklickt wird, schaltet die Hauptsteuervorrichtung 121 einen Stromwert der Projektionslinse auf eine Beugungsmusterbeobachtungs-Betriebsart, um ein Beugungsmuster A aufzunehmen, das einem Auswahlbereich A entspricht, und zeigt sie das Beugungsmuster in dem Bildanzeigebereich 400 der Anzeigevorrichtung 123 an. Der Betreiber beobachtet das in dem Bildanzeigegebiet 400 angezeigte Beugungsmuster A. Falls die Anzahl der bestimmten Beugungsflecken nur eins ist, wird die Verarbeitung in dem Prozess dieses Schritts abgeschlossen.
  • • Schritt 1607
  • Falls in Schritt 1601 mehrere Auswahlbereiche für die Abbildung eines Beugungsmusters registriert werden, führt die Hauptsteuervorrichtung 121 automatisch einen Prozess des Abbildens eines Beugungsmusters der Reihe nach in Bezug auf die anderen Bereiche aus. Hier wird das spezifische Loch (das in Schritt 1603 ausgewählte Loch) der Aperturblende 107 einer ausgewählten Fläche für die Abbildung des Auswahlbereichs B an die Position der Koordinaten des Auswahlbereichs B bewegt. Zu dieser Zeit kann die Hauptsteuervorrichtung 121 die Beobachtungsbetriebsart in eine TEM-Bild-Beobachtungs-Betriebsart schalten, kann sie aber die Beugungsmusterbeobachtungs-Betriebsart aufrechterhalten, da die Koordinaten des Auswahlbereichs B bereits registriert worden sind.
  • • Schritt 1608
  • Wenn die Abbildungsschaltfläche 405 angeklickt wird, schaltet die Hauptsteuervorrichtung 121 einen Stromwert der Projektionslinse auf eine Beugungsmusterbeobachtungs-Betriebsart, um ein Beugungsmuster B des Auswahlbereichs B aufzunehmen, und zeigt sie die aufgenommenen Beugungsmuster in dem Bildanzeigebereich 400 der Anzeigevorrichtung 123 an. Der Betreiber beobachtet das in dem Bildanzeigegebiet 400 angezeigte Beugungsmuster B. Die Prozesse der Schritte 1607 und 1608 werden an allen registrierten Beugungsflecken wiederholt ausgeführt.
  • Auf diese Weise werden in diesem Beispiel mehrere Auswahlbereiche für ein TEM-Bild im Voraus registriert, so dass es möglich ist, mehrere Beugungsmuster äquivalent den jeweiligen Auswahlbereichen automatisch und aufeinanderfolgend aufzunehmen. Das heißt, es ist nicht notwendig, wie in einem Verfahren des verwandten Gebiets eine Operation des Bestimmens eines Bereichs zum Aufnehmen eines Beugungsmusters in Bezug auf ein TEM-Bild zu wiederholen, wobei das Verfahren dieses Beispiels die Erfassung und Beobachtung eines Beugungsmusters wesentlich effizienter als in dem Verfahren des Standes der Technik machen kann.
  • Außerdem ist es unter Verwendung des aufgenommenen Beugungsmusters möglich, eine Kristallstruktur wie etwa eine Kristallorientierung oder einen Koppelwinkel von Kristallkörnern zu analysieren. Die Analyse davon kann in Bezug auf die aufgenommenen mehreren Beugungsmuster auf einmal ausgeführt werden.
  • Währenddessen kann der Betreiber ebenfalls ein spezifisches Beugungsmuster auswählen und sich zu dem Beugungsmuster bewegen, nachdem die mehreren Beugungsmuster bestimmt worden sind. Der Betreiber kann nicht nur mehrere zu beobachtende Beugungsmuster in einer kurzen Zeitdauer leicht aufnehmen, sondern auch wahlweise ein TEM-Bild beobachten, das irgendeinem Bereich entspricht, indem Koordinaten, die den aufgenommenen Beugungsmustern entsprechen, in einem Speicher gehalten werden.
  • Außerdem sind die Koordinaten der Beugungsmuster mit einem Probentisch 105 verknüpft, so dass es ebenfalls möglich ist, die aufgenommenen Beugungsmuster und die Koordinaten davon in Bezug auf eine Probenposition, an der das Beugungsmuster aufgenommen worden ist, zu speichern.
  • Indessen ist angenommen worden, dass die Aperturblende 107 einer ausgewählten Fläche in diesem Beispiel denselben Antriebsmechanismus wie den in 6 gezeigten Objektivaperturblenden-Antriebsmechanismus enthält. Zum Beispiel ist sowohl für die X-Achsen-Richtung als auch für die Y-Achsen-Richtung eine lineare Skale angeordnet, um einen realen Betrag der Bewegung in der Nähe der Aperturblende zu messen, wobei ein Messergebnis an eine Motorsteuereinheit rückgemeldet wird, wodurch es möglich ist, die Genauigkeit der Messung zu erhöhen.
  • Außerdem wird hinsichtlich des Antriebsmechanismus der Aperturblende 107 einer ausgewählten Fläche eine Positionsbeziehung in Übereinstimmung mit derselben Prozedur wie bei dem Objektivaperturblenden-Antriebsmechanismus zuvor korrigiert. Zum Beispiel ist es möglich, die Anzahl der für jede Bewegung erforderlichen Pulse zu berechnen, wenn die Anzahl der Pulse, die im Fall der Bewegung zwischen zwei Einstellungsbereichen (wobei es bevorzugt ist, dass ein Einstellungsbereich in der Nähe der Mitte eines Anzeigebildschirms eingestellt wird) erforderlich sind, die auf dem Anzeigebildschirm bestimmt werden, gezählt wird.
  • [Andere Beispiele]
  • Indessen ist die Erfindung nicht auf die oben beschriebenen Beispiele beschränkt und enthält sie verschiedene Änderungsbeispiele. Zum Beispiel sind die oben beschriebenen Beispiele ausführlich beschrieben worden, um das Verständnis der Erfindung zu erleichtern, und nicht notwendig auf Beispiele beschränkt, die alle beschriebenen Konfigurationen enthalten. Außerdem kann ein Teil einer Konfiguration eines bestimmten Beispiels ebenfalls durch eine Konfiguration eines anderen Beispiels ersetzt werden und kann eine Konfiguration eines anderen Beispiels ebenfalls zu einer Konfiguration eines bestimmten Beispiels hinzugefügt werden. Außerdem können an einem Teil der Konfigurationen der jeweiligen Beispiele die Hinzufügung, die Hinwegnahme oder der Ersatz anderer Konfigurationen erfolgen.
  • Bezugszeichenliste
  • 100
    HAUPTSÄULE
    101
    ELEKTRONENKANONE (QUELLE GELADENER TEILCHEN)
    102
    KONDENSORLINSE 1
    103
    KONDENSORLINSE 2
    104
    KONDENSORLINSE 3
    105
    PROBENTISCH
    106
    OBJEKTIVAPERTURBLENDE
    107
    APERTURBLENDE EINER AUSGEWÄHLTEN FLÄCHE
    110
    PROJEKTIONSLINSE 1
    111
    PROJEKTIONSLINSE 2
    112
    PROJEKTIONSLINSE 3
    113
    PROJEKTIONSLINSE 4
    114
    CCD-KAMERA
    120
    APERTURBLENDEN-STEUERSUBSTRAT
    121
    HAUPTSTEUERVORRICHTUNG
    122
    ELEKTRONENLINSEN-STEUERSUBSTRAT
    123
    ANZEIGEVORRICHTUNG
    124
    EINGABEVORRICHTUNG
    130
    IM WESENTLICHER PARALLELER ELEKTRONENSTRAHL
    131
    PROBE
    132
    PROJEKTORLINSE 1
    133
    PROJEKTORLINSE 2
    134
    OBJEKTIVLINSE
    150
    APERTURBLENDENPLATTE
    180
    ZEIGEVORRICHTUNG
    201
    BEUGUNGSFLECK
    202
    TRANSMISSIONSFLECK
    300
    X-ACHSEN-MOTOR
    301
    Y-ACHSEN-MOTOR
    302
    X-ACHSEN-ZAHNRAD
    303
    Y-ACHSEN-ZAHNRAD
    304
    X-ACHSEN-VORSCHUBSPINDELTEIL
    305
    Y-ACHSEN-VORSCHUBSPINDELTEIL
    306
    BEWEGLICHE ACHSE
    307
    LINEARE SKALE
    308
    X-ACHSEN-SKALE
    309
    Y-ACHSEN-SKALE
    310
    APERTURBLENDENPLATTE
    311
    Hauptsäule

Claims (2)

  1. Vorrichtung mit einem Strahl geladener Teilchen, die umfasst: eine Kondensoreinheit (102-104), die eine Probe mit einem Strahl geladener Teilchen bestrahlt; eine Projektionseinheit (110-113), die ein Bild der Probe erzeugt; eine Aperturblende (106, 107), die innerhalb der Projektionseinheit (110-113) angeordnet ist und in der mehrere Öffnungen (151-154) mit unterschiedlichen Größen zum Durchlassen eines Elektronenstrahls von der Probe gebildet sind; eine Hauptsteuervorrichtung (121), die eine Position der Aperturblende (106, 107) ändert; eine Detektionseinheit (114), die ein durch die Projektionseinheit (110-113) erzeugtes Bild erhält; eine Messeinheit, die eine Bewegungsstrecke der Aperturblende (106, 107) misst; eine Anzeigeeinheit (123), die das durch die Detektionseinheit (114) erhaltene Bild anzeigt; und eine Auswahleinheit (401), die einen vorgegebenen Teil aus dem angezeigten Bild auswählt, wobei die Hauptsteuervorrichtung (121) die Aperturblende (106, 107) von einer Positionsbeziehung zwischen der Aperturblende (106, 107) und dem Bild in Übereinstimmung mit einer Position des ausgewählten vorgegebenen Teils bewegt, und wenn das Bild ein Elektronenstrahl-Beugungsbild ist: die Auswahleinheit (401) ausgebildet ist, einem Betreiber die Auswahl eines Beugungsflecks in dem angezeigten Elektronenstrahl-Beugungsbild zu ermöglichen; die Hauptsteuervorrichtung (121) eingerichtet ist, eine Öffnung (151) der Aperturblende (106, 107) auszuwählen, die einen Durchmesser aufweist, der für die Beobachtung des ausgewählten Beugungsflecks geeignet ist; die Hauptsteuervorrichtung (121) eingerichtet ist, die ausgewählte Öffnung (151) an eine Position des ausgewählten Beugungsflecks zu bewegen; die Aperturblende (106, 107) eine Objektivaperturblende (106) ist, die in eine Beugungsfläche innerhalb der Projektionseinheit (110-113) eingeführt werden kann; und die Hauptsteuervorrichtung (121) eingerichtet ist, ein Transmissionsbild des ausgewählten Beugungsflecks aufzunehmen und auf der Anzeigeeinheit (123) anzuzeigen; oder wenn das Bild ein Transmissionsbild der Probe ist: die Auswahleinheit (401) ausgebildet ist, einem Betreiber die Auswahl eines Teilbereichs in dem angezeigten Transmissionsbild zu ermöglichen; die Hauptsteuervorrichtung (121) eingerichtet ist, eine Öffnung (151) der Aperturblende (106, 107) auszuwählen, die einen Durchmesser aufweist, der einer Größe des ausgewählten Teilbereichs entspricht; die Hauptsteuervorrichtung (121) eingerichtet ist, die ausgewählte Öffnung (151) an eine Position des ausgewählten Teilbereichs zu bewegen; die Aperturblende (106, 107) eine Aperturblende (107) einer ausgewählten Fläche ist, die in eine primäre Bildfläche innerhalb der Projektionseinheit (110-113) eingeführt werden kann; und die Hauptsteuervorrichtung (121) eingerichtet ist, ein dem ausgewählten Teilbereich entsprechendes Beugungsmuster aufzunehmen und auf der Anzeigeeinheit (123) anzuzeigen; und wobei das Bild ein Elektronenstrahl-Beugungsbild oder ein Transmissionsbild der Probe ist, wobei die Aperturblende (106, 107) eine Objektivaperturblende, die in eine Beugungsfläche innerhalb der Projektionseinheit (110-113) eingeführt werden kann, und eine Aperturblende einer ausgewählten Fläche, die in eine primäre Bildfläche innerhalb der Projektionseinheit (110-113) eingeführt werden kann, ist, und wobei die Hauptsteuervorrichtung (121) die Position der Aperturblende (106, 107) durch Rückmelden eines Messergebnisses der Messeinheit ändert.
  2. Probenbeobachtungsverfahren unter Verwendung einer Vorrichtung mit einem Strahl geladener Teilchen, die eine Kondensoreinheit (102-104), die eine Probe mit einem geladenen Strahl geladener Teilchen bestrahlt, eine Projektionseinheit (110-113), die ein Bild der Probe erzeugt, eine Aperturblende (106, 107), die innerhalb der Projektionseinheit (110-113) angeordnet ist und in der mehrere Öffnungen (151-154) mit unterschiedlichen Größen zum Durchlassen eines Elektronenstrahls von der Probe gebildet sind, eine Hauptsteuervorrichtung (121), die eine Position der Aperturblende (106, 107) ändert, eine Detektionseinheit (114), die ein durch die Projektionseinheit (110-113) erzeugtes Bild erhält, eine Anzeigeeinheit (123), die das durch die Detektionseinheit (114) erhaltene Bild anzeigt, und eine Auswahleinheit (401), die einen vorgegebenen Teil aus dem angezeigten Bild auswählt, enthält, wobei das Verfahren umfasst: einen Prozess zum Empfangen einer Auswahl des vorgegebenen Teils aus dem auf der Anzeigeeinheit (123) angezeigten Bild durch die Auswahleinheit (401); und einen Prozess des Veranlassens, dass die Hauptsteuervorrichtung (121) die Aperturblende (106, 107) aus einer Positionsbeziehung zwischen der Aperturblende (106,107) und dem Bild in Übereinstimmung mit einer Position des ausgewählten vorgegebenen Teils bewegt, und wenn das Bild ein Elektronenstrahl-Beugungsbild ist, umfasst das Verfahren: Ermitteln einer Auswahl eines Beugungsflecks in dem angezeigten Elektronenstrahl-Beugungsbild; Auswählen einer Öffnung (151) der Aperturblende (106, 107), die einen Durchmesser aufweist, der für die Beobachtung des ausgewählten Beugungsflecks geeignet ist; Bewegen der ausgewählten Öffnung (151) an eine Position des ausgewählten Beugungsflecks; wobei die Aperturblende (106, 107) eine Objektivaperturblende (106) ist, die in eine Beugungsfläche innerhalb der Projektionseinheit (110-113) eingeführt werden kann; und wobei die Hauptsteuervorrichtung (121) eingerichtet ist; Aufnehmen eines Transmissionsbildes des ausgewählten Beugungsflecks und Anzeigen des Transmissionsbildes auf der Anzeigeeinheit (123); oder wenn das Bild ein Transmissionsbild der Probe ist, umfasst das Verfahren: Ermitteln einer Auswahl eines Teilbereichs in dem angezeigten Transmissionsbild; Auswählen einer Öffnung (151) der Aperturblende (106, 107), die einen Durchmesser aufweist, der einer Größe des ausgewählten Teilbereichs entspricht; Bewegen der ausgewählten Öffnung (151) an eine Position des ausgewählten Teilbereichs; wobei die Aperturblende (106, 107) eine Aperturblende (107) einer ausgewählten Fläche ist, die in eine primäre Bildfläche innerhalb der Projektionseinheit (110-113) eingeführt werden kann; Aufnehmen eines dem ausgewählten Teilbereich entsprechenden Beugungsmuster und Anzeigen des Beugungsmusters auf der Anzeigeeinheit (123), wobei das Bild ein Elektronenstrahl-Beugungsbild oder ein Transmissionsbild der Probe ist, und wobei die Aperturblende (106, 107) eine Objektivaperturblende, die in eine Beugungsfläche innerhalb der Projektionseinheit (110-113) eingeführt werden kann, und eine Aperturblende (106, 107) einer ausgewählten Fläche, die in eine primäre Bildfläche innerhalb der Projektionseinheit (110-113) eingeführt werden kann, ist, und wobei die Hauptsteuervorrichtung (121) eine Position der Aperturblende (106, 107) durch Rückmelden eines Messergebnisses einer Messeinheit, die eine Bewegungsstrecke der Aperturblende (106, 107) misst, ändert.
DE112015006453.2T 2015-04-14 2015-04-14 Vorrichtung mit einem Strahl geladener Teilchen und Probenbeobachtungsverfahren Active DE112015006453B4 (de)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2015/061407 WO2016166805A1 (ja) 2015-04-14 2015-04-14 荷電粒子線装置及び試料観察方法

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE112018007105T5 (de) * 2018-03-29 2021-02-25 Hitachi High-Tech Corporation Ladungsteilchenstrahlvorrichtung
WO2019186976A1 (ja) * 2018-03-29 2019-10-03 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置
JP7208212B2 (ja) 2020-11-30 2023-01-18 日本電子株式会社 透過電子顕微鏡および光学系の調整方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5304801A (en) 1991-11-14 1994-04-19 Jeol Ltd. Electron microscope
DE69412710T2 (de) 1993-06-21 1999-05-06 Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo Elektronenmikroskop zur Analyse der Zusammensetzung und der Beanspruchung einer Probe und Beobachtungsverfahren
US20090045337A1 (en) 2007-08-14 2009-02-19 Jeol Ltd. Charged-Particle Beam Instrument
JP2009110788A (ja) 2007-10-30 2009-05-21 Jeol Ltd 透過形電子顕微鏡及びその動作方法
US20130299696A1 (en) 2011-11-02 2013-11-14 Jeol Ltd. Transmission Electron Microscope and Method of Observing TEM Images

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3148353B2 (ja) * 1991-05-30 2001-03-19 ケーエルエー・インストルメンツ・コーポレーション 電子ビーム検査方法とそのシステム
JPH04366539A (ja) * 1991-06-14 1992-12-18 Jeol Ltd 電子顕微鏡の対物絞り駆動装置
JP2001077002A (ja) * 1999-09-02 2001-03-23 Nikon Corp 荷電粒子ビーム露光方法、荷電粒子ビーム露光装置及び半導体デバイス製造方法
US7138629B2 (en) * 2003-04-22 2006-11-21 Ebara Corporation Testing apparatus using charged particles and device manufacturing method using the testing apparatus
JP2007122998A (ja) * 2005-10-27 2007-05-17 Jeol Ltd 荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビーム装置におけるビーム絞り位置調整方法
JP2007179753A (ja) * 2005-12-27 2007-07-12 Hitachi High-Technologies Corp 走査透過電子顕微鏡、及び収差測定方法
US9123502B2 (en) * 2009-05-20 2015-09-01 Carl Zeiss Microscopy, Llc Scan method
CA2835713C (en) * 2011-05-13 2023-04-04 Fibics Incorporated Microscopy imaging method and system

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5304801A (en) 1991-11-14 1994-04-19 Jeol Ltd. Electron microscope
DE69412710T2 (de) 1993-06-21 1999-05-06 Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo Elektronenmikroskop zur Analyse der Zusammensetzung und der Beanspruchung einer Probe und Beobachtungsverfahren
US20090045337A1 (en) 2007-08-14 2009-02-19 Jeol Ltd. Charged-Particle Beam Instrument
JP2009110788A (ja) 2007-10-30 2009-05-21 Jeol Ltd 透過形電子顕微鏡及びその動作方法
US20130299696A1 (en) 2011-11-02 2013-11-14 Jeol Ltd. Transmission Electron Microscope and Method of Observing TEM Images

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
L. Reimer, Transmission electron microscopy: physics of image formation and microanalysis. Vol. 36. Springer, 1989.

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Publication number Publication date
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